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Fターム[4G072BB02]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 形状、構造 (3,484) | 板状 (114)

Fターム[4G072BB02]に分類される特許

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【課題】界面活性剤の除去工程を省いて、細孔表面が有機化合物で覆われた多孔質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤を使用し、シリカ源として安価なアルカリ珪酸塩を用いた強酸性反応系において、金属元素の種類と添加方法を制御することにより、特に高次規則構造の形成を60℃以上の温度で熟成し、反応生成固体を乾燥することにより、細孔表面が界面活性剤もしくはこれに由来する有機基または有機分子に覆われた、薄板状あるいは繊維状の有機無機多孔質シリカとする。 (もっと読む)


シリコンまたは他の結晶性物質のリボンを作るための装置および製造方法。この装置は、底部(2)および側壁(3)を有したるつぼ(1)を備える。このるつぼ(1)は、側壁(3)の底部に水平に配置された少なくとも一つの横方向スリット(4)を有している。横方向スリット(4)は、50mmより大きく、好ましくは100mm〜500mmの幅を具備する。スリット(4)の高さ(H)は、50〜1000マイクロメートルである。結晶性物質は、横方向スリット(4)を介してるつぼから取り出されて結晶リボン(R)を形成する。この方法は、横方向スリット(4)から取り出される材料に種結晶(13)を接触させる段階、およびリボン(R)を水平移動させる段階(14)を含む。
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【課題】 一方向凝固シリコンを用いた機能性構造物素子、機能性構造物素子の製造方法及び機能性構造物製造用基板を提供する。
【解決手段】 まず、図1(a)に示すように、一方向凝固シリコンからなる基板12を用意する。次に、図1(b)に示すように、基板12上に、機能性材料の構造物(機能性膜)14を形成して、機能性構造物素子10を製造する。図1(b)において、機能性膜14を形成する方法としては、スパッタ法、CVD法、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション(AD)法等がある。なお、基板12と機能性膜14の間に、バッファ層を設けてもよい。 (もっと読む)


【課題】含有される金属の量が低減されたシリコンインゴットの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコンインゴットの製造方法は、半導体を機械加工することにより発生する半導体屑12を含む固体粒子が混入された排水11をタンク10に貯留し、タンク10に酸性を示す物質を混入して、半導体屑12の表面に付着した金属イオン13を、半導体屑12から分離させ、金属イオン13を含む排水11と半導体屑12とを固液分離する。その後にタンク10に残留した半導体屑12を回収して溶融することで、金属を殆ど含まないインゴットが得られる。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの平板状シリカ微粒子をコアとし含フッ素モノマーに由来する単位を含有する含フッ素ポリマーをシェルとするコア/シェル状複合粒子、その製造方法およびその用途の提供。
【解決手段】表面が含フッ素モノマーに由来する単位を含有する含フッ素ポリマーで被覆されたナノサイズの平板状シリカ微粒子からなり、かつ該平板状シリカ微粒子の割合が1〜70質量%である複合微粒子。平板状シリカ微粒子が界面活性剤の存在下に水性媒体中に分散している重合系中で含フッ素モノマーをラジカル重合することによる該複合微粒子の製法。および、該複合微粒子を含む成形材料。 (もっと読む)


【課題】 カオリンに特有の板状形状を有しており、且つ吸湿性が著しく抑制されており、樹脂やエラストマーなどの重合体用配合剤或いは塗料用配合剤として好適な非晶質板状シリカを提供する。
【解決手段】 カオリンを600乃至900℃で焼成し、得られた焼成カオリンを酸処理して脱アルミニウムを行い、さらに600乃至1200℃で焼成を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 冷却体表面に凝固析出して生成される析出板の自壊による破片を適正処理し、析出板の生産に対して悪影響を及ぼすことを防止できる析出板製造装置および析出板製造方法を提供する。
【解決手段】 溶解炉24でシリコンを加熱して溶湯23にし、析出板生成の原板である冷却体25を、浸漬手段27によって溶湯中へ浸漬し溶湯中から引上げてシリコンを冷却体の表面に凝固析出させてシート状シリコン48を製造する。このシート状シリコンの製造に際し、冷却体25が溶湯上方位置から離反する方向へ搬送される搬送経路途中に設けられるバケット27が、冷却体から離脱して落下するシート状シリコンを受容する。バケットに受容された落下物は、落下物移動手段28によって、バケット内で収容容積が大きい方へ移動され、また必要に応じて落下物再投入手段29によって溶解炉内へ投入される。 (もっと読む)


【課題】 基体上に成長させた固相シートの基体からの落下を防止して固相シートの回収率を向上させることによりコストを低減することが可能な固相シート製造方法および固相シート製造装置を提供する。
【解決手段】 基体上に金属材料および/または半導体材料を含有する原料からなる固相シートを成長させる固相シートの製造方法であって、固体シートの成長面を有する基体の該成長面に該原料の融液を接触させ、該成長面上の一部または全部に該原料の固相領域を形成する浸漬工程と、浸漬工程と同時にまたは該浸漬工程の後に、成長面上の原料と基体との間に電気的な力を付与することによって該原料を該基体に吸着する吸着工程と、成長面上の原料が固相シートを形成した後に基体を融液から引き上げ、基体への固相シートの吸着を開放して該固相シートを回収する回収工程とを含む固相シート製造方法に関する。 (もっと読む)


一局面において、本発明は、相変化材料を含有する粒子に混合された断熱エアロゲル材料を含有する粒子と、混合された粒子を保持するマトリックスを形成するバインダとを含む素地を提供する。別の局面において、本発明は断熱体を形成する方法を提供し、第1の流体および第2の流体を基板上に塗布するステップを備え、第1の流体はバインダを含み、第2の流体はエアロゲル材料を含有する粒子を含み、相変化材料を同時に基板上に塗布する。
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本発明は、アモルファス状態の成形品である巻きリボンから得られて、原子組成[Fe1−a−bCoNi100−x−y−z−α−β−γCuSiNbαM’βM”γ(式中、M’は元素V、Cr、Al、およびZnのうちの少なくとも1つであり、M”は元素C、Ge、P、Ga、Sb、In、およびBeのうちの少なくとも1つであり、a≦0.07およびb≦0.1、0.5≦x≦1.5および2≦α≦5、10≦y≦16.9および5≦z≦8、β≦2およびγ≦2である)を有するナノ結晶材料のストリップを作製する方法、および特にこれまで知られているよりもはるかに小さい巻き付け半径を伴った、先行技術のものよりも小型の磁気回路幾何学構造のために取り扱いおよび使用されることが可能なナノ結晶製品を提供することである。 (もっと読む)


【課題】吸着性能が優れ、しかも使用後の固液分離工程において濾材の目詰りを生じることのない、吸着材として好適な薄板状シリカ多孔体を安定した品質で、かつ効率よく提供する。
【解決手段】平均粒子径10μm以下のケイ酸原料粉末と石灰原料粉末とを、それぞれSiO2及びCaOに換算したときのモル比CaO/SiO2が1.0〜4.0になる割合で混合し、水又は水酸化アルカリ水溶液の中で水熱反応を行わせて、薄板状ケイ酸カルシウム含有スラリーを調製したのち、これに酸性物質を導入し、この中の酸化カルシウムを溶解除去し、薄板状シリカ多孔体を形成させるに当り、上記水熱反応を薄板状ケイ酸カルシウム種結晶の存在下で行う。 (もっと読む)


【課題】 生体組織に対して良好な親和性を有し、吸着性能、分離性能が優れ、しかも使用後の固液分離工程において濾材として目詰りを生じることのない吸着材、あるいは生体組織との親和性を必要とする化粧料基材として好適な新規なシリカ多孔体材料を提供する。
【解決手段】 長さ0.3〜50μm、幅0.1〜20μm、厚さ0.05〜1.5μm、長さと厚さのアスペクト比5〜300、平均細孔径1〜30nm、全細孔体積0.1〜1.5ml/g、BET比表面積50〜800m2/gを有し、かつX線回折スペクトルにおいて、ヒドロキシアパタイト固有の26°付近及び32°付近に2θのピークが存在するヒドロキシアパタイト被覆シリカ多孔体とする。 (もっと読む)


【課題】2相以上のガラス相を含有するガラスセラミック焼結体およびその製造方法、並びにかかるガラスセラミック焼結体を用いた配線基板を提供する。
【解決手段】ガラス相α1、α2と結晶相βとを有するガラスセラミック焼結体において、前記ガラス相が組成の異なる2相以上のガラス相からなるとともに、前記ガラス相が、1価の金属元素、2価の金属元素、および3価の金属元素のうち少なくとも1種からなる軟化成分を酸化物換算した合量で1質量%以上含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 より高いキャリア拡散長を有する結晶質シリコン基板、その製造方法およびこれを用いた光電変換素子を提供すること
【解決手段】 シリコンと水素との結合モードが最適化され、かつシリコン内部の水素密度プロファイルが最適化されていることを特徴とする結晶質シリコン基板であって、該基板を加熱した際に生じる脱離水素を測定する昇温脱離ガス分析よって測定した、温度に対する脱離水素速度の関係を表すスペクトルにおいて、前記基板温度が600℃以上の範囲に脱離水素速度のピークを有し、さらに、前記基板温度が700℃以上の範囲の脱離水素速度のピーク最大値は、600℃以上700℃未満の範囲内の脱離水素速度のピーク最大値より大きい。 (もっと読む)


【課題】 凝固点近傍の低い温度に制御した原料融液に基板を浸漬し、基板上に薄板状の結晶を成長させる板状結晶の製造方法において、角型ルツボなどにおける溶融原料の水平方向における温度分布を均一化するための製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 本発明の板状結晶の製造装置は、原料をルツボ内で加熱溶融し、基板上で原料の結晶を凝固成長させる板状結晶の製造装置であって、ルツボの開口部における辺部縁上に複数の可動式断熱手段を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 装置の製造費等のコストが抑制される薄板製造装置および薄板製造方法を提供する。
【解決手段】 薄板製造装置1Aは、坩堝3A内のシリコン融液4Aに下地板Sを浸し、下地板Sの主表面上にシリコン融液4Aを凝固させて薄板を製造する薄板製造装置であり、下地板Sの主表面をシリコン融液4Aに浸す浸漬機構5Aは、下地板Sを上下方向に昇降させる昇降機構14Aと、下地板Sを水平方向軸まわりに回転させる回転機構16Aとを有し、浸漬機構5Aの動作中に、昇降機構14Aによる昇降運動および回転機構16Aによる回転運動のみが組合わされて下地板Sが運動している。 (もっと読む)


【課題】 原料投入による結晶成長の中断が無くて、結晶シートの製造効率を効果的に向上できる結晶シートの製造装置を提供すること。
【解決手段】 ヒータ15で周囲が囲まれた外側ルツボ3の内側に、円筒形状の内側ルツボ4を備え、ヒータ15で加熱されて溶融したシリコン材料を、内側ルツボ4の下端の開口を介して、外側ルツボ3内から内側ルツボ4内に供給する。複数の基板8を支持する基板支持部6が、回転機構12で回転駆動されて、基板8を内側ルツボ4内の溶融シリコン中に順次浸漬する。内側ルツボ4内の溶融シリコンの液面が限界高さに低下すると、固体のシリコン原料を、原料投入器5及び原料投入管を介して、外側ルツボ3と内側ルツボ4との間に供給する。外側ルツボ3を外側ルツボ用回転昇降機構10によって鉛直軸周りに回転駆動して、溶融シリコンを攪拌することにより、固体シリコン原料を溶融シリコン中に迅速に混入させて溶解させる。 (もっと読む)


【課題】 少ない部品点数で、溶湯に対する浸漬時においても下地基板を落下することなく、かつ下地基板の着脱が容易な下地基板保持装置を提供する。
【解決手段】 下地基板保持装置30は、下地基板31を保持するための保持固定部32と保持可動部33とを有し、保持可動部33と保持固定部32との間に設けられる弾性部材34が弾性変形することによって、保持可動部33と保持固定部32とがその相対位置を変化させ、該相対位置の変化を利用して保持可動部33と保持固定部32とで下地基板31を保持し、また保持を解除する。 (もっと読む)


【課題】簡単且つ低コストで大きな結晶粒径を持つ多結晶シリコンインゴットを得ることができる多結晶シリコンの鋳造方法を提供し、この方法を用いて良好な特性を有する多結晶シリコンインゴット、多結晶シリコン基板、並びに太陽電池素子を得る。
【解決手段】底部を有する鋳型3の内部に保持したシリコン融液を上方に向けて一方向凝固させる多結晶シリコンの鋳造方法であって、鋳型3の底部11の内表面は、1420℃〜1600℃の温度域におけるシリコン融液との接触角が40°未満である第一領域8と、前記接触角が40°以上である第二領域9とから成り、第一領域8の面積をA、第二領域9の面積をBとしたときに、次式が成り立つようにした。0.1≦A/(A+B)≦0.75 (もっと読む)


【課題】 半導体材料の融液の湯面における湧出し位置が、基板の浸漬方向に対して直交する方向で対称の位置になるように、また湯面の盛上がり高さが0になるように調整して薄板の板厚分布を均一にする。
【解決手段】 坩堝22内に収容される半導体材料の融液21に基板25を浸漬し引上げて薄板を生成する薄板生成装置20は、坩堝22に対するコイル23の相対位置を修正するコイル設定位置修正手段28と、融液21の湧出し位置29を検出する湧出位置検出手段30と、融液21の湯面21aの盛上がり高さを調整する湯面高さ調整手段31とを備え、制御手段32によって、湧出し位置29の検出結果に応じて、基板25の浸漬位置と湧出し位置29との配置が好適になるようにコイル23の設定位置を修正するとともに、湯面21の盛り上がり高さを調整する。 (もっと読む)


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