第１多孔性領域および第１多孔性領域と異なる第２多孔性領域を含む粒子を提供する。ウェットエッチングされた多孔性領域を有し、それがウェットエッチングと関係する核形成層を有する粒子も提供する。多孔性粒子を作る方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】一酸化珪素固体をムラ無く均一に析出させ、高い生産性を有する、一酸化珪素蒸着材料の製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化珪素粒と溶融した金属シリコンからなる混合物を準備する工程；前記混合物中の二酸化珪素粒と溶融金属シリコンを反応させて一酸化珪素の気体を発生させる工程；前記一酸化珪素気体から一酸化珪素固体を析出板に析出させる工程、を含む一酸化珪素の製造方法であって、
（Ａ）前記混合物の上部に設けられた析出板に一酸化珪素を連続して析出させながら、析出板上の析出厚みを計測する工程、ならびに
（Ｂ）前記析出板上の一酸化珪素の析出厚みが５ｍｍになるまで、一酸化珪素を、析出速度０．１〜５ｋｇ／ｍ^２・ｈｒで析出させる工程、
を含む方法で、一酸化珪素蒸着材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】温度変化が激しい環境下においても、また、高い相対湿度が長期間継続する環境においても、良好で即効性のある吸放湿性能を発揮することができ、調湿板に振動や衝撃が加わっても、調湿板が脱落したり、調湿板に欠けや割れが生じるのを抑制することができる電気・電子機器収納ボックス内への調湿板の固定方法を提供する。
【解決手段】電気・電子機器収納ボックス内に、無機質多孔質材料からなる調湿板１を固定する方法であって、調湿板１が、第１の主面１ａと、第２の主面１ｂとを有し、調湿板１の第１の主面１ａとボックスの内面との間に隙間を形成するように、調湿板１をボックスの内面に固定する固定部材２を用いて、調湿板１を第１の主面１ａ側から、ボックスの内面に固定する、電気・電子機器収納ボックス内への調湿板１の固定方法。 （もっと読む）

不純物を有する材料から形成される結晶を生成するシステムは、材料を収容するるつぼを有している。るつぼは、とりわけ、結晶を形成する結晶領域、材料を受容する導入領域、および、材料の一部分を除去する除去領域を有している。るつぼは、導入領域から除去領域へ向かうほぼ一方向の（液状である）材料の流れを生成するように構成されている。このほぼ一方向の流れは、除去領域が導入領域よりも高い濃度の不純物を有するという結果をもたらす。
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【課題】薄板の単位時間当たりの製造量を維持し、不活性ガスの使用量の削減と、真空排気系および搬送系の簡素化を実現できる薄板製造装置および薄板製造方法を提供する。
【解決手段】薄板製造装置１０００は、浸漬機構１１００と、下地板交換機構１００３と、薄板分離機構１２００と、主室１０１０とを備えている。浸漬機構１１００は、融液１００２に下地板Ｓの表面を浸漬し、下地板Ｓの表面に融液１００２が凝固することにより薄板Ｐを形成する。下地板交換機構１００３は、表面上に薄板Ｐが付着された下地板Ｓを浸漬機構１１００から取り外す。薄板分離機構１２００は、薄板Ｐを浸漬機構１１００から取り外された下地板Ｓから分離する。主室１０１０は、浸漬機構１１００と下地板交換機構１００３と薄板分離機構１２００とが内部に配置されている。 （もっと読む）

【課題】品質の安定化により製造効率を大きく高めることができ、単位面積当りの製造コストを画期的に低下させることができる、薄板製造方法および薄板製造装置を提供する。
【解決手段】下地板Ｓを融液１００７の液面に浸漬させた後、引上げることで、下地板Ｓの表面に融液を凝固させて形成された薄板Ｐを下地板Ｓから取外し薄板Ｐを製造する薄板製造方法において、形成された薄板Ｐの板厚を特定可能なデータを測定し、測定した板厚に基いて融液１００７を加熱する加熱機構１００５の出力を制御することで、作製される薄板Ｐの板厚を一定に保つ温度に融液１００７の温度を制御し、薄板Ｐの品質を安定させる。 （もっと読む）

【課題】ポリマー電解質に添加する場合においてポリマー電解質との密着性が高く、焼結によって固体電解質を作製する場合においても、充填率が高くなり、焼成後も緻密となるリチウムイオン伝導性の無機粉体とその製造方法を提供する。
高出力・高容量のリチウム二次電池、およびリチウム一次電池を提供することを課題とする。
【解決手段】個々の粒子投影像の面積とそれぞれ同じ面積の円の周長をｌ、粒子投影像の周長をＬとしてｌ／Ｌを円形度とした場合に、円形度が０．８以上の粒子が７５％以上であることを特徴としたリチウムイオン伝導性無機粒子。
平均粒径５μｍ以下の一次粒子に溶媒を加えてスラリーとする工程と、前記スラリーを造粒し二次粒子を得る工程と、前記二次粒子を熱処理する工程とを含み、熱処理後の二次粒子の平均粒径が３０μｍ以下のリチウムイオン伝導性の無機物球状粒子を得ることを特徴としたリチウムイオン伝導性無機粒子の製造方法。 （もっと読む）

石英ガラスの製造のための公知のＳｉＯ_２スラリーは、分散液および最大５００μｍまでの粒度を有する非晶質ＳｉＯ_２粒子、その際、１μｍから６０μｍまでの範囲内の粒度を有するＳｉＯ_２粒子が最も大きい体積割合となる、ならびにそれ以外に０．２質量％から１５質量％までの範囲内で（全体の固体含有率に対して）１００ｎｍ未満の粒度を有するＳｉＯ_２ナノ粒子を含有する。これから出発して、スラリーの流動挙動が、スラリー材料の排出または注出による処理に鑑みて最適化されているスラリーを準備するために、本発明により、ＳｉＯ_２粒子が、１μｍ〜３μｍの範囲内の大きさ分布の第一の最大値と、５μｍ〜５０μｍの範囲内の第二の最大値とを有するマルチモーダルな粒度分布を有し、かつ固体含有率（ＳｉＯ_２粒子およびＳｉＯ_２ナノ粒子を合わせた質量割合）が８３％から９０％までの範囲内にあることが提案される。
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液体供給材料、例えばシリコンのメルトプールから連続的に結晶リボンを製造する装置及び方法。シリコンは、溶融され且つ成長トレイ内へ流されて液体シリコンのメルトプールを提供する。当該メルトプールからチムニーを介して上方へ熱を流れさせることによって、熱が受動的に除去される。熱の損失をチムニーを介して生じさせながら、シリコンを液体相に保つために、成長トレイに熱が同時に適用される。熱がチムニーを介して失われるときに、シリコンが“凍結”（すなわち、凝固）し始め且つテンプレートに付着するように、テンプレートがメルトプールと接触せしめられる。当該テンプレートは、次いで、メルトプールから引き出されて結晶シリコンの連続するリボンが製造される。 （もっと読む）

本発明は、ジーメンス法からのポリシリコンを、細断工具およびスクリーン装置を含む装置により細断し、分級し、こうして得られたポリシリコン断片を清浄化浴により清浄化することにより、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法であって、
細断工具およびスクリーン装置が、引続き意図的に清浄化浴によって除去されるような異質粒子でポリシリコン断片だけを汚染する材料からなる、ポリシリコンと接触する表面を例外なく有することを特徴とする、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法に関する。
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【課題】坩堝に収容した溶湯に基板を接触させて金属材料および半導体材料のうち少なくとも一方を含む材料の薄板を製造する方法において、溶湯の液揺れにより溶湯が坩堝の外部に溢れ出し、坩堝上部の断熱材に溶湯が染み込む事態を回避し、断熱材の断熱性を均一に保つことができる薄板製造装置および同装置用の坩堝を提供する。
【解決手段】防波堤構造１０６を有する坩堝１０１と、坩堝１０１の側壁上面の外周側であって坩堝１０１の側壁上面の内周側より低い位置に設置した断熱材１０５と、基板搬送手段１２０とを備えた薄板製造装置１００において、防波堤構造１０６は、坩堝１０１の側壁上面の内周側にあり、防波堤構造１０６の上端が、断熱材１０６の上端より高い位置にある。 （もっと読む）

【課題】シリカまたは他のケイ素酸化物を含有する表面をシラン化するために使用される、加水分解に対する十分な安定性を有するシラン化組成物を提供すること。
【解決手段】シラン化組成物であって、このシラン化組成物は、２種以上のシラン化試薬の混合物を含み、ここで少なくとも１種のシラン化試薬は、ポリマー合成を支持し得る官能基を含み（例えば、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトシキシラン）、少なくとも１種のシラン化試薬は、ポリマー合成を支持し得る官能基を含まない（例えば、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン）、シラン化組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】バーミキュライトを出発原料とし、これを酸処理することにより得られ、ＳｉＯ_２の薄層が積層された劈開性積層体粒子からなっているにもかかわらず、吸湿性が大きく低減され、樹脂等に対して配合したときの含有水分による発泡が防止された非晶質シリカを提供する。
【解決手段】非晶質シリカ薄層の劈開性積層体粒子からなり、ＳｉＯ_２含量が９８．０乃至９９．６重量％の範囲にあり、アスペクト比が２乃至２０の板状粒子形状を有し、レーザ回折法で測定して中位径（Ｄ_５０）が１乃至３０μｍの範囲にあるとともに、ＢＥＴ比表面積が１５０ｍ^２／ｇ以下、７５％ＲＨでの平衡水分量が１０．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】電子回路の基板などに用いられる誘電体膜として、欠損部がなく、所定の厚さの均質な多孔質基板を提供すると共に、そのような多孔質基板を容易に得ることのできる方法を提供すること。
【解決手段】成型容器により形成される多孔質基板６の製法であって、大気圧下においてゾルを生成し、大気圧よりも高い気圧下において前記ゾルを加熱することにより、前記成型容器内で前記ゾルをゲル化する。 （もっと読む）

本発明は、周期表の３〜１５族から選択される一つ以上の金属の酸化物からなる少なくとも一つの絶縁層を含む、面平行な構造（プレートレット形状体またはフレーク）を作製するためのプロセスであって、方法が：（ａ）場合により、基材上に剥離材料の層を塗布する工程、（ｂ）一つ以上の所望の金属酸化物の一つ以上の前駆体を含む組成物を前記剥離層上または剥離材料の層がない基材上に直接的に塗布する工程、（ｃ）一つ以上の所望の金属酸化物の一つ以上の前駆体をマイクロ波放射に晒し、基材上または剥離材料の層上に金属酸化物層を形成する工程；および（d）結果として生じる金属酸化物層を面平行な構造として基材から分離する工程を含む、プロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】薄板を製造する際に、落下物などにより浮遊物が発生する場合であっても、薄板の製造に影響を及ぼさない薄板製造装置および薄板製造方法を提供する。
【解決手段】薄板製造装置は、融液１０２に下地板の表層部を浸漬し、下地板の表面に融液１０２が凝固することにより形成される薄板を付着させる浸漬処理により薄板を製造する薄板製造装置である。薄板製造装置は、坩堝１０１と、浸漬装置と、可動板１０５とを備えている。坩堝１０１は、融液１０２を内部に保持している。浸漬装置は、坩堝１０１内の融液１０２に下地板を浸漬する。可動板１０５は、融液１０２の浮遊物を移動する。 （もっと読む）

【課題】ナノチューブと量子ドットの製造方法を提供する。
【解決手段】主に以下のステップを含む。すなわちシリコン基板を提供し、誘導結合プラズマ設備を提供し、該シリコン基板を該誘導結合プラズマ設備の反応室中に置き、気体水素を該反応室内に入れ、予め設定する操作プラズマ周波数を使用し、同時に該シリコン基板に対して適当なバイアス電圧(bias pressure)を加え、200〜400℃で該シリコン基板に対して乾蝕刻（ｄｒｙ etching）を行う。 （もっと読む）

【課題】バリの落下による基板搬送の能率低減を軽減するとともに、薄板の生産効率を向上する薄板製造用基板、薄板製造装置、および薄板製造方法を提供する。
【解決手段】融液に表面を浸漬し、表面に融液が凝固することにより薄板を形成する薄板製造用基板１０は、本体部１と、バリ受け部２とを備え、本体部１は、表面６を含む。バリ受け部２は、本体部１の表面６以外の面と接続され、表面６側から見た本体部１の外縁より外側に延在するバリ受け部２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】衝突する液体の液滴による濡れに対して耐性がある物品、並びに衝突する液体の液滴による物品の濡れに対して耐性を与える方法の提示。
【解決手段】物品（３００）は、その上に衝突する液体の液滴（３１０）をインタセプトするように配向された表面部分（３２０）を含む。この表面部分（３２０）は、複数の表面機構（３３０）を含み、この複数の表面機構（３３０）は、メジアン径ａ、メジアン深さｈ及びメジアン間隔ｂを有する。パラメータａ、ｂ及びｈは、相対速度ｖで表面部分（３２０）上に衝突する液滴に対応して、該表面部分（３２０）上への衝突時に該液滴によって生成されるベルヌーイ圧よりも大きい背圧を生成するように選択される。本方法は、表面部分（３２０）に対して少なくとも約５ｍ／ｓの相対速度で運動する液滴（３１０）に曝して、液滴（３１０）が該表面部分（３２０）上に衝突するようにする段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】薄板の製造工程で発生する落下物を再利用し、材料の利用効率を高め、装置のメンテナンスを軽減する。
【解決手段】本発明の薄板製造方法は、坩堝内の融液に下地板の表層部を浸し、下地板の表面で融液を凝固させて薄板を形成する方法であって、融液は金属材料および半導体材料のうち少なくとも一方を含み、下地板から落下する融液の凝固片を、同一の坩堝または異なる坩堝に投入することを特徴とする。 （もっと読む）