本発明は、シリコンを含有する溶融した二元若しくは三元の過共晶合金中又は精製したシリコン融液中で大型の高純度シリコン結晶を結晶化することを含み、小型のシリコン結晶を融液に加えて、結果として生じる大型のシリコン結晶を融液から分離することを特徴とする、太陽電池級シリコンの製造方法に関する。当該分離は、遠心分離又はろ過により行ってよい。 （もっと読む）

【課題】不純物や斑点を低減した良質の多結晶シリコンを得ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸を満たした状態の複数の酸槽２〜６に多結晶シリコンＳを順次浸漬しながら洗浄する多結晶シリコン洗浄装置であって、各酸槽２〜６の液温は、隣接する酸槽の後段位置の酸槽が前段位置の酸槽と同じかもしくは低く設定され、かつ、最も前段位置の酸槽２よりも最も後段位置の酸槽６の方が低温に設定され、各酸槽２〜６に、その液温を一定に維持する温調手段１８が設けられている。 （もっと読む）

【解決手段】珪素粒子と二酸化珪素粒子との混合物を、非酸化雰囲気下１０００〜１４００℃で焼結させてなり、ゆるめ嵩密度が０．７〜２．０ｇ／ｃｍ³、かつＢＥＴ１点法で測定した比表面積が０．０１〜３０ｍ²／ｇであることを特徴とする酸化珪素製造用原料。
【効果】本発明の酸化珪素製造用原料及びその製造方法によれば、酸化珪素製造時の反応性を低下させることなく、反応器単位容積あたりの原料充填率を高め、さらに吸湿を抑制し、安定した物性の酸化珪素を効率よく製造でき、装置部材の劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、不要な金属不純物の含有量が少なく、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。
【解決手段】 以下の特性を備えるようにする。
（ａ）細孔容積が０．６ｍｌ／ｇ以上、１．６ｍｌ／ｇ以下
（ｂ）比表面積が５０〜６００ｍ²／ｇ
（ｃ）最頻細孔直径（Ｄ_max）が１５ｎｍ以上
（ｄ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ⁴／Ｑ³値が３以上
（ｅ）非結晶質であること
（ｆ）金属不純物の含有量が１００ｐｐｍ以下 （もっと読む）

【課題】所定量の半導体粉末を含む小塊を溶融して球状溶融体を形成し、これを冷却凝固させて半導体粒子を製造する方法において、ｐ型またはｎ型のドーパントがドープされた、質量と寸法形状のばらつきが小さい球状半導体粒子の効率的な製造を可能とする。
【解決手段】所定質量の半導体粉末とドーピング剤とを含む小固形体を造粒により形成する。これを、加熱して各小固形体内の半導体粉末を溶融させ、融合させて球状溶融体を形成し、冷却して凝固させる。小固形体にはバインダーを含むことが好ましい。ドーピング剤は、半導体粉末にドーピング剤を添加した混合物を造粒する方法、造粒操作中に添加する方法、および、造粒物をドーピング剤溶液に接触させる方法などにより、小固形体中に含ませることができる。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解による高純度シリカ粒子の製造方法において、四塩化珪素の反応効率がよく、シリカ含有量の高いゲルを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、管路型の混合器を用い、混合器の管路に純水と四塩化珪素を導入し、冷却下で混合した後に、この混合液を冷却した容器に入れて静置し、生成したゲルを乾燥して焼成することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、四塩化珪素の導入量が純水１リットルに対して１.５モル以上であり、生成したゲル中のシリカ含有量が５.０質量％以上であって、５０μｍ以上の平均粒子径を有する高純度シリカ粒子を製造する方法。 （もっと読む）

本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質プロファイルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。
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【課題】化学的に不活性な粒子状不純物を効率的に除去することができるシリコンの精製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】二酸化珪素と、シリコンカーバイト、シリコンナイトライドまたはダイヤモンドの何れかを粒子状不純物として含む回収シリコンを、加熱してシリコン融液を得る融解工程と；前記シリコン融液を冷却して得られるシリコン塊を粉砕してシリコン粒を得る粉砕工程と；前記シリコン粒を酸溶液で洗浄して二酸化珪素を前記粒子状不純物とともに除去する酸洗浄工程と；を含むことを特徴とするシリコンの精製方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】金属ケイ素から非金属不純物を除去する方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン元素を含むケイ素を金属ケイ素に混合し、この混合物を融解させて、金属ケイ素中に含まれる非金属不純物を、ハロゲン化物の形で融解液から気化させ、除去する。 （もっと読む）

【課題】改良された耐久性および耐熱性を有するエーロゲル絶縁品を提供する。
【解決手段】疎水性エーロゲル粒子と水性バインダーを含む絶縁ベース層および、保護バインダーと赤外線反射剤を含む熱反射性トップ層を含む耐熱エーロゲル絶縁複合材料。本発明は、また、耐熱エーロゲル絶縁複合材料の製造方法、ならびにエーロゲルバインダー組成物の製造方法、および製造されたエーロゲルバインダー組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

流動層反応炉のガス分配ユニットは、熱分解可能な化合物を反応炉の中央部分へ反応炉壁から遠ざかるように向けられ、反応炉壁に材料の析出を防止する。そして、反応炉内において多結晶シリコン製品を作製するプロセスにより、上記反応炉壁に析出するシリコン量を減少させる。
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多結晶シリコンを作製する当該プロセスには、反応チャンバーにおいて、熱分解可能なシリコン化合物をシリコン粒子に接触させることが含まれる。熱分解可能なシリコン化合物の一部が分解されシリコンダストが生成される。当該シリコンダストを、上記反応チャンバーから排出し、当該反応チャンバーへ再循環させる。取り出されたシリコンダストは、シリコン粒子と凝集する。
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【課題】高品質な単結晶シリコン粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶シリコン粒子１０１の表層部に窒化珪素膜を形成する第１の工程と、酸素ガスから成る雰囲気ガスまたは酸素ガス及び不活性ガスから成る雰囲気ガス中で、結晶シリコン粒子１０１を加熱することによって、窒化珪素膜を酸窒化珪素膜とするとともに、結晶シリコン粒子１０１のシリコン部に接する酸窒化珪素膜の内表面に窒素の高濃度層を形成しながら結晶シリコン粒子１０１の形状を保持した状態でシリコン部を溶融させ、ついで降温し凝固させて単結晶化する第２の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】中空ガラス球体内に金属水素化物を封入する方法が提供される。
【解決手段】この方法は中空ガラス球体を用意することを含み、中空ガラス球体は内部容積を囲む殻を有する。中空ガラス球体は封室内部に配置され、室は負圧がその中に存在するほど排気される。排気される封室内の中空ガラス球体は殻がそれによって分子を拡散する余地があるほど外界要素に暴露される。ある場合に外界要素は熱、赤外線及びそれらの組合せである。その後は金属水素化物が蒸気の形態で用意され、中空ガラス球体を加えて排気される封室は金属水素化物蒸気にさらされ、金属水素化物の分子は殻を通じて内部容積に拡散する。その後は外界要素が殻を通じた分子拡散を大体禁じられ、中空ガラス球体内の金属水素化物が凝縮状態になるように中空ガラス球体から取り除かれる。 （もっと読む）

【課題】耐水熱性に優れるシリカゲルを提供すること。
【解決手段】遷移金属又は卑金属を含有し、ナトリウム含有量がＮａ_２Ｏとして、０〜０．２質量％であるシリカゲル。 （もっと読む）

【課題】低湿度及び高湿度での吸湿量が共に顕著に高いシリカゲル、シリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子を提供することにあり、また合成が容易なシリカゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】細孔直径２．５ｎｍ以下の領域において細孔分布のピーク（最大値）が存在し、細孔直径１０〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_１）と細孔直径２〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_２）の比（Ｖ_１）／（Ｖ_２）が、０．１５〜０．４であるシリカゲル、その製造方法、これを担持してなるシリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜１０％、および過酸化水素１〜１０％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の粒状多結晶シリコンは、用途によっては、粒状物を再装填するのに用いられる工程に関わりなく、純度が低すぎる。
【解決手段】本発明の流動性チップは、化学的気相成長法で製造されかつ０．０３ｐｐｍａを超えないレベルのバルク不純物と１５ｐｐｂａを超えないレベルの表面不純物とを有する多結晶シリコン片で構成される多結晶シリコン片群であって、しかも制御された粒度分布を有しかつ概して非球状モルフォロジィを有する多結晶シリコン片群から成る。 （もっと読む）

【課題】 ＣＺ引上げ法による半導体用シリコン単結晶の製造や、太陽電池用多結晶シリコンの製造等に溶解原料として使用される多結晶シリコンを高度に洗浄する。洗浄コストを下げる。シリコンロス、薬液使用量、廃液による環境負荷を軽減する。ＮＯｘガス発生の問題を解決する。
【解決手段】 シーメンス法により還元反応炉内で多結晶シリコンを製造した後、還元反応炉を開放する前に、還元反応炉内に水蒸気を含む清浄なガスを導入し、多結晶シリコン１の表面に汚染が少ない酸化膜２を形成する。その多結晶シリコン１にフッ酸による洗浄処理を行い、多結晶シリコン１の表面に形成された汚染が少ない酸化膜２を除去する。 （もっと読む）