【課題】エラストマー混合物中で、特にＲＴＶ型の１成分系シリコーンゴム配合物中で増粘剤及び補強剤として特によく適した沈降シリカを提供する。
【解決手段】以下の物理−化学パラメータ：平衡含水率（７０％の相対湿度（ｒ．Ｆ．）／２０℃で）０．５〜５．０質量％、ＢＥＴ表面積５０〜２５０ｍ²／ｇ、ＣＴＡＢ表面積５０〜２５０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ（無水）２００〜３５０ｇ／１００ｇを特徴とする親水性の沈降シリカによって解決される。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機シラン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりＳｉ含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】珪酸アルカリ水溶液を用いる二元細孔シリカの製造において、その生産性を向上させ、また製造工程から発生する洗浄廃液量を削減し、且つ、高純度の二元細孔シリカが得られる二元細孔シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液、水溶性有機化合物、及び酸を含むゾル液を、該ゾル液中の相分離が過渡の状態でゲル化させた後、得られる湿潤ゲルに洗浄液を加え、加圧または減圧濾過することにより、該湿潤ゲルを洗浄することを特徴とする二元細孔シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】原料の配合に依らずに所望の気孔径分布の多孔質構造体を得ることが可能な多孔質構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】溶媒と溶媒に分散したシリカ源とを含有する原料組成物をゲル化して湿潤ゲルを生成する工程と、上記湿潤ゲルを凍結乾燥して、含水率を０〜６０質量％の範囲で制御した乾燥ゲルを形成する工程と、上記乾燥ゲルを熱処理し、上記含水率に対応する気孔径の気孔を形成した多孔質構造体を形成する工程とを有する多孔質構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂への分散性が優れる、ナノオーダーレベルの無機微粒子を得る。
【解決手段】粒子状金属酸化物（Ａ）を濃度30〜70wt％の割合で含む粒子状金属酸化物溶液を作製し、この溶液に対して、１以上のアルコキシ基を有する金属化合物（Ｂ）を添加し、前記粒子状金属酸化物（Ａ）の表面水酸基の少なくとも一部と反応させる。次いで、前記粒子状金属酸化物（Ａ）と前記金属化合物（Ｂ）との反応物を含む前記粒子状金属酸化物溶液に対して、前記金属化合物（Ｂ）と化学結合能を有する化合物（Ｃ）を混合し、前記金属化合物（Ｂ）の少なくとも一部と反応させ、目的とする粒子状金属酸化物誘導体を得る。 （もっと読む）

【課題】誘電率特性に優れ、表面粗さおよび熱膨張係数が低く、破断強度が高い低誘電率膜を形成するための低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜を提供する。
【解決手段】本発明の低誘電率フィラーは、細孔を有し、平均一次粒子径が１０ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下の多孔質球状シリカ微粒子からなることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、シリカ表面を修飾する方法、特に、表面が疎水性鎖でグラフトされたシリカを製造するための方法であって、（Ａ）水性媒体中で、シリカを、少なくとも２価以上でシリカ表面に固定できる金属カチオンにより処理し；そして、次に、（Ｂ）ステップ（Ａ）で処理したシリカを含む得られた水性媒体に、少なくとも一種以上のＲ−ＰＯ（−ＯＨ）₂（Ｒは疎水性鎖である）で表されるホスホン酸分子を導入し、これらのホスホン酸分子をステップ（Ａ）で得られた処理されたシリカと反応させる方法に関する。本発明は、また、前記方法により製造方法により得られる疎水性化されたシリカ、及び、シリコーンマトリックス中でのフィラーとしての使用に関する。 （もっと読む）

【課題】透明基板の表面上に設けた際に十分反射を防止できるシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】シリカ系被膜は、シリカ系被膜形成用組成物を透明基板の表面上に塗布して塗布膜を形成する工程と、塗布膜に含まれる溶媒を除去して乾燥膜を得る工程と、乾燥膜を焼成する工程を有する。その屈折率が１．４１以下である。具体的には、まずシリコンウェハー上に、シリカ系被膜を形成するためのシリカ系被膜形成用組成物をスピンコートで塗布する。そして組成物の溶媒を除去し、窒素雰囲気下で硬化することによりシリコンウェハー上に被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 多孔性シリカの細孔構造を、ミクロからマクロ孔までの幅広い範囲で、簡単に、短時間で制御することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】 ３Ｎ酢酸水溶液１５０ｇに、シリカ濃度１０ｗｔ％に希釈した市販の３号ケイ酸ナトリウム水溶液を、２０℃の下で徐々に滴下してケイ酸ゾルを得た。次に、このケイ酸ゾルを瞬時に乾燥させ、乾燥品を１５ｇ回収した。そして、噴霧乾燥品を水洗乾燥し、酢酸ナトリウムを除くことで、多孔性シリカを製造した。この多孔性シリカの窒素吸着測定による比表面積は７２１ｍ²／ｇ、ミクロ孔容積０．３０ｍｌ／ｇ、メソ孔容量０．１２ｍｌ／ｇであった。 （もっと読む）

表面改質剤と、エアロゾルを用いてカリウムでドープされた熱分解シリカとを反応させることにより製造された、カリウムでドープされた疎水性の熱分解シリカ。前記熱分解シリカは、シリコーンゴム中で充填剤として使用されてよい。 （もっと読む）

【課題】 一般塗料における光老化防止性能の向上や耐水性・耐油性向上、船底塗料における汚れ（貝殻）付着防止性能の向上、ゴムや樹脂の表面滑り性改善や耐磨耗性向上および機械的強度の補強性向上、静電複写機におけるトナーの流動性向上、消泡剤の消泡性能向上、成紙のブロッキング性能向上を得るための高い疎水性を有する疎水性シリカを提供することにある。
【解決手段】親水性シリカをアミノアルキルシラン化合物で処理し、さらに特定のカルボン酸化合物、アルキルケテンダイマー、ジイソシアネート化合物から選ばれた１種以上と反応させて得られることを特徴とする疎水性シリカ。 （もっと読む）

（ｉ）元素の周期表の３Ａ、４Ａ、３Ｂ又は４Ｂ族の元素の原子、及び（ｉｉ）酸素原子を含有する粒子からなる熱分解酸化物粉末において、前記粒子はリチウム原子が酸素架橋を介して前記原子に結合していることを特徴とする熱分解酸化物粉末。 （もっと読む）

【解決課題】 コロイダルシリカの原料となる珪酸アルカリ水溶液に含まれるＣｕ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｒ等の金属性不純物の除去効率が高く、且つ低コストの高純度コロイダルシリカの製造方法を提供すること。
【解決手段】 コロイダルシリカ水溶液に、窒素原子又は燐原子を有するキレート化剤を混合し、キレート化剤を含有するコロイダルシリカ水溶液を得るキレート化剤混合工程、及び該キレート化剤を含有するコロイダルシリカ水溶液を、陰イオン交換体に接触させる陰イオン交換体接触工程を有することを特徴とする高純度コロイダルシリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ金属等の不純物が極めて少なく安定性に優れた水性シリカゾルを製造する。
【解決手段】 この高純度水性シリカゾルの製造方法は、珪酸アルカリを原料として調製された水性シリカゾルに酸を加えることにより、そのｐＨを０〜３．０の範囲に調整し、４０〜３００℃で加熱する工程（１）と、前記加熱後の水性シリカゾルに、強塩基性陰イオン交換体を接触させ、更に強酸性陽イオン交換体を接触させる工程（２）とを含んでいる。 （もっと読む）