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Fターム[4G072MM21]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 反応、分離系操作 (4,111) | 析出、沈澱 (204)

Fターム[4G072MM21]に分類される特許

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【課題】ジャストインタイムで加水分解物を生産できる金属アルコキシドの加水分解物製造装を提供する。
【解決手段】前記金属アルコキシドと水と反応触媒とからなる原料の供給部と、前記原料が導入される複数のスタティックミキサーと前記複数のスタティックミキサーを連設する配管とからなり、前記スタティックミキサーは、前記配管によって前記原料がアップフローで流れるように連設されることを特徴とする。撹拌性に優れ、連設するスタティックミキサーの配管数を調整して、ジャストインタイムで金属アルコキシドの加水分解物を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】高温で熱処理を施すことなく、結晶性の高い良好なシリコン膜を形成することが可能なシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を調製(S101)したのち、基体の上にポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を用いて塗布膜を形成(S102)し、この塗布膜を加熱する(S103)ことにより、シリコン膜を形成する。これにより、高温で加熱せずに、塗布膜中においてシリコンの結晶化が促進される。 (もっと読む)


【課題】クロロシラン類の水素還元反応によって得られるシリコンの製造を安全に連続して行なえるような方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るシリコンの製造方法は、反応容器内でクロロシラン類と水素とを加熱下で反応させて、シリコンを析出させるとともに、水素、シラン類オリゴマーおよびシリコン微紛を含む排ガスを排出させる工程[1]、前記工程[1]より排出された排ガスを105℃以上の温度に維持しながら搬送する工程[2]、前記工程[2]より搬送された排ガスを、105℃以上の温度でフィルタに供給し、かつ、105℃以上の温度でフィルタ装置から排出せしめ、当該排ガスからシリコン微紛を除去して、水素およびシラン類オリゴマーを含む混合ガスを得る工程[3]、前記工程[3]より得られた混合ガスを冷却し、該混合ガスから水素をガスとして分離する工程[4]などを含む。 (もっと読む)


【課題】シリコン芯棒を保持する電極の表面に析出する多結晶シリコンが剥がれ落ちることを防止することができる多結晶シリコン反応炉を提供する。
【解決手段】炉内に設けたシリコン芯棒4を通電加熱し、炉内に供給した原料ガスを反応させて、前記シリコン芯棒4表面に多結晶シリコンを生成させる多結晶シリコン反応炉において、炉の底板部(炉底)2に、該底板部2に対して電気絶縁状態に設けた電極ホルダ10と、該電極ホルダ10に連結され、シリコン芯棒4を上方に向けて保持する芯棒保持電極15とを備え、芯棒保持電極15の外周面に炉内雰囲気に露呈する凹凸部(雄ネジ部)15bを設ける。 (もっと読む)


本発明は、担体における材料の蒸着に対する製造装置、及び該製造装置に使用される電極に係る。典型的には担体は、互いから離間された第1の端部及び第2の端部を備える。ソケットは、担体の端部の各々において配置される。製造装置は、チャンバを画定するハウジングを有する。少なくとも1つの電極は、ハウジングを通って配置され、該電極はソケットに結合するよう少なくとも部分的にチャンバ内において配置される。電極は、ソケットに接触するよう適合される接触領域を備える外部表面を備える。接触領域コーティングは、電極の外部表面の接触領域において配置される。接触領域コーティングは、少なくとも9×10ジーメンス/メートルの導電率、及び電解質としての室温の海水に基づいて電位列において銀より高い耐食性を備える。 (もっと読む)


【解決手段】画像解析法により測定される平均粒子径(D1)が10〜100nmの範囲にあり、比表面積が300〜700m2/gの範囲にあり、見掛け嵩密度(ABD)が0
.05〜0.15g/mlの範囲にあるシリカ微粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルおよびその製造方法。
【効果】本発明に係るシリカゾルの分散質であるシリカ微粒子は、粒子径に比して、比表面積が大きく、多数の針状突起を有した特異な構造を有するものであり、触媒担体、研磨材、補強剤または充填材など各種用途に適用することが期待される。また、本発明に係るシリカゾルの製造方法は、このようなシリカ微粒子が分散してなるシリカゾルを効率的に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】低湿度及び高湿度での吸湿量が共に顕著に高いシリカゲル、シリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子を提供することにあり、また合成が容易なシリカゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】細孔直径2.5nm以下の領域において細孔分布のピーク(最大値)が存在し、細孔直径10〜25nmの合計細孔容積(V)と細孔直径2〜25nmの合計細孔容積(V)の比(V)/(V)が、0.15〜0.4であるシリカゲル、その製造方法、これを担持してなるシリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子。 (もっと読む)


本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
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【課題】筒状反応容器にシリコンを析出させ、析出したシリコンの一部または全部を溶融することにより、析出したシリコンを落下させて回収するシリコンの製造装置において、該筒状反応容器内部を直接確認することが可能なシリコン製造装置を提供する。
【解決手段】縦方向に配置されたカーボン製筒状反応容器と該カーボン製筒状反応容器を加熱する加熱手段とを含み、上記カーボン製筒状反応容器の上部よりクロロシラン類と水素とを含む原料ガスを供給して該反応容器の内表面にシリコンを析出させ、下部より排ガスを取り出すように成した反応部、及び、該反応部の下方に接続され、側壁に上記排ガスの取出口を有する密閉容器よりなる排ガス回収室を含むシリコン製造装置において、前記排ガス回収室を構成する密閉容器の側壁に、支持部材により支持された鏡体と受像部とを設け、該鏡体を介して前記カーボン製筒状反応容器の内部の像を該受像部で受像するようにした。 (もっと読む)


【課題】溶湯中の冷却体の溶湯中への浸漬軌道と干渉する物による生産性に対する悪影響を防止することができる析出板製造装置および析出板製造方法を提供する。
【解決手段】放射温度計50が、溶湯23の表面温度を検出すると、制御装置45は、溶湯23の表面温度の変化に基づいて、溶湯23中の冷却体基板25の溶湯23中への浸漬軌道と干渉する物の有無を判断する。具体的には、溶湯23の表面温度の変化が、予め定める変化幅以上であり、かつその状態が予め定める期間継続したときに、溶湯23中に冷却体基板25の溶湯23中への浸漬軌道と干渉する物が有るものと判断する。制御装置45は、溶湯23中に冷却体基板25の溶湯23中への浸漬軌道と干渉する物が有ると判断されたときは、冷却体基板25の溶湯23中への浸漬を停止する。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、さらに、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】シリカ粒子の長径/短径比が1.1〜15であって、長径/短径比の平均値が1.2〜4である非球状の異形粒子群となっているコロイダルシリカである。これは,珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にアルギニンを加えて加熱し、ビルドアップの手法で粒子成長を行うことにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、さらに、高純度シリカゲル、高純度セラミックスの原料、触媒用バインダー、電子材料用研磨材やレジスト剥離・研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】シリカ粒子の長径/短径比が1.5〜15であって、長径/短径比の平均値が2.5〜6である非球状の異形粒子群となっているコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にヒドラジンを加えて加熱し、ビルドアップの手法で粒子成長を行うことにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒中に分散させることが可能なシリカナノシートを得ることができるシリカナノシートの製造方法を提供すること。
【解決手段】二ケイ化一カルシウムと濃塩酸とを混合して層状のシロキセンを形成する工程と、前記層状シロキセンと有機溶媒とを混合して攪拌し、前記有機溶媒中でシリカナノシートを形成する工程と、を含むことを特徴とするシリカナノシートの製造方法。 (もっと読む)


【課題】トナー粒子からの脱落がなく、トナーとしての流動性が良好であって、且つトナー表面に露出する磁性体表面の面積が小さくトナーの帯電を阻害し難くなることによって、トナーの帯電性能が向上するため、高温高湿環境下においても画像濃度が高く、その画像濃度維持性も高いトナーが得られる磁性トナー用磁性酸化鉄粒子粉末を提供する。
【解決手段】 粒子形状が球状を基本として粒子表面に角張った突起を有する磁性酸化鉄粒子粉末は、第一鉄塩水溶液と水酸化アルカリ水溶液とを反応させてマグネタイト種晶粒子を生成させ、該種晶粒子を成長反応させる二段階反応からなるマグネタイト粒子粉末の製造法において、第一段反応中のpHを7.0〜8.5の範囲とし、且つ、第二段反応中に第一段反応のFeに対し1.0〜30.0原子%の第一鉄塩溶液を添加して得られる。 (もっと読む)


【課題】高純度のシリコンナノワイヤーを低温で製造する方法を提供する。
【解決手段】〔1〕四塩化珪素ガスと不活性ガスとの混合ガスまたは四塩化珪素ガス5を、高温領域3を通って、前記高温領域よりも温度の低い領域(低温領域4)へ流通し、該高温領域3にアルミニウムを供給し、前記高温領域よりも温度の低い領域4においてシリコンナノワイヤーを析出させるシリコンナノワイヤーの製造方法。
〔2〕前記高温領域における温度が700℃以上1100℃以下であることを特徴とする請求項1記載の方法。
〔3〕前記高温領域よりも温度の低い領域における温度が600℃以上900℃以下であることを特徴とする〔1〕または〔2〕記載の方法。 (もっと読む)


本発明は、精製されたハロゲンシラン、とりわけ非常に高純度のクロロシランを製造するために、工業的な純度のハロゲンシラン中の周期表の第三主族の元素の含分、とりわけホウ素及び/又はアルミニウムを含む化合物の含分を低減させるための方法に関する。本発明はさらに、本方法を実施するための装置に関する。 (もっと読む)


【課題】結晶方位に沿って形成された主面及び側面が夫々Z面及びX面をなす板状または棒状の種子水晶から水熱合成法により育成したアズグロン人工水晶の製造後の後工程であるランバード加工を容易に行うことができるアズグロン人工水晶を提供する。
【解決手段】種子水晶2のY軸方向の端部にて2つのZ面及び2つのX面のうちの少なくとも1つの面に密着して当該面をオートクレーブ内の育成溶液の対流から遮蔽するための遮蔽面31Aを形成する本体3(3A),3(3B)と、この遮蔽面31Aに向かってその復元力が作用する弾性体33と、を備え、遮蔽面31Aと弾性体33との間に弾性体33の復元力に抗して種子水晶2の端部を位置させることにより、遮蔽面31Aを端部に密着させる治具3A,3Bを用いて育成する。弾性体33を利用することで確実に遮蔽面31A,32Aと種子水晶2を密着させることができ、種子水晶2の破損も抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】高純度の合成シリカ粉を生産性よく低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の湿式加水分解によってシリカ粉を製造する方法において、強攪拌下で、水に四塩化珪素を加えることによって高濃度シリカスラリーを生成させ、該シリカスラリーを乾燥し、焼成してシリカ粉を製造することことを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水1Lに対して四塩化珪素8〜10モルを、攪拌レイノルズ数25000以上の強攪拌下で加え、容器を冷却して液温を50℃以下に抑えながら、四塩化珪素を少量づつ加えて、シリカ濃度500g/L以上のシリカスラリーを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】シリコン単結晶引き上げ用ルツボや、各種半導体製造分野で使用される高純度の合成シリカ粉を生産性よく低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】水溶液系反応によってシリカスラリーを生成させ、このシリカスラリーに四塩化珪素を添加して加水分解させることによってシリカ粒子を含んだゲルを形成し、このゲルを乾燥・焼成してシリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、例えば、濃塩酸中に四塩化珪素を添加することによって生成させたシリカ濃度の高いシリカスラリーを用い、または強攪拌下で、水に四塩化珪素を加えることによって生成させたシリカ濃度の高いシリカスラリーを用いる合成シリカ粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】反応炉の外周部においても他のシリコン芯棒と同じ仕様の電源で品質の高いシリコンロッドの製造を可能にし、コストの削減を図る。
【解決手段】反応炉1の内底部に配設された複数の電極5に、上下方向に延びるシリコン芯棒4をそれぞれ立設しておき、反応炉1内に原料ガスを供給するとともに、シリコン芯棒4に電極5から通電することによりシリコン芯棒4を発熱させて、シリコン芯棒4の表面に原料ガスによって多結晶シリコンを析出させる多結晶シリコンの製造方法において、複数本のシリコン芯棒4のうち、長さが小さいシリコン芯棒4を反応炉1の外周部に近い位置の電極5に立設し、残りのシリコン芯棒4を他の電極5に立設した状態として、多結晶シリコンを析出させる。 (もっと読む)


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