【課題】高純度かつ高品質な合成石英粉の製造方法、並びに該合成石英粉を溶融してなる、泡が極めて少ないガラス成形体を提供する。
【解決手段】平均粒径１０〜５００μｍのシリカゲルを、１０００℃以上で１０〜５０時間、酸素含有雰囲気中で加熱処理して製造する合成石英粉の製造方法において、該酸素含有雰囲気中での加熱処理後、得られた合成石英粉にヘリウムガスを接触させることを特徴とする合成石英粉の製造方法および該製造方法により製造された合成石英粉を溶融し成型して得られることを特徴とするガラス成型体。 （もっと読む）

【課題】装置全体を簡素化することができ、安価でシリコンを生成することができるシリコン製造装置の提供。
【解決手段】本発明のポリシリコン製造装置は、反応管１０と、反応管１０を加熱する加熱炉２０と、反応管１０内に亜鉛を供給する亜鉛供給管３０と、亜鉛供給管３０内に亜鉛を投入する亜鉛投入部４０と、反応管１０内に珪素化合物を供給する珪素化合物供給管５０と、を備え、亜鉛供給管３０の連結部３０ｂ及び加熱部３０ａは、加熱炉２０の加熱領域α内に設けられている。 （もっと読む）

【課題】シリコン単結晶を製造する際に溶融原料として用いる多結晶シリコンのサイズや品質を選別しながら清浄化する際に用いられるクリーンベンチ及びその清浄化工程を有する単結晶シリコン用原料の製造方法を提供する。
【解決手段】多結晶シリコンが載せられる作業台２と、作業台２上方の空間に対して前面を除く三方を囲む側板８ａ、８ｂ及びこれら側板８ａ、８ｂの上方を覆う天板を有するボックス４と、作業台２上面に清浄空気を供給する供給孔１６ａと、作業台２上面付近の空気を吸引する吸引孔１０ａ、１０ｂと、清浄空気をイオン化して作業台上面に吹き付けて、作業台２上の静電気を除去するイオナイザー２０とを設ける。 （もっと読む）

本発明は、多結晶シリコンロッドにおいて、該ロッドが、シリコンの５０〜９９％の電気伝導に利用される面積分を有するロッド横断面を有し、かつ、該ロッドが０．１〜８０Ｎ／ｍｍ²の曲げ強さを有することを特徴とするシリコンロッドに関する。 （もっと読む）

【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るシリカ系中空粒子の製造方法は、コア粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系媒体中で、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、を含む。
Ｒ^１_ｄＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｄ …（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は独立して１価の有機基を表し、ｄは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン反応炉の原料ガスを炉内に導入するノズルから発生するカーボン粉粒やリン系不純物等が炉内ガスに混在される虞がなく、高純度の多結晶シリコンを製造することが可能な多結晶シリコン反応炉を提供することにある。
【解決手段】気相成長法による多結晶シリコンの製造のための原料ガスＧを、炉内へ導入するノズル１を備えた多結晶シリコン反応炉であって、前記ノズル１の外装面１ａは、少なくともＳｉを含んだコーティング層３によって被覆されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外殻部がメソ細孔構造を有し、その内部に金属化合物を包含してなる複合シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】外殻部が平均細孔径１〜１０ｎｍのメソ細孔構造を有するシリカからなり、その内部に金属又は金属化合物を包含してなるコアシェル型複合シリカ粒子、及びその製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、
（ａ）加水分解的な縮合によって形成され、大きさが５〜２０ｎｍの範囲の、第１の酸化物粒子、
（ｂ）直径が、８０〜３００ｎｍの範囲の第２の粒子、
（ｃ）加水分解的な縮合によって形成される酸化物粒子のための原料が溶解可能であり及びその加水分解及び縮合が許容され又は促進される第１の水性溶媒、
（ｄ）所定の定義を有するアルコール、エーテル、有機酸、エステル、ケトン、アミン、及び酸アミド、及びこれらの混合物から選ばれる、少なくとも１種の第２の溶媒、を含むことを特徴とする被覆材料に関する。
本発明は、更に、被覆物が施された基礎部、特に、光起電力−及び温水コレクターの分野に適切な、ガラスに関し、ここで上記被覆物は、少なくとも２種の粒子部分から構成され、第１の部分の粒子は、その直径範囲が５〜２０ｎｍであり、第２の部分の粒子の直径は、８０〜３００ｎｍの範囲であり、第２の部分の粒子は、該粒子のケーゲル（山状体、又はピン状体）からケーゲルまでを測定して、相互の平均間隔が、２０〜２００ｎｍの範囲であり、第１の部分の粒子は、所定の孔分布を有する孔を有し、その最大値が、１〜６ｎｍの範囲である。基礎部の被覆物は、上記被覆物材料を使用して製造される。 （もっと読む）

【課題】粒度分布の幅の狭く、平均粒径がｎｍオーダー（例えば、１００ｎｍ以下）のシリカナノ粒子を廉価かつ高収率で製造する製造方法、及びそれにより製造されるシリカナノ粒子を提供する。測定結果の再現性に優れる、極微量標的試料の高感度分析が可能な標識試薬を提供する。
【解決手段】疎水性溶媒中の界面活性剤、塩基性電解質を含有する水及び親水性有機溶媒からなる逆ミセル分散系に、シランカップリング剤を添加し、前記水により前記シランカップリング剤を加水分解して、シリカモノマーを重合させ、シリカナノ粒子を形成する、シリカナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】一酸化珪素固体をムラ無く均一に析出させ、高い生産性を有する、一酸化珪素蒸着材料の製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化珪素粒と溶融した金属シリコンからなる混合物を準備する工程；前記混合物中の二酸化珪素粒と溶融金属シリコンを反応させて一酸化珪素の気体を発生させる工程；前記一酸化珪素気体から一酸化珪素固体を析出板に析出させる工程、を含む一酸化珪素の製造方法であって、
（Ａ）前記混合物の上部に設けられた析出板に一酸化珪素を連続して析出させながら、析出板上の析出厚みを計測する工程、ならびに
（Ｂ）前記析出板上の一酸化珪素の析出厚みが５ｍｍになるまで、一酸化珪素を、析出速度０．１〜５ｋｇ／ｍ^２・ｈｒで析出させる工程、
を含む方法で、一酸化珪素蒸着材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。
【解決手段】多孔質基材の一方面側に気化させたシリカ形成物質と不活性ガスとのシリカ源混合ガスを供給し、多孔質基材の他方の面側に反応種となる活性ガスを供給し、一定時間対向拡散させた後、シリカ源混合ガスの一方供給を行い、このような対向拡散および一方供給を複数回行うことにより、多孔質基材表面付近の細孔内にシリカを化学蒸着させ、シリカ膜を形成させて水素分離膜を製造する。シリカ源混合ガスの一方供給は、混合ガスの供給を継続した状態で、あるいは混合ガスを反応器内に残存させた状態で、活性ガスを供給した面側を一定時間減圧吸引することにより行われる。 （もっと読む）

【課題】特に、プラズマ又は他の反応性環境での使用に対して、耐食性にすぐれたシリコン部品の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン部品を製造する方法であって、（ａ）シリコン成長プロセスサイクルを用いてシリコンサンプルを提供し、前記プロセスが、（ａ１）第１の不活性ガスの雰囲気下で、第１の期間、シリコン成長を開始し、（ａ２）還元性ガス雰囲気下で、第２の期間、シリコン成長を継続し、（ａ３）第２の不活性ガスの雰囲気下で、第３の期間、シリコン成長を継続し、（ａ４）前記シリコンサンプルの所望の特性が得られるまで、（ａ２）と（ａ３）のサイクルを十分な回数繰り返すことを含み、（ｂ）前記シリコンサンプルを機械加工して、部品を形成し、（ｃ）前記部品をアニーリングすることを含む。アニーリング（ｃ）は、部品を１つ以上のガスに順次暴露して部品をアニーリングする、改善されたアニーリングプロセスを用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。
【解決手段】高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第１の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。 （もっと読む）

【課題】 特に触媒担体や吸着剤として好適に使用し得るシリカを提供する。
【解決手段】 シリカのＸ線透過率をＴ（％）、シリカの細孔の最頻直径をＤ_ｍａｘ（ｎｍ）とした際、上記のＸ線透過率Ｔが、零よりも大きく、且つ、以下の式（Ｉ）で示される所定値Ｆよりも大きいことを特徴とする、シリカ。
Ｆ＝４．９８ｌｎ（Ｄ_ｍａｘ）−７．５０・・・・・（Ｉ）。
上記のシリカは、シリコンアルコキシドを加水分解すると共に得られたシリカヒドロゾルを縮合してシリカヒドロゲルを形成する加水分解・縮合工程と、当該加水分解・縮合工程に引き続きシリカヒドロゲルを熟成することなく水熱処理する物性調節工程とを包含する方法で製造される。 （もっと読む）

【課題】 溶湯から析出体析出のための下地となる下地体と、簡単な動作機構によって短時間に、下地体の保持および保持の解除を行うことのできる下地保持体とを含む析出装置および析出方法を提供することである。
【解決手段】 下地体３２の係合部３７は第１接触面４２を有し、第１接触面４２は浸漬部３４の固定部４１から離反して基準方向他方Ｚ２から基準方向一方Ｚ１に臨む。下地保持体３３の内部空間３８は交差方向一方Ｘ１に開放しており、内部空間３８を規定する内部空間形成部３９には、第１接触面４２に対向する第２接触面５２が形成される。また下地保持体３３は押圧部４３を有しており、押圧部４３は係合部３７を基準方向一方Ｚ１に弾発的に押圧する。係合部３７には第１接触面４２が形成されている。 （もっと読む）

【課題】二元細孔シリカの製造方法において、珪素源、水溶性高分子、および酸等の原料組成によらず、マクロ細孔の細孔容積、特に、マクロ細孔の細孔径分布を制御できる二元細孔シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】珪素源、水溶性高分子、および酸を含んでなるゾル液を、相分離が過渡の状態でゲル化させた後、得られたゲル体を１ｍｏｌ／Ｌを超え１０ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度のアンモニア水に浸漬することを特徴とする二元細孔シリカの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 金平糖状という特異な形状をしたシリカ系微粒子が溶媒に分散してなる金平糖状シリカ系ゾルを提供する。
【解決手段】 球状シリカ系微粒子の表面に複数の疣状突起を有する微粒子であって、ＢＥＴ法またはシアーズ法により測定された比表面積を（ＳＡ１）とし、画像解析法により測定された平均粒子径（Ｄ２）から換算した比表面積を（ＳＡ２）としたときの表面粗度（ＳＡ１）／（ＳＡ２）の値が、１．７〜１０の範囲にあり、画像解析法により測定された平均粒子径（Ｄ２）が７〜１５０ｎｍの範囲にある金平糖状シリカ系微粒子が溶媒に分散してなる。 （もっと読む）

【課題】実質的に無機系の材料から構成されるコンペイトウ状のシリカ粒子を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１０μｍの球状シリカ（Ｃ）の表面に高さ１〜３００ｎｍのシリケートの突起物（Ｂ）（ただし、突起物（Ｂ）の高さ＜球状シリカ（Ｃ）の直径）を有するコンペイトウ状シリカ粒子であり、水ガラスのアルカリ水溶液中で、平均一次粒子径が５〜３００ｎｍの突起物形成用球状シリカ粒子の存在下に水ガラスを重縮合させる。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカの懸濁液を得るために珪酸塩と酸性化剤とを反応させ、次いでこの懸濁液を分離し乾燥させることを含むタイプの沈降シリカの製造方法であって、該沈殿が高速ブレンダー内において珪酸塩と酸性化剤とを酸性媒体の状態で接触させることを含むことを特徴とする、沈降シリカの新規な製造方法に関するものである。 （もっと読む）

コロイド状シリカ又はアルミノケイ酸塩粒子のような、高金属性ケイ質物質を生成するための変更したゾルゲル方法が開示されている。最初に、選択した金属塩がケイ酸溶液又はアルミニウム塩を含むケイ酸溶液に添加される。アルミニウムはシリカ基質内でＡｌ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成するように、金属―担体間の相互作用を変えるために添加される。アルミニウムに加えて、Ｍ−Ｏ−Ｓｉ（Ｍ＝Ｔｉ、Ｂ等）結合を形成し、還元剤で処理される際に還元されない他の金属を添加できる。一度、金属、ケイ酸 及び／又はアルミニウム塩が生成された場合、塩基性ヒールへの添加によってコロイドの成長を受ける。コロイド合成後すぐに、コロイド粒子を含む金属塩はコロイド安定性を最大化できるように残され、ヒドラジンで還元されて、０価の金属含有性のコロイド粒子を生成する。使用前に粒子をコロイド状に保つことは、簡単に噴霧乾燥し、又は、押し出された触媒粒子のために他の物質と混合される場合に、触媒物質を形成する有効な方法になりうる。 （もっと読む）