【課題】誘電体バリア放電方式の放電部の耐久性を向上させる。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 （もっと読む）

【課題】この発明は、プラズマにおける高温場と反応場周辺の液体による急冷によって、高速にナノ粒子を合成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記の課題を解決するために、本発明に係るナノ粒子製造方法は、ナノ粒子の原料である金属よりなる電極１の先端部１ａを液体中に設置し、電極１の他端側に高周波電源５を接続し、電極１の先端部の断面積よりも広い表面積の対向電極１１を電極１の先端部１ａに対向して設置し、高周波電源５より高周波を電極１に供給することにより液体中にプラズマを発生させてナノ粒子を生成する。 （もっと読む）

【課題】磁気駆動マイクロツールの動きを振動させることなく正確に制御することができる磁気駆動マイクロツールの駆動機構を提供する。
【解決手段】磁気駆動マイクロツールが受ける磁力のうち、駆動平面と垂直な方向成分の磁力を低減することにより磁気駆動マイクロツールが受ける垂直抗力が低下させる、あるいはマイクロ流体チップに微小振動を加えることにより磁気駆動マイクロツールにかかる摩擦力を減らし、駆動磁石に対する磁気駆動マイクロツールの制御性及び位置精度を向上させることを可能とした機構。 （もっと読む）

【課題】誘導プラズマを安定化させ、有機ハロゲン化合物の安定した分解が可能な有機ハロゲン化合物の分解装置を提供する。
【解決手段】放電管１３内に供給した有機ハロゲン化合物を誘導プラズマを用いて分解する分解装置１０は、有機ハロゲン化合物と水蒸気の混合ガスを内周面に沿って旋回流にして噴出する第１の噴出孔１８が内周面に形成された第１のガス吹込みリング１９と、第１のガス吹込みリング１９の上方に配置され、有機ハロゲン化合物と水蒸気の混合ガスを内周面に沿って旋回流にして噴出する第２の噴出孔２０が内周面に形成された第２のガス吹込みリング２１と、第２のガス吹込みリング２１の上方に配置され第２のガス吹込みリング２１の上端をシールすると共に、第２のガス吹込みリング２１内を貫通し、先端部が第１のガス吹込みリング１９の内孔の上部位置まで達する断面円形の円柱部２２を備えたシール部材２３とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明では、平均一次粒子径、組成等の制御をして、金属、半金属、金属化合物及び半金属化合物の少なくとも１種を含む微粒子を製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】減圧容器内で、少なくとも１種の金属及び／又は半金属を含有する原料を加熱して蒸発させ、蒸発させた原料を、プラズマ雰囲気を介して、微粒子として液体媒体の表面に付着させ、得られた付着物を回収することを含む、微粒子の製造方法とする。また、減圧容器１７、原料を加熱して蒸発させる原料加熱部１１、液体媒体１５を流動させる液体媒体流動部１７、雰囲気ガスを導入する雰囲気ガス導入部１８、並びにプラズマ発生部１２を有する、微粒子製造装置１００とする。 （もっと読む）

標的分子を、標的分子とは異なる組成の成分の生成物に選択的に解離し、もはや成分が互いに反応性でないため、標的分子の結合を再形成しないプロセスが開発された。標的分子内の結合を選択的に壊すのに有効な量の、周波数および強度の光単独でまたは触媒と組み合わせて、標的分子を処理することにより、解離を作用させる。解離は、逆過程によって標的分子への再会合を起こさず、本プロセスが代表的な還元酸化メカニズム経由で進行しないので、酸素または他の添加剤を組み込む酸化数または状態の変化を有する成分の生成物を生成しない。標的分子は、廃棄物再生および処理のアンモニア、ＰＣＢ浄化、および標的ドラッグデリバリーを含む。
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【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
１対の電極と、１対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】 従来の高周波加熱装置や高周波化学反応装置では、試料に高周波電力を照射すると試料が発熱するとともにキャビティーも熱せられる結果、キャビティーを含む負荷の共振周波数が変化して大きな反射が立ち、試料に高周波電力が十分吸収されなかった。これを解決するために従来は導波管変換器内部短絡板など機械的な部品を駆動させて整合をとる必要があり、機構が複雑で信頼性に劣りコストが高いなどの欠点があった。
【解決手段】 本発明によれば、信号源として例えば周波数可変型高周波信号発生器を設け、負荷共振周波数の変動で反射検出端に出力が生じた場合はその信号を信号処理回路に送り、これを信号処理して常に反射最小の周波数に該信号発生器を自動調整するため整合用機械稼動部分が無く、電気信号だけの処理による装置が構成できるので機構が簡単で小型で信頼性が高く、コストの安い高周波電力応用装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】製造すべき分子の複雑さがどのようであれ、収益性が高く、前記分子の合成に必要な反応時間と過程の数を削減し得る化学合成法を提供する。
【解決手段】再循環システムに組み込まれた、断続的な誘電加熱による方法であって、この方法は、再循環システムによって断続的に、反応物質を３００ＧＨｚから３ＭＨｚの周波数から選択される電磁波にかけることからなり、反応物質のすべてのボリュームが恒常的に誘電波にさらされるのではなく、反応物質の混合物のすべての分子が断続的にフィールドにかけられる。 （もっと読む）

【解決課題】高周波発生板を振動させて、高周波成分を含む数多くの針状の超音波を高周波発生板のほぼ全面で発生させ、無数の中空微小球体を高周波発生板のほぼ全面において効率的に破泡させて所定場所に外因性分子を分子導入することを課題とする。
【解決手段】(a) 高周波発生板取付開口(9)を有するプローブ本体(1)と、(b) 前記高周波発生板取付開口(9)にその外端縁(2G)が固着されて設けられ、電圧印加によって異なる位置から２以上の高周波を発生させる高周波発生板(2)とで構成されている事を特徴とする。 （もっと読む）

流体分子を液体状態から蒸気状態に変換する装置１０２および方法であり、この流体は人為的結合角を有する。本装置１０２は、抵抗−コンデンサ（ＲＣ）回路と、ＲＣ回路および流体を収容するチャンバ２０２と、電力をＲＣ回路に供給するための電源２１０とを備える。ＲＣ回路は、アノード２０４、カソード２０６、および複数の実質的に平行な導電プレート２０８を備える。ＲＣ回路を通る電流は、蒸気状態の分子の結合角を変更する周波数を生成する。人為的結合角を有するこれらの分子１００を点火すると、これらの分子を再び通常の結合角に戻して、有毒もしくは有害なガス、温室ガスを放出することなく、または大気と少しも相互作用することなくもしくは大気中の酸素を少しも消費することなく、数多くの異なる用途で利用され得るエネルギーの放出を伴う。例えば、人為的結合角を有する分子１００は、自動車両１８００に動力供給するために機関１４００の中で使用され得る。
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【課題】処理対象体を損傷させることなく、より短時間でプラズマ処理し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】準マイクロ波帯またはマイクロ波帯の高周波信号Ｓを生成すると共にこの高周波信号Ｓの電力を制御可能に構成された高周波電源２と、高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４とを備え、電力が制御された高周波信号Ｓを高周波電源２から放射器１４に出力することにより、プラズマ放電用ガスＧが内部に供給された処理対象管５の内部における放射器１４の近傍にプラズマＰを高密度で発生させて、処理対象管５の内面を効率よくプラズマＰで処理する。 （もっと読む）

特に、チャンバ内の混合物中のキラル体の一方向の運動を引き起こすために、界をチャンバに対して回転させ、キラル体の回転を引き起こす方法を開示する。該キラル体の回転は、それらのキラリティーに基づいて、それらの一方向の動きを引き起こす。

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【課題】常温において反応性及び反応効率に優れ、反応を安全に実施可能であるマイクロ流体デバイス、反応装置、並びに、反応方法を提供すること。
【解決手段】気体放電を用いるプラズマ生成機構を備えた気体用微小流路、液体用微小流路、並びに、気体用微小流路及び液体用微小流路が合流して形成される気液混相用微小流路を少なくとも有することを特徴とするマイクロ流体デバイス、前記マイクロ流体デバイスを用いた反応装置。また、前記反応装置を準備する工程、前記気体用微小流路に気体を供給する工程、前記液体用微小流路に被反応物を含む液体を供給する工程、前記プラズマ生成機構により前記気体由来のラジカルを発生させる工程、前記気液混相用微小流路において、被反応物を含む前記液体とラジカルを含む前記気体との気泡流又はスラグ流を形成する工程、並びに、前記被反応物と前記ラジカルとを反応させる工程を含む反応方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、概して、プラズマリアクタにおいて、大面積基板に必要な容量性デカップリングを提供する装置及び方法を提供する。
【解決課題】本発明の一実施形態は、プラズマリアクタにおいて用いるための基板サポートを提供する。プラズマリアクタは、大面積基板の裏面と接触するための複数の隆起領域のある上面を備えた導電性本体を有している。複数の隆起領域は、上面の表面積の約５０％未満を占める。 （もっと読む）

【課題】安価且つコンパクトな構成で大口径のビームを被処理物に照射することができると共に高い中性化率を得ることができ、チャージフリー且つダメージフリーな中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の中性粒子ビーム処理装置は、被処理物Ｘを保持する保持部２０と、高周波電圧の印加と印加の停止とを交互に繰り返すことにより、真空チャンバ３内に正イオンと負イオンとを含むプラズマを生成するプラズマ生成部と、真空チャンバ内であって、プラズマ生成部と被処理物との間に配置され、プラズマから放出される紫外線を遮蔽するオリフィス電極４と、真空チャンバ内にオリフィス電極に対して上流側に配置されたグリッド電極５と、オリフィス電極とグリッド電極との間に電圧を印加することで、プラズマ生成部により生成されたプラズマから正イオンと負イオンとを交互に引き出すバイポーラ電源１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスを大量で且つ容易に分解・合成・改質可能とし、さらにドライ洗浄装置やオゾン発生装置として使用可能にしたスマートタイプの大気圧プラズマ素子を使用した有害ガス処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧雰囲気中で処理対象ガスを流通可能とした筒状部材の外周壁に誘電体層を付設してなる外部電極と、該筒状部材の内部に配され、互いに連設された大気圧プラズマ素子となる内部電極とを備え、処理対象ガスと酸素を筒状部材内で剪断力を受けて分割および合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合されると同時に筒状部材の内周壁および後方となる端部の開放部へ搬送することにより両電極間に高周波を印加させて放電プラズマを誘起させ、筒状部材内部の処理対象ガスを分解・合成・改質可能としたことを特徴とする大気圧プラズマ素子を使用した有害ガス処理装置。 （もっと読む）

【課題】 従来、水や液状体の電子的水素イオン濃度ＰＨ値の改質は存在したが、アルカリ方向に最大ＰＨ１２．１前後が限界であり、ＰＨ１３以上の改質が産業利用への基本的課題であった。また、酸性側への改質は微動の可変も困難で、産業界や医療界への特質たる利用が成されなかった。
【解決手段】 改質装置内部に、金属グリッドを適宜に設けた事、適切な周波数を割り出す事、循環型電子回路や、シャワー噴霧方式を附加する事、帯電による感電防止策を循環回路による増強エネルギー化した簡単な回路と製品の安定化の為に冷却器を附加した等、解決の手段としての装置を製作した。 （もっと読む）

【課題】殺菌処理効果が高く、キャビテーションのみで殺菌処理をし、他の処理装置を併設しない簡単な装置を提供すること。また単位時間当たりの処理量をより多くすることが可能な処理装置を提供すること。
【解決手段】原水入口１３および処理水出口１４を有する筒状の殺菌処理容器１２と、この殺菌処理容器１２内に、この殺菌処理容器１２の中心軸に沿って配置された駆動軸１６と、この駆動軸１６に互いに間隔を置いて固定された複数個のリング状振動子１７と、前記駆動軸１６に連結され、この駆動軸１６に超音波振動を付与する高周波アクチュエータ２５とを備え、前記複数個のリング状振動子１７は、それらの外周面と前記殺菌処理容器１２内周面との間に前記原水が通過するための間隙が形成されている。 （もっと読む）