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Fターム[4G076AB05]の内容

アルカリ土類、Al、希土類金属化合物 (15,934) | 原料(目的物,被処理物以外) (2,313) | 無機化合物 (1,624) | 陰イオン成分が多原子からなるイオン団 (894)

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【課題】 インクの発色性が良好なカルシウム系化合物を提供する。
【解決手段】 分散媒中で、貝殻由来の炭酸カルシウムとリン酸とを、炭酸カルシウム中のカルシウム(Ca)と、リン酸中のリン(P)とのモル比(Ca/Pモル比)が1<(Ca/Pモル比)<4となるように反応させ、炭酸カルシウムが薄片化した薄片粒子を寄り集める。得られたカルシウム系化合物において、薄片粒子間には、内部まで貫通していない空隙が形成されている。 (もっと読む)


【課題】粒度分布が狭い複合粒子を得ることができる複合粒子の製造方法を提供することを目的とする。加えて、このような製造方法により得られた複合粒子、この複合粒子が内添された複合粒子内添紙、及びこの複合粒子を塗工層に含む塗工紙を提供することも目的とする。
【解決手段】本発明は、無機粒子の複合化により得られる複合粒子の製造方法であって、上記無機粒子をケイ酸アルカリ水溶液中に懸濁させ、無機粒子の懸濁液を得る懸濁工程と、この懸濁液に鉱酸を添加し、無機粒子の表面にシリカを析出させ、無機粒子を凝集させる凝集工程とを有し、上記鉱酸添加前の懸濁液のカチオン要求量が1,000μeq/L以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】アルミナ水和物微粒子をセラミックス成型体の結合剤として用いると、得られたセラミックス成型体の強度が充分でないという問題があり、また、この強度を上げるために結合剤の量を増やそうとすると、触媒活性成分の含有量が減少するため成型体の触媒活性が低下しないものを提供する。
【解決手段】保水性が高く、溶媒中での分散性と安定性に優れたアルミナ水和物微粒子であって、該アルミナ水和物微粒子の結晶子径が1〜10nmの範囲にあり、動的光散乱法による平均二次粒子径が20〜300nmの範囲にあり、かつ平均細孔径が1〜10nmの範囲にあって、さらに、該アルミナ水和物微粒子を水に分散させてAl23換算基準で固形分濃度7重量%の水分散体としたときの該分散体の粘度が2000〜12000mPa・sの範囲にあるアルミナ水和物微粒子を用いる。 (もっと読む)


本発明は、無機核ならびに無機核を300nm以上の厚さで均一に覆うユーロピウムと酸化イットリウムまたはガドリニウム殻とを含む組成物、ならびに該組成物を含有するリン光体に関する。組成物は、8から11のpHを有する、無機核を含む懸濁液を形成すること;反応媒体のpHを一定値に維持しながら、ユーロピウム塩とイットリウムまたはガドリニウム塩とを含む溶液を懸濁液に加えること;生じた固体を分離すること、および固体を最大1000℃の温度で焼成することにより、生成される。 (もっと読む)


【課題】重金属が共存する場合であっても、フッ素含有排水からフッ素や更には重金属を簡便な手段で経済的且つ効率的に高レベルで除去することができるフッ素含有排水の処理方法を提供する。
【解決手段】フッ素含有排水に、好ましくはpH調整下で、下記の活性化リン酸水素カルシウム二水和物を加えて混合し、排水中のフッ素を該活性化リン酸水素カルシウム二水和物の粒子表面で不溶化させた後、固液分離して、排水中のフッ素を環境基準値0.8mg/L以下にまで除去した。
活性化リン酸水素カルシウム二水和物:リン酸水素カルシウム二水和物を40℃以上の水中で撹拌して、その粒子表面をエッチング処理したもの (もっと読む)


【課題】樹脂への充填性に優れた樹脂充填用水酸化アルミニウム粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂充填用水酸化アルミニウム粉末は、結晶構造がギブサイトであり、レーザー散乱法によって測定された粒子径分布においる平均粒子径、および微粒部分からの重量累積が10%となる二次粒子径D10および90%となる二次粒子径D90の比D90/D10が所定の範囲内であり、0.5μm以上、5.0μm以下の粒子径範囲Iに2つ以上の頻度極大を有し、前記粒子径範囲Iにある頻度極大のうち最も大きな極大粒子径を有する頻度極大の極大粒子径をD2とし、最も小さな極大粒子径を示す頻度極大の極大粒子径をD1としたとき、D2およびD1が所定の関係を満足し、粉末X線回折測定による結晶面(110)と(002)のピークの強度比I(110)/I(002)、および全ナトリウム含有量が所定の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】粉砕された水酸化アルミニウムを原料とし、その粒度分布を大きく変化させることなく、低BET比表面積の微粒水酸化アルミニウムを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、粉砕された水酸化アルミニウムと、Al23濃度が飽和濃度±15g/Lの範囲であるアルミン酸ナトリウム水溶液とを含有するスラリーを±5℃以内の温度範囲で、系内のAl23量を±10%以内に維持しながら保持することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低品位水酸化マグネシウムから高純度の炭酸マグネシウム、特に鉄分の含有量の低い炭酸マグネシウムを簡便に製造する方法の提供。
【解決手段】 その製造方法は、低品位水酸化マグネシウムの懸濁液に炭酸ガスと共に酸素含有ガスを吹き込んで、重炭酸マグネシウムを含有する溶液を形成し、形成後固液分離して、得られた液体を加熱することにより炭酸マグネシウムを生成析出せしめることを特徴とする。
この製造方法は、低品位水酸化マグネシウムの懸濁液に炭酸ガ炭酸ガスと空気等の酸素含有ガスを同時に合わせて吹き込むという極めて簡便な手段を採用することにより、高純度、特に鉄分の少ない炭酸マグネシウムを製造できる。 (もっと読む)


【課題】分級操作が不要で、しかも粒度分布がシャープな、平均二次粒子径が160μm以上の水酸化アルミニウムを製造する方法を提供する。
【解決手段】過飽和アルミン酸ナトリウム溶液を連続的に析出槽に供給しながら、平均二次粒子径0〜70μmの種子水酸化アルミニウムの存在下で前記アルミン酸ナトリウム溶液を攪拌して、アルミン酸ナトリウムの分解と、生成した水酸化アルミニウムの析出とを行わせ、固液分離により平均二次粒子径90〜120μmの水酸化アルミニウムを含む濃縮液を得、ついで、該濃縮液を一部を残して析出槽から排出した後、析出槽に再び過飽和アルミン酸ナトリウム溶液を連続的に析出槽に供給しながら攪拌して、アルミン酸ナトリウムの分解と、生成した水酸化アルミニウムの析出とを行わせ、固液分離により平均二次粒子径160μm以上の水酸化アルミニウムを析出させるものである。 (もっと読む)


【課題】 酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷の発生を防止又は低減することが可能なCMPが実施できる金属酸化物粒子、これを含む研磨材、この研磨材を用いた基板の研磨方法及び研磨して得られる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属化合物を1000℃以上で加熱処理することによって作製され、かつ結晶子サイズが30nm以上及び結晶歪が1%以下である金属酸化物微粒子、この金属酸化物微粒子を含む研磨材、該研磨材を用いて、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨方法及び酸化珪素膜が形成された半導体チップを、前記の研磨材で研磨することを特徴とする半導体装置の製造方法若しくは金属膜が形成された半導体チップを、前記の研磨材で研磨することを特徴とする導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で不純物の少ない硫酸バリウム粒子を製造する方法を提供すること。
【解決手段】(A)バリウムイオン源溶液と(B)硫酸イオン源溶液とを混合して、硫酸バリウム粒子を析出させる硫酸バリウム粒子の製造方法であって、前記(A)バリウムイオン源溶液が、(A−1)水酸化バリウム八水和物、水酸化バリウム無水和物、塩化バリウム二水和物、塩化バリウム無水和物、酢酸バリウム、リン酸水素バリウム、メタリン酸バリウム、硝酸バリウムおよびシュウ酸バリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種のバリウムイオン源、(A−2)尿素またはアセトアミド、および(A−3)溶媒を含有し、前記(B)硫酸イオン源溶液が、(B−1)硫酸イオン源、(B−2)尿素またはアセトアミド、および(B−3)溶媒を含有することを特徴とする硫酸バリウム粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平均孔径が小さく、高い表面積を有する多孔質金属酸化物膜を簡便な方法で得ることができる多孔質金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、金属元素の異なる2種類以上の金属源を含有する多孔質金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に多孔質金属酸化物膜を形成する多孔質金属酸化物膜の製造方法であって、上記多孔質金属酸化物膜形成用溶液に最も多く含まれる上記金属源の金属源モル分率が、70%以下であることを特徴とする多孔質金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


本発明は、アスペクト比が大きい薄片状アルファーアルミナ結晶体及びその製造方法に関し、更に詳しくは、水溶性溶剤を含有するアルミニウム前駆体水溶液、亜鉛前駆体水溶液及びスズ前駆体水溶液を加水分解して混合ゲルを製造した後、熟成、乾燥及び結晶工程を行うことで製造される酸化アルミニウム、酸化亜鉛及び酸化スズを含有する薄片状アルファ−アルミナ結晶体に関する。前記結晶体は、平均粒子厚さが0.5μm以下、平均粒子直径が30μm以上、アスペクト比が100以上であり、従って、高品質の真珠光沢顔料基質、研磨剤、セラミック材料及び充填剤として有用である。 (もっと読む)


【課題】受酸効果を保ちつつ、ハロゲン含有樹脂・ゴムに使用した場合に耐熱、耐水用途において電気絶縁性が低下しないハイドロタルサイト粒子を提供する。
【解決手段】下記(i)〜(v)により定義付けられたハイドロタルサイト粒子よりなる受酸剤及びそれを配合したハロゲン含有樹脂・ゴム組成物。(i)特定の化学構造式を有し、(ii)レーザー回折散乱法により測定された平均粒子径が0.2〜2μであり、(iii)BET法により測定された比表面積が1〜50m/gであり、(iv)Na金属に換算して0.06重量%以下含有し、(v)珪素化合物、リン酸化合物および硼素化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種が、それぞれSi、PおよびB原子に換算して0.05重量%〜3重量%表面に存在する。 (もっと読む)


【課題】 層間絶縁膜平坦化、シャロートレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のCMP技術において、酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷を発生させずに短時間でCMPが実施できる球状酸化物微粒子の製造方法、球状酸化物微粒子を用いた研磨材、研磨材を用いて研磨する基板の研磨方法及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 球状前駆体を加熱処理することを特徴とする球状酸化物微粒子の製造方法、球状酸化物微粒子用いた研磨材、研磨材を用いて所定の基板を研磨する基板の研磨方法及び半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】層間絶縁膜平坦化、シャロートレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のCMP技術において、酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷を発生させずに短時間でCMPが実施できる微粒子、研磨材、及びそれを用いた基板の研磨方法、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】金属化合物を含有する溶液を微細に液滴化し、該液滴を300℃以上で加熱処理することによって作製された結晶の歪が3%以下であることを特徴とする金属酸化物微粒子。 (もっと読む)


【課題】官能基化されたアルミナ粒子、その製造方法及びそれを含有する組成物を提供する。
【解決手段】この粒子は、式A−R−Qの少なくとも1つの酸であって、式中、AがSO3H、PO32又はPO22であり、Rが有機接続基であり、QがOH、NH2、ビニル、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、NCO、CO2H、SH又はエポキシなどの反応性部分である少なくとも1つの酸によって表面処理されたアルミナ粒子を含む。この粒子をポリマーマトリクスに組み込んで優れた機械的性能特性を有する複合材料を形成することができる。 (もっと読む)


本発明は、MX3・zLiAが溶媒中にあり、Mは、ランタンを含めたランタノイド、イットリウム、又はインジウムであり;z>0であり;X及びAは、独立に又は共に一価のアニオンであり、好ましくは、Cl、Br又はIである無水溶液に関する。当該溶液は、MX3又はその水和物と、z当量のLiAとを、水又は親水性溶媒又はそれらの混合溶媒に溶解又は懸濁させ、真空下で溶媒を除去し、得られる粉体を別の溶媒に溶解させることによって容易に調製される。MX3・zLiAの溶液は、例えば、グリニャール試薬のケトン類及びイミン類への付加反応に有利に用いることができる。MX3・zLiAの触媒的な使用も可能である。 (もっと読む)


【課題】
長時間あるいは繰り返しの熱履歴を経過しても、黄色度の増加が抑制され、かつ靭性などの機械物性が優れたポリアミド樹脂組成物およびその製造方法を提供。
【解決手段】
一般式AX Y 2 (Aは周期律表第1族金属元素あるいはCu、Ag、Ptのいずれかから選ばれる。BはAl、Fe、Te、Ti、Sc、In、Y、Ni、Co、Cr、Mn、Ga、Rhのいずれかから選ばれる。また0<X<4および0<Y<2である。)で示される金属化合物、および酸成分からなる金属化合物水溶液を、ポリアミド原料あるいはポリアミド溶融物の少なくとも一つに配合するポリアミド樹脂組成物を製造する方法であって、該金属化合物水溶液の金属化合物濃度が0.01〜10重量%でありかつ酸成分の含有量が金属化合物100重量部に対して10〜10000重量部であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 より優れた紫外線吸収性を発揮するとともに、良好な透明性を有し、例えば基材に内添もしくはコーティングした場合にも基材の透明性を損なうことがない、微粒子状金属酸化物を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる微粒子状金属酸化物は、Zn、TiおよびCeからなる群より選ばれる少なくとも1種を金属元素とする酸化物からなる粒子内にCu、Ag、Mnに由来する成分が含有されてなる。 (もっと読む)


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