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Fターム[4G169HA03]の内容

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Fターム[4G169HA03]に分類される特許

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【課題】光触媒を利用し、親水・撥水パターンを有するパターン形成体であって、親水性部分と撥水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。本発明によれば、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】 照射光量が少ない場合においても充分に励起して光酸化作用を発揮するばかりか予め有している所定の保水性を維持する光触媒体、および前記光触媒体を用いて汚染を防ぐ能力が低下しない外壁用建材に使用されるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】 可視光応答型光触媒、保水材およびバインダーをそれぞれ所定量ずつ含有して予め水との接触角に換算した親水性が5〜45度の範囲に調整されているとともに、可視光応答型光触媒が励起したときに、水との接触角を変化させずに可視光応答型光触媒による光酸化作用を生じさせる光触媒体とした。 (もっと読む)


【課題】光の透過性が高い薄片状酸化タングステン粒子を提供する。
【解決手段】層状タングステン酸ビスマス等と酸性化合物とを混合してビスマス等を溶出して得られた層状タングステン酸と、この層状タングステン酸に含まれる水素(H)に対して0.05〜3中和当量の範囲の塩基性化合物とを媒液中で混合して、層状タングステン酸に含まれる水素を脱離させるとともに塩基性化合物を層間に挿入させ、次いで、層を剥離させて、製造する。
このようにして製造した薄片状酸化タングステン粒子は、紫外可視光吸収スペクトルにおいて、波長250〜280nmの範囲に吸光ピークを有し、波長300〜800nmの範囲では吸光ピークを有さない。また、好ましい薄片状酸化タングステン粒子は、最長幅及び最短幅がそれぞれ10〜10000nmの範囲にあり、厚みが0.5〜10nmの範囲にある。 (もっと読む)


含水酸化チタン(HTO)および過酸化水素(H2O2)を、溶液中、揮発性塩基触媒の存在下で反応させて、ペルオキソチタン錯体(PTC)を形成させることにより、二酸化チタン粒子の溶液を調製する。溶液は少なくとも2倍に希釈する。次に、揮発性触媒の一部を蒸発により溶液から除去して、二酸化チタンと、粒子に吸着したPTCとを含む粒子を形成させるが、その後、溶液は約7のpHを有しかつ透明となる。溶液中の粒子は、-60〜-80mVのゼータ電位、10nm〜25nmの粒度、および、4重量%を上回る、例えば6〜8重量%の濃度を有し得る。
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【課題】流体中を移動する移動体の速さ及び/又は方向を任意に制御することができる流体制御方法を提供する。
【解決手段】移動体の表面に所望の速度に対応した疎水性コーティング及び親水性コーティングによる塗り分けを実施する。または、移動体の表面に両親媒性コーティングを予め塗布しておいて、そのコーティング面(制御面)に熱、光または磁場を作用することによりその制御面を所望の速度に対応した疎水性または親水性に変える。 (もっと読む)


本発明は、1m/gを下回る比表面積及び50ppmを下回る不純物の割合を有するシリカ粒子の製造方法に関し、この場合、この方法は、a)シリカ粉末が15〜190g/lの突き固め密度を有すること、b)この粉末を引き続き微粉砕されるスラグに圧縮し、その際、このスラグ片は210〜800g/lの突き固め密度を有していること、及びc)このスラグ片を1種又はそれ以上の反応性化合物で400〜1100℃で処理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】化学的に安定で光活性の高い結晶面に配向した一次元構造のペロブスカイト型酸化物が基板に対して垂直方向に配向している機能性材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材の表面に形成される被膜からなる機能性材料であって、前記被膜にペロブスカイト型酸化物の柱状物質を含み、前記柱状物質の長手方向がペロブスカイト型結晶の(110)方向に配向している機能性材料。
前記ペロブスカイト型酸化物の柱状物質が単結晶であり、また前記ペロブスカイト型酸化物の柱状物質の長手方向が基材に対して垂直方向に配向している機能性材料。 (もっと読む)


【課題】防藻性能、NOxなど有害なガス分解性能が良好で、耐候性にも優れる光触媒複合材を提供する。
【解決手段】基材上に、有機防カビ剤を含む中間層と光触媒層とを備えた構造とする。光触媒層は、1質量部以上20質量部未満の光触媒粒子と、70質量部超え99質量部以下の無機酸化物粒子と、銅元素と、銀元素と、任意成分として0質量部以上10質量部未満の加水分解性シリコーンを、光触媒粒子、無機酸化物粒子、および加水分解性シリコーンの合計量が100質量部となるように含んでなる。 (もっと読む)


【課題】中間層に対する浸食を防止しながら、優れた耐候性および有害ガス分解性、ならびにその他の所望の特性(紫外線吸収性、透明性等)を発揮する光触媒塗装体および光触媒コーティング液が提供される。
【解決手段】この光触媒塗装体は、基材と、基材上に設けられる中間層と、該中間層上に設けられる光触媒層とを備えてなる。光触媒層は、5質量部以上15質量部以下の光触媒粒子と、75質量部を超え95質量部以下の無機酸化物粒子と、銅元素と、銀元素と、0質量部以上10質量部未満の加水分解性シリコーンとを、光触媒粒子、無機酸化物粒子、および加水分解性シリコーンの合計量が100質量部となるように含んでなる。 (もっと読む)


本発明は、気相からの酸化チタン層の基板への真空に基づく堆積方法であって、含酸化チタン源から含酸素雰囲気下において500℃より低い基板温度で、25nm/秒より低い堆積速度で堆積が行われ、該堆積後に、少なくとも30分の間、含酸素雰囲気下で200℃から1000℃の間で、コーティングされた基板が熱処理されることを特徴とする方法に関する。 (もっと読む)


【課題】光触媒性部材からなる脱臭フィルターの脱臭能力が受ける空気中の湿度影響を低減すること。
【解決手段】送風手段ならびに紫外線照射手段および光触媒性部材からなる脱臭フィルターを有する脱臭デバイスにおいて、少なくとも室温における湿潤雰囲気下で被分解物を含む空気を光触媒性部材からなる脱臭フィルターへ送風開始する過程の前に、湿度によりおよぼされる脱臭速度への影響を低減するために、少なくとも0.27〜5.4J/cm紫外線を照射する過程を有する。 (もっと読む)


【課題】
防藻性能、NOxなど有害なガス分解性能が良好で、耐候性にも優れる光触媒複合材を提供する。
【解決手段】
基材上に、有機防カビ剤を含む中間層と光触媒層とを備えた構造とする。光触媒層は、1質量%以上20質量部未満の光触媒粒子と、70質量部以上99質量部未満の無機酸化物粒子と、任意成分として0質量%以上10質量部未満の加水分解性シリコーンを、光触媒粒子、無機酸化物粒子、および加水分解性シリコーンの合計量が100質量部となるように含んでなる。 (もっと読む)


【課題】機能を発揮するために紫外域の光が必要な光触媒性材料に対する紫外線や近紫外線の照射が中断又は停止しても、光触媒性材料のもつ超親水性や酸化分解活性といった光触媒機能を持続することが可能な光触媒ガラス部材を提供すること。
【解決手段】機能を発揮するために紫外域の光が必要な光触媒層と、該光触媒層の下面に設けた蓄光材層とからなる光触媒ガラス部材。蓄光材層は、可視光の波長以下の光を透過するガラスに、紫外域に発光スペクトルの極大値がある光を発光する蛍光性粉末及び/又は蓄光性粉末を混合・分散してなる発光ガラスであり、光触媒層は、前記蓄光材層から発光される光により光励起される光触媒性材料からなる。 (もっと読む)


【課題】容易に酸化チタン薄膜を製造できる酸化チタン薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化チタン薄膜の製造方法は、液相レーザーアブレーションによりアナターゼ型の酸化チタンの微粒子を含む酸化チタン水溶液を作製する微粒子作製工程と、ルチル型の酸化チタン層に紫外線を照射する照射工程と、酸化チタン層上にアナターゼ型の酸化チタンの微粒子及び水を含む酸化チタン水溶液を塗布する塗布工程と、酸化チタン水溶液の水を蒸発させて乾燥する乾燥工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】短時間の通水性を有し、シート表面に多孔を有するにもかかわらず軟質であり、シートとして取り扱い易く、かつ光触媒の分解性能を有するシートの提供。
【解決手段】樹脂シート上に、光触媒層と、プライマー層とを少なくとも有する積層シートの表面に孔を設ける。また、樹脂シート上に光触媒層と、プライマー層とを少なくとも有する積層シートの表面に、針またはピン状の突起を表面に有したロールを用いて孔を形成する方法。 (もっと読む)


【課題】触媒窒素ドープ酸化チタン薄膜を低温プロセスで高速かつ安価に成膜する。
【解決手段】金属Tiターゲット15をバッキングプレート14にセットする。装置内のガスを排気した後、導入口11からアルゴンガスを導入すると共に、導入口18から反応性ガスを導入する。電源12をONとする。ターゲット15間に発生したプラズマによってターゲット15がスパッタリングされ、はじき飛ばされたスパッタ粒子は、アルゴンの強制流によって基板16まで輸送され、反応性ガスと反応すると共に基板16表面に堆積する。ガスフロースパッタリングでは、成膜時の圧力が高く、かつ、ターゲット表面側から基板側に不活性なキャリヤガスの強制流が流れている。従って、酸素ガスによってターゲット表面が酸化さることが防止され、メタル状態に維持されたターゲット表面をスパッタリングすることになり、高速成膜が可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、貯蔵安定性が良好で、かつ金属基材との密着性や耐食性が大幅に改善することができる新規なチタン・ジルコニウム膜形成用塗布剤、チタン・ジルコニウム膜形成方法及びチタン・ジルコニウム膜で被覆された金属基材を提供することである。
【解決手段】本発明は、(A)加水分解性チタン化合物、加水分解性チタン化合物の低縮合物、水酸化チタン及び水酸化チタンの低縮合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のチタン化合物、及び(B)加水分解性ジルコニウム化合物、加水分解性ジルコニウム化合物の低縮合物、水酸化ジルコニウム及び水酸化ジルコニウムの低縮合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種のジルコニウム化合物を過酸化水素水と反応させて得られるチタン・ジルコニウム含有水性液を含有するチタン・ジルコニウム含有膜形成用塗布剤である。また、本発明は、チタン・ジルコニウム膜形成方法及び該塗布剤による被膜が形成された被覆金属基材である。 (もっと読む)


【課題】可視光及び微弱な紫外光の下で光触媒活性を示し、耐久性が高い光触媒塗膜、光触媒塗膜の形成に用いられるコーティング剤、及び光触媒塗膜形成方法を提供すること。
【解決手段】まず、鱗片状の酸化チタン微粒子5と、含硫黄化合物と、バインダーとしてのチタンアルコキシド7と、を含むコーティング剤を調製する。次に、そのコーティング剤を基材3の表面にスピンコート法により塗布、乾燥し、400〜600℃の温度に加熱することで、光触媒塗膜1を形成する。 (もっと読む)


【課題】表面に付着した多種多様な性質の堆積物または汚染物を降雨または流水に曝すだけで容易に洗い流すことができる、自己浄化性部材およびその製造に用いられるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】多孔性表面1を備えた部材からなる自己浄化性部材であって、拡張収縮法による動的接触角測定により測定された、前記表面1層における、前進接触角θaと後退接触角θrの差である接触角ヒステリシスΔθ(=θa−θr)が80°以上であって、かつ、後退接触角θrが25°以下であり水がもたらされることにより水膜が形成されるとともにイオン性または反応性の汚染物質が固着せずに洗い流される、自己浄化性部材。 (もっと読む)


【課題】
光触媒自体のエネルギーバンドギャップを変えることなく、光を吸収して作用を提供する材料を提供する。
【解決手段】
半導体物質を主要成分とし、かつ一表面を有する第1部分と、該第1部分の表面の少なくとも一部分に付着し、有機分子と、無機分子と、染色分子と、高分子との4者の内の少なくとも一つを含む第2部分とを含み、 該第2部分の価電子帯と伝導帯との間のエネルギーバンドギャップが0.1電子ボルトと等しいか、もしくは0.1電子ボルトより大きい(≧0.1eV)。 (もっと読む)


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