本発明は、１，１，１，３，３−ペンタクロロプロパン（ＨＣＣ−２４０ｆａ）と、四塩化炭素とを含む共沸組成物および共沸様混合物、並びに、該共沸様混合物を分離する方法に関する。本発明の組成物は、ＨＦＣ−２４５ｆａ生産の中間体として有用である。後者は、溶媒、発泡剤、冷媒、洗浄剤およびエアロゾル噴射剤として有用な、非毒性のオゾン層を破壊しないフルオロカーボンとして有用である。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置の部品の洗浄に際し、微量の金属などによる汚染に対しても、洗浄の終点を把握し、確実な洗浄を行なうことが可能な洗浄技術を提供する。
【解決手段】 洗浄装置１００では、金属等により汚染された部品３を洗浄槽１内の洗浄液２に一定時間浸漬しながら、循環ポンプ７の作用により取水管４から洗浄液２を連続的に採取し、セル６内を通過させ、再導入管５を通じて循環させる。この過程で、セル６内を通過する洗浄液２には、光源８から光が照射され、分光器１１および光量センサー９によって洗浄液２中の特定金属と発色試薬との金属−試薬複合体（錯体など）の存在が検知される。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性能を高めることが容易な洗浄剤組成物、及び保存安定性に優れる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】洗浄剤組成物は、水又はエタノールを主成分とする溶媒に、非イオン性界面活性剤と（Ｄ）アニオン性界面活性剤とが溶解されてなるものである。この洗浄剤組成物には、リモネン及びカチオン性界面活性剤のうち少なくとも１種を含有させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 油性汚れ、水性汚れ及びそれらの複合した汚れが付着した被洗浄物に対して、その形状によらず良好に洗浄でき、水等のリンス剤が不要で洗浄後にそのまま乾燥ができ、洗浄剤から汚れを分離して再使用できる低毒性で安全性の高い洗浄剤を提供する。
【解決手段】 プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル１００重量部、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．００１〜０．１重量部、及び任意にジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールから選ばれる１種以上の溶剤３０重量部以下からなる洗浄剤組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】従来の噴射力を維持又は増大させても、エアコンに設けられたフィンに対して噴射する際に、薬液の跳ね返りが少ないエアコン用スプレー製品を提供する。
【解決手段】噴射部において、噴孔を挟んだ対称位置に高さ０．１〜１ｍｍの一対の突起を設けて、楕円状に薬液を噴射する噴射部を備えることを特徴とする、エアコン用防汚、消臭スプレー製品。薬液の跳ね返りを少なくすることが出来るので、薬液を有効に塗布する事が可能。 （もっと読む）

従来技術（酸剥離）による部品の層範囲の除去方法では不均質な切除が行われるため、粗悪な結果を招く。それらの公知方法はまた、時間を要するものである。部品の層範囲を除去する本発明方法は、除去すべき層範囲をまず塩浴で、次いで酸浴で処理し、その部品を中間又は最終工程中に錯体生成物で処理する。塩浴に超音波を加えたり、酸供与体を添加したり、酸浴での処理後サンドブラストや流体研磨を行うことで、一層良好な結果を得ることができる。
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【課題】短時間の浸漬により内視鏡等の医療用機器の殺菌が可能な組成物の提供。
【解決手段】医療用機器を浸漬して殺菌するための水性組成物であって、過酸および界面活性剤を含有する水性組成物。 （もっと読む）

【課題】油脂類や塵埃の除去に効果があり、アクリル樹脂を含めた幅広い基材への影響がなく、適度な溶解力を有する溶剤組成物を提供する。
【解決手段】（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ６９質量％、（パーフルオロブトキシ）メタン ３１質量％とからなる共沸溶剤組成物。（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ５５〜８５質量％、および（パーフルオロブトキシ）メタン １５〜４５質量％を含有する共沸様溶剤組成物。（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ３０〜９０質量％、および（パーフルオロブトキシ）メタン １０〜７０質量％を含有する混合溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 リフローハンダ付け装置に配設されたラジエーター用の高性能な洗浄剤（ロジン系フラックスの分解・揮発成分に由来する樹脂状物質の除去効率が高く、またラジエーター部品の変質等を起こさない）を提供すること、および環境負荷を与えることなく簡易かつ効率的に当該洗浄廃液を処理する方法を提供することを。
【解決手段】 珪酸ナトリウムおよび／またはリン酸ナトリウムを有効成分とする水溶液からなる、リフローハンダ付け装置に配設されたラジエーター用の洗浄剤を用いる。また、当該洗浄剤で前記ラジエーターを洗浄した際に生ずる洗浄廃液に、酸または無機酸塩を添加することにより、当該廃液中の樹脂状物質を沈殿させることを特徴とする洗浄廃液の処理方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】 耐アルミ腐蝕性に優れた洗浄剤を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で示される有機アルカリ（Ａ）、アルキル基の炭素数が１〜６のトリアルキルアミン（Ｂ）、並びに数平均分子量３２〜５００の１価アルコール（Ｃ１）、数平均分子量６２〜２５０の２価アルコール（Ｃ２）、数平均分子量９２〜４００の３〜９価アルコール（Ｃ３）および該（Ｃ１）、（Ｃ２）もしくは（Ｃ３）の全ての水酸基を除いた残基と炭素数１〜８のアルキル基とから構成されるアルキルエーテル（Ｃ４）からなる群から選ばれる１種以上の親水性有機溶剤（Ｃ）を含有し、（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に基づく（Ｂ）の含量が０．０１〜１．０重量％であるアルカリ洗浄剤。
【化４】


式中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ⁷Ｏ）_p−Ｈで表される基であり、Ｒ⁷は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。 （もっと読む）

本発明は、蒸気圧縮式空調または冷凍システムから残留物を除去または低減するのに適した、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタンとポリオールエステルとから本質的になる組成物、およびその組成物を用いる方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、マイクロエレクトロニクス産業で有用な、フォトレジスト残渣および他の望まざる汚染を除去することにより半導体ウエハ基板を剥離または洗浄するためのアルカリ性組成物を提供する。その組成物は、（ａ）１種またはそれ以上の塩基、および、（ｂ）１種またはそれ以上の式：Ｗ_ｚＭＸ_ｙ（式中、Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ｐ、Ｂ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｒｈ、ＲｕおよびＳｂからなる群から選択される金属であり；Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群から選択されるハロゲン化物であり；Ｗは、Ｈ、アルカリまたはアルカリ土類金属および金属イオン不含水酸化物塩基部分から選択され；ｙは、ハロゲン化金属に応じて、４ないし６の数であり；そして、ｚは、１、２または３の数である）の金属腐食阻害性ハロゲン化金属化合物を含有する。 （もっと読む）

２種以上の揮発成分、特に、ＨＦＣ３６５ｍｆｃと、分子内におけるフッ素原子数の水素原子数に対する比が２以上の非塩素系フッ素化合物と、１種以上の高沸点の不揮発性成分からなる非共沸性多成分系組成物であって、洗浄性、乾燥性、安全性、環境保全性に優れ、かつ、長時間の使用わたって成分組成変動を容易に制御できる洗浄剤組成物として好適にもちいることができる組成物。 （もっと読む）

塩素原子を含有しない含フッ素化合物と、ゲラニオールおよびネロールの中から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有してなる洗浄剤組成物。この洗浄剤組成物において、ゲラニオールおよびネロールの合計量と、塩素原子を含有しない含フッ素化合物との重量比が１０／９０〜８０／２０の範囲であり、かつゲラニオールおよびネロールと塩素原子を含有しない含フッ素化合物の合計量が３０重量％以上であることが好ましい。この洗浄剤組成物は、特に、フラックス洗浄において、高い洗浄性能を示す。洗浄に際しては、汚染物質が付着した物品を上記洗浄剤組成物で洗浄し、次いで、塩素原子を含有しない含フッ素化合物を８０重量％以上含有するリンス溶剤でリンスし、さらに、好ましくは、塩素原子を含有しない含フッ素化合物を含む蒸気で被洗浄物を洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、ガスタービン洗浄剤を対象とする。本発明の組成物は、グリコールアルキルエーテル化合物と、炭素数約３〜１８のアルキル鎖長を有するアルコキシル化界面活性剤と、金属防食剤成分とを含む。 （もっと読む）

プリオンで汚染された医療機器の表面を処理する方法は、この表面と過酸化物イオン源を含む組成物（例えば、少なくとも１．５Ｍ過酸化物のモル濃度の過酸化水素（約５％過酸化水素と等価である）および好ましくは、約２Ｍ過酸化物（約７％過酸化水素））とを接触する工程を含む。上記組成物は必要に応じてゲル状である。上記組成物は上記表面との接触において、全てのプリオン汚染または実質的に全てのプリオン汚染が除去されるまで、約２時間保持される。
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