本発明は、表面上の汚れをクリーニングするために適当なクリーニング組成物に関する。本発明は、また、第1成分として本発明のクリーニング組成物と、第2成分として吸収剤とを含んでなる、表面、ことに汚れた表面をクリーニングするキットに関する。
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【課題】ウォータースポット形成抑制効果に優れ、貯蔵安定性や貯蔵後の洗浄性能に問題のない自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】両性高分子化合物を０．０５〜１０質量％含有する粒子（Ａ）を５〜９０質量％、無機過酸化物粒子（Ｂ）を５〜７０質量％、及び漂白活性化剤粒子（Ｃ）を０．１〜５質量％、含有する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】メタリン酸カリウムの溶け残りや衣類への付着を引き起こすことなく、漬け置きしない場合、漬け置きした場合のいずれにおいても、被洗浄物間の良好なスベリ性が維持され、軽い力で洗濯できることや洗濯物を擦る速度（時間当たりの擦り回数）が増加することなどで手洗い洗濯し易くする洗濯用スベリ性改善剤造粒物及び該洗濯用スベリ性改善剤造粒物を含有する洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記条件で測定した水溶液の粘度が２００ｍＰａ・ｓ以上のメタリン酸カリウムを含有してなる洗濯用スベリ性改善剤造粒物〔水５０ｍＬにメタリン酸カリウム２ｇを添加し、１分間攪拌し、そこに、トリポリリン酸ソーダ（下関三井化学（株）製）４ｇを水５０ｍＬに溶解した溶液を加え、３時間攪拌し、Ｂ型粘度計で２５℃での粘度を測定する〕及び前記洗濯用スベリ性改善剤造粒物を含有する洗剤組成物。 （もっと読む）

本発明は、下記成分を下記の体積分率で分散して成る水を含むベース液相を含む表面活性成分組成物であって、ベース液相には塩化ナトリウム及びアルキルエーテル硫酸ナトリウムが溶解され、ベース液相と塩化ナトリウム及びアルキルエーテル硫酸ナトリウムとの比が、1:1:1.5〜1:1:5の範囲内である、表面活性成分組成物を提供する。
塩化ナトリウム：1〜3%、マグネシウム：1〜2%、カルシウム：1〜2%、カリウム：1〜2%、サルファート：1〜2%、炭素：0.5〜1%、ニトラート：1〜2%、ホスファート：1〜2%。更に、本発明は該組成物を製造するプロセスと該組成物の使用を提供する。 （もっと読む）

【課題】次亜塩素酸ナトリウムのような含ハロゲン物質を使用すること無く、蛋白質等の有機汚染物質を除去すると共に殺菌効果を併せ持ち、更には水へ溶解した際に析出物の生成が無く保存安定性に優れた、人工透析装置用洗浄剤を提供する。
【解決手段】過炭酸ナトリウム及び珪酸ナトリウムからなり、過炭酸ナトリウムの配合重量比率が珪酸ナトリウムに対し、０．１〜１．３であることを特徴とする人工透析装置用洗浄剤であり、これを０．０５〜１７重量％の水溶液として人工透析装置を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】硫酸バリウムや硫酸カルシウムを含んだデポジットに対して短時間で充分な洗浄効果を発揮することができる工程水系の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の工程水系の洗浄方法は、炭酸塩、リン酸塩及びホスホン酸塩の少なくとも１種を含み、ｐHが8以上とされた第１洗浄液を硫酸バリウム及び／又は硫酸カルシウムを含んだデポジットが存在する工程水系に流通させる（第１洗浄工程）。その後、工程水系に塩酸、硝酸、スルファミン酸、有機酸等を含む第2洗浄液を流通させる（第２洗浄工程）。 （もっと読む）

【課題】硫酸バリウムや硫酸カルシウムを含んだスケールに対して短時間で充分な洗浄効果を発揮することができる紙・パルプ製造工程用洗浄剤及び紙・パルプ製造工程用洗浄剤系の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の紙・パルプ製造工程用洗浄剤は、炭酸塩、リン酸塩及びホスホン酸塩の少なくとも１種と、アミノカルボン酸塩型キレート剤とを有効成分として含む。この紙・パルプ製造工程用洗浄剤を紙・パルプ製造工程系中に添加し、ｐＨを８以上とすることによって、デポジット中の硫酸バリウムや硫酸カルシウムを溶解除去する。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程とバッチ式焼鈍を含む鋼帯の製造工程において、高い洗浄性とバッチ式焼鈍後の鋼帯の密着度を低減できるバッチ式焼鈍鋼帯用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】珪酸塩（ａ）、グルコン酸及び／又はその塩（ｂ）、並びに水を含有するバッチ式焼鈍用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板及びガラス基板をエッチングせずに、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ケイ素粒子のような種々の粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板洗浄液組成物を用いて、物理力を併用して半導体基板を洗浄することを特徴とする、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】オフセット印刷機における圧胴上の汚れを簡便に除去することができる手段を提供し、洗浄性および安全性に優れた圧胴洗浄剤を提供する。
【解決手段】多糖類の二塩基酸モノエステル誘導体、モノテルペン系炭化水素及び脂肪酸トリグリセリドから選ばれる少なくとも一種の化合物、研磨剤、並びに水を含有することを特徴とする乳化型圧胴洗浄剤。 （もっと読む）

本発明の対象は、衛生領域において生物により生み出された妨げとなるにおいを抑制するための硝酸塩の使用である。 （もっと読む）

【課題】銅配線を腐食させることなくウエハ基板上の残渣を除去し、硬化したレジストや反射防止膜を容易に除去するための前処理液を提供する。
【解決手段】アミノポリカルボン酸、アンモニウムイオン及び過酸化水素を含有し、さらに過酸化水素の安定剤を添加して、ｐＨを５〜１１に調整した洗浄液を用いてウエハ基板を処理することにより、レジスト剥離液によるレジストの除去または反射防止膜除去液による反射防止膜の除去を容易にする。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ又はスパッタ装置のシールド基材であるアルミニウム又はステンレンスにダメージを与えることなく、シールドに付着した金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅等を除去する。
【解決手段】フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム及びフッ化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ素化合物を０．１〜１０重量％、リン酸及び／又はリン酸塩を１〜５０重量％、過酸化水素を０．５〜３５重量％、並びにフッ酸を５重量％以下含有し、残部は水であり、かつ系中のフッ素成分中のフッ素量に対する過酸化水素の重量比（過酸化水素／フッ素）が４以上である半導体製造装置洗浄用組成物を用いて、金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅からなる付着物の少なくとも一種が付着してなる半導体製造装置を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム膜の表面にリン原子を含有する保護膜を形成し得る含リン洗浄剤組成物、アルミニウム配線の表面にリン原子を含有する保護膜を有する半導体素子、及び半導体素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】保護膜形成試験において、アルミニウム膜の表面に保護膜を形成する含リン洗浄剤組成物であって、該保護膜がその表面から厚さ方向に少なくとも５ｎｍ以内の領域にリン原子を含有するものである、含リン洗浄剤組成物、アルミニウム配線の表面に保護膜を有してなる半導体素子であって、該保護膜の表面からその厚さ方向に少なくとも５ｎｍ以内の領域にリン原子を含有する半導体素子、及び半導体素子のアルミニウム配線に、前記の含リン洗浄剤組成物を接触させて、該アルミニウム配線の表面にリン原子を含有する保護膜を形成させる工程を有する半導体素子の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、合成ミクロゲルポリマーを含み、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物を提供する。特に、この組成物は、特に清浄化または濯ぎ操作において有用である硬質表面の親水性化を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 小売り店および専門店で販売されるような、スポンジ、布および／もしくはスポンジ、紐、および／またはストリップモップおよび床用布を含む当該技術で既知の従来型用具とともに使用することができる汚れエントレインメント系を含有する硬質表面洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、最も好ましい実施形態では、溶液は、有効量の高吸収性材料を含む洗浄用パッドとともに使用され、上記パッドは、好ましくは、取っ手を含む洗浄用用具の一部であり、上記洗浄用パッドは、好ましくは取り外し可能である。かかる洗浄用パッドとともに洗浄剤組成物を使用する方法、および洗浄剤組成物および洗浄用パッドの両方を含有するキット。 （もっと読む）

（a）水溶性培地において溶解して銅イオンを形成することができる少なくとも1つの水溶性銅化合物；（b）水溶性培地において溶解してアンモニウムイオンを形成することができる少なくとも1つの水溶性アンモニウム剤；（c）少なくとも1つの水溶性酸、および（d）成分（a）、（b）および（c）が溶解する水溶性培地、（e）酸性pHおよび（f）50 mVを上回る分解電圧を含む抗菌製剤 （もっと読む）

例えば洗剤、クリーナーまたは化粧品であり得る、酸化剤含有芳香性消費財を記載する。該消費財は、ある種の物質からなる香料を一定最低量含む。それらは、消費財の芳香および酸化剤の有効性のいずれに関しても、非常に良好な（貯蔵）安定性を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウォータースポット形成抑制効果に優れ、貯蔵安定性や貯蔵後の洗浄性能に問題のない自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】陽イオン性基を有するモノマー構成単位及び陰イオン性基を有するモノマー構成単位を含み、モル比〔陽イオン性基の総モル数〕／〔陰イオン性基の総モル数〕が３０／７０〜９０／１０である高分子化合物（ａ）を０．０５〜１０質量％含有する粒子（Ａ）を含有し、且つ前記高分子化合物（ａ）の組成物中の含有量が０．０５〜１．５質量％である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】製造時には粉体混合物が溶解や粘度上昇により混合装置内壁面へ付着することなく、均一混合が可能であり、かつ得られた組成物の粉体流動性が良好で、保存安定性に優れる、食器洗浄機用粉体洗浄剤組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】水素結合による吸水性を有する粉体の有機高分子化合物、自由水を結晶水として取り込むことが可能な有機粉体化合物、及び自由水を結晶水として取り込むことが可能な水溶性無機粉体化合物からなる群より選ばれる１種以上の粉体化合物（Ａ）を攪拌させながら、アミノ基及び４級アンモニウム基から選ばれる基を１種以上有するモノマー単位（ａ）を含む水溶性高分子化合物（Ｂ）を含む水溶液を加えて、該水溶液中の水を（Ａ）成分へ水素結合によって、あるいは結晶水として取り込ませる工程（Ｉ）を有する、食器洗浄機用粉体洗浄剤組成物の製造方法。 （もっと読む）