【課題】両末端ビニル基のジエン系化合物とハイドロジェンハロシランをヒドロシリル化反応させて末端ハロシリル化鎖状炭化水素を収率よく迅速に製造する方法、および、末端以外の位置でシリル化された鎖状炭化水素と二重結合の内部転移異性体の副生が抑制されたヒドロシリル化反応を提供する。
【解決手段】両末端にビニル基を有するジエン系化合物とハイドロジェンハロシランを脂肪族三重結合を有しないエーテル化合物存在下でヒドロシリル化反応させる。 （もっと読む）

本発明は、周期律表の第15又は16族から選ばれる少なくとも1以上の環原子を有する5員多原子環に縮合するシクロペンタジエニル環を有してなる多環状へテロ原子含有縮合環化合物を含有してなる金属錯体、重合触媒及びそれらを用いるオレフィン重合方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

（Ａ）式（Ｉ）-X-SiR"x(OR')3-x［式中、Ｒ′は、水素、アルキルまたはシクロアルキルを表し、その際、炭素鎖は隣接していない酸素基、硫黄基またはＮＲａ基により中断されていてもよく、その際、Ｒａは、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルを表し、Ｘは、２〜２０個の炭素原子を有する線状および／または分枝鎖状のアルキレンまたはシクロアルキレン基を表し、Ｒ″は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラルキルを表し、その際、炭素鎖は、隣接していない酸素基、硫黄基またはＮＲａ基により中断されていてもよく、ならびにｘは、０〜２である］の反応性の基を少なくとも２つ有する化合物（Ａ１）および／または（Ａ１′）の少なくとも１つを、被覆剤中の不揮発性物質の含有量に対して少なくとも５０質量％、（Ｂ）−Ｓｉ（ＯＲ′）３−ｘ単位を架橋するための触媒、および（Ｃ）有機溶剤または有機溶剤の混合物を含有し、被覆剤の硬化の際に、反応性の基（Ｉ）は、ナノインデンテーション法による試験において、硬化した層が次の特性を生じるように架橋する被覆剤：ａ．弾性体積上昇率＞８６．５％、ｂ．塑性変形＜３．５％、ｃ．破壊による変形＜１０．０％。 （もっと読む）

【解決手段】 シラノール部位を有するかご状オリゴシロキサンと下記一般式（１）で表されるオルガノアシロキシシランとを反応させることを特徴とするかご状オリゴシロキサンの修飾方法。
【化１】


（式中、Ｒ¹は置換又は非置換の炭素数１〜４０の１価炭化水素基あるいは水素原子であり、同一分子における複数のＲ¹は互いに異なっていてもよい。Ｒ²は置換又は非置換の炭素数１〜２０の１価炭化水素基を表す。ｎは０〜３の整数を表す。）
【効果】 本発明の方法により、かご状オリゴシロキサンの修飾を温和な条件下で行うことができるため副反応が抑制され、高収率である。また、様々な官能基を導入することができるため汎用性が高く、副生成物が少なく、反応の後処理が簡便である。 （もっと読む）

【課題】 α−ハロエステル基を官能基として有するシルセスキオキサン誘導体を得るための従来の製造方法は、末端が水酸基である有機基を有するシルセスキオキサン誘導体を原料とし、これにα−ハロカルボニルハライドを反応させてエステル化する方法であった。しかしながらこの方法は、末端が水酸基である有機基を有するシルセスキオキサン誘導体を得るのに長い工程が必要であるため効率的でなかった。本発明の目的は、このシルセスキオキサン誘導体を効率的に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 化合物（３）又は化合物（４）に化合物（５）を反応させることを特徴とする式（１）で示されるケイ素化合物の製造方法。Ｒ^１は水素、アルキル、アリール又はアリールアルキルであり、Ａ^１はα−ハロエステル基を有する基であり、Ｍは１価のアルカリ金属原子である。







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オキサホスフォリン化合物の性能が付与された、新規なリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物、特にポリエステル樹脂またはポリカーボネート樹脂組成物や、コーティング用組成物であって、分子中に、ケイ素原子に結合した下記一般式（１）で表されるリン含有基（Ｘ基）を有することを特徴とするリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物やコーティング用組成物などが提供される。
一般式（１）：

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【課題】 メタロセン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等を表し、Ｒ^５−Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、C１-２０のアルキル基等を表し、Ｒ^１０はハロゲン原子、アルキル基等を表し、Ｒ^１１は炭化水素基又は三置換シリル基を表し、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、ハロゲン原子、炭化水素基等を表す。）で示されるケイ素置換シクロペンタジエン化合物と式（２）


（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３及びＸ^４は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表し、ｎは０又は１を表す。）
で示される遷移金属化合物とを芳香族炭化水素溶媒を含む溶媒中で反応させることを特徴とする式（３）


（式中、Ｘ^５及びＸ^６は同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表す。）
で示されるメタロセン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機化合物を用いた半導体（有機半導体）が着目され、デバイスの研究開発とともに半導体材料の開発が行われている中で、基板との強い相互作用を有し、かつ結晶性薄膜を形成しうる材料を提供することを課題とする。
【解決手段】式 Ｒ−ＳｉＸ¹Ｘ²Ｘ³ （Ｉ）
（式中、Ｒは、単環の芳香族炭化水素に由来する基であるユニット、単環の複素環化合物に由来する基であるユニット、及びこれら両ユニットが３〜１０個結合したπ電子共役系の有機残基であり、少なくとも1つ以上の側鎖を有しており、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基である）で表される側鎖含有型有機シラン化合物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ビス（アルコキシシリルオルガニル）ポリスルフィドの還元的分解のための方法であって、必要な金属触媒のための更なる被毒防止試薬、例えば水、アルコール又は硫化水素を使用しないで、高い転化率を可能にする方法を提供する。
【解決手段】メルカプトオルガニル（アルコキシシラン）を製造するにあたり、ビス（アルコキシシリルオルガニル）ポリスルフィドと水素及び遷移金属触媒とを溶剤中で、アルコール、Ｈ_２Ｓ又は水を添加せずに水素添加させる。 （もっと読む）

【課題】 新規なシランカップリング剤及び基板、並びに表示性能の高い液晶素子を提供する。
【解決手段】 誘電率異方性が負である部位を有するシランカップリング剤、該シランカップリング剤が共有結合により固定された基板である。また、前記基板と、該基板に支持される液晶層とを有する液晶素子である。 （もっと読む）

【課題】 膜厚が均一で、かつ分子配列の秩序性が高い単一単分子膜およびその累積膜、およびそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式；Ｓｉ(Ａ^１)(Ａ^２)(Ａ^３)−Ｂ−Ｓｉ(Ａ^４)(Ａ^５)(Ａ^６)（Ａ^１〜Ａ^６は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキル基であり、脱離反応性についてＡ^１〜Ａ^３＞Ａ^４〜Ａ^６の関係を満たす；Ｂは２価の有機基である）の有機化合物を用いた有機薄膜。上記有機化合物におけるＡ^１〜Ａ^３を有するシリル基と基板表面とを反応させ、単一単分子膜を形成する工程、未反応の有機化合物を非水系溶媒を用いて洗浄除去する工程、および単分子膜の膜表面側に存在する未反応のシリル基を吸着反応のサイトとして、上記の有機化合物からなる単分子膜を累積させる工程を含む有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ビス（アルコキシシリルオルガニル）ポリスルフィドの還元的分解のための方法であって、必要な金属触媒のための更なる被毒防止試薬、例えば水、アルコール又は硫化水素を使用しないで、高い転化率を可能にする方法を提供する。
【解決手段】メルカプトオルガニル（アルコキシシラン）を製造するにあたり、ビス（アルコキシシリルオルガニル）ポリスルフィドと水素及び遷移金属触媒とを温度＜１９０℃及び圧力＜１００バールで、水、アルコール又はＨ_２Ｓを添加せずに水素添加させる。 （もっと読む）

【課題】高い抗菌性を有し、かつ、基材への固着性、特に耐水性が高い抗菌性化合物を提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）〔〔式中、Ｒ_１、Ｒ_４は、１から３０の炭素数を有するアルキル基、ベンジル基、１から３０の炭素数を有するアルキルベンジル基からなる群から選ばれる基であり、Ｒ_２は、１から１０の炭素数を有するアルキレン基であり、Ｒ_３は、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアシルオキシ基、塩素からなる群から選ばれる基であり、Ｒ_５はアリル基又は−Ｒ_２−Ｓｉ（Ｒ_３）_３であり、Ｘは、ハロゲン元素を示す。〕で示される抗菌性化合物。
【化１】
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【課題】有機溶媒と単量体との溶解性に優れ、かつ高誘電率を有する新たな有機／無機金属ハイブリッド物質及びこれを含む有機絶縁体組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される有機／無機金属ハイブリッド物質及びこれを含む有機絶縁体組成物。


式中、Ｒ^１〜Ｒ^６はアルキル基、アクリロイルオキシ基等を表わし、Ｍはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム等の金属原子を表わす。 （もっと読む）

【課題】 耐剥離性に優れ、かつ、高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜を作製するための化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ｈ−（Ｒ^１）_ｍ−ＳｉＲ^２Ｒ^３Ｒ^４（Ｒ^１は5員環および／または6員環の単環式炭化水素環で構成される縮合環数２〜１０の縮合多環式炭化水素化合物に由来する２価の有機基；ｍは２〜１０の整数；Ｒ^２〜Ｒ^４はそれぞれ独立してハロゲン原子または炭素数１〜４のアルコキシ基）のπ電子共役系有機シラン化合物。式；Ｈ−（Ｒ^１）_ｍ−ＭｇＸ^１（Ｒ^１およびｍは上記と同様；Ｘ^１はハロゲン原子）の化合物と、式；Ｘ^２−ＳｉＲ^２Ｒ^３Ｒ^４（Ｘ^２は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルコキシ基；Ｒ^２〜Ｒ^４は上記と同様）の化合物とをグリニャール反応させる上記有機シラン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、感光性保護基を含む化合物、及び固体支持体の官能化のためのカップリング剤としてのそれらの使用に関する。本発明はまた、前記化合物により官能化された固体支持体、及び核酸分子のような関心のある生物分子の固定のための同じものの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 耐剥離性に優れ、かつ、高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜、該薄膜を作製するための化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）の分子にシリル基が置換された有機シラン化合物。分子（Ｉ）をハロゲン化し、シラン誘導体を反応させる上記有機シラン化合物の製法。該有機シラン化合物分子が、基板側にシリル基が、膜表面側に分子（Ｉ）部分が位置するように、配列された有機薄膜。
【化１】


（ｘ１およびｘ２は１≦ｘ１、１≦ｘ２および２≦ｘ１＋ｘ２≦８を満たす；ｙ１およびｚ１は２〜８；ｙ２およびｚ２は０〜８；該骨格は疎水基が置換されてよい）。 （もっと読む）

【課題】 耐剥離性に優れ、かつ、高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜を作製するための化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ｚ−（Ｒ^１）_ｍ−ＳｉＲ^２Ｒ^３Ｒ^４（Ｚは5員環および／または6員環で構成される縮合環数２〜１０の縮合多環式複素環化合物に由来する１価の有機基；Ｒ^１は２価の有機基；ｍは０〜１０；Ｒ^２〜R^４はハロゲン原子または炭素数１〜４のアルコキシ基）のπ電子共役系有機シラン化合物。式；Ｚ−（Ｒ^１）_ｍ−ＭｇＸ^２０（Ｚ、Ｒ^１およびｍは上記と同様；Ｘ^２０はハロゲン原子）の化合物と、式；Ｘ^２１−ＳｉＲ^２Ｒ^３Ｒ^４（Ｘ^２１は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜４のアルコキシ基；Ｒ^２〜R^４は上記と同様）の化合物とをグリニャール反応させる上記有機シラン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的はリビングラジカル重合開始基を有するシランカップリング剤を開発することであり、これで処理することにより固体表面と付加重合性単量体との親和性を高め、極性の低いものから極性の高いものまでの様々なモノマーに対して高度に制御された表面開始グラフト重合を可能にする。
【解決手段】上記の目的は式（１）で示されるケイ素化合物によって達成される。式（１）において、Ａはα―ハロエステル基を有する基であり；Ｚは炭素数２〜３００のアルキレンであり；このアルキレンにおいて、炭素数が５であるとき１つの−ＣＨ_２−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、そして炭素数が５を超えるとき隣り合わない任意の−ＣＨ_２−が−Ｏ−で置き換えられており；そしてＸ^２はハロゲンである。

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