【課題】 高温ガス炉用微小粒子を製造する工程の内、微小粒子を流動床に装荷し、メチルトリクロロシラン（ＭＴＳ）を熱分解させることによりＳｉＣ層の被覆を施す工程において、キャリアガスの水素にＭＴＳを効率よく混合させるＭＴＳガス発生装置を得る。
【解決手段】 内部に液体状のＭＴＳを貯留するタンクと、該タンク内の液中に水素ガスを導入する水素導入管と、水素ガスとＭＴＳガスとの混合物を排出する混合ガス排出管とを備えたＭＴＳガス発生装置において、水素導入管がタンク内の液中に浸漬された泡発生手段を備えているもの。 （もっと読む）

本発明は、構造式：
【化１】


［式中：
Ｒ、Ｒ’、Ａ、Ａ’、Ｘ、ＹおよびＹは明細書の記載と同意義である］
を有する式（Ｉ）で示されるエストロゲン受容体モジュレーターまたはその医薬上許容される塩を提供する。 （もっと読む）

【課題】 密着性能の高い硬化性樹脂並びに湿気硬化型接着剤組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で表されることを特徴とするメルカプトシラン化合物（Ａ）及びそれを連鎖移動剤として共重合した硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物。
【化１】


但し、Ｘは加水分解性基又はヒドロキシル基を、Ｒ¹ は炭素数１〜２０個の置換若しくは非置換の有機基を、Ｒ² は分子量１００００以下の有機基を、ｎは０，１又は２を、Ａはウレタン結合、チオウレタン結合、ウレア結合、チオウレア結合、アミド結合、ヒドロキシル基、第１級アミノ基、第２級アミノ基及び第３級アミノ基よりなる群から選ばれた一種以上の結合及び／又は基を含む分子量１００００以下の有機基を、それぞれ示す。 （もっと読む）

式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｓ_ｎ−Ａｌｋ−ＳｉＲ_ｍ（ＯＲ）_３−ｍの有機シリコン化合物を製造する方法であって、式中、Ｒは、１〜１２炭素原子を持つ１価の炭化水素であり、Ａｌｋは、１〜１８炭素原子を持つ２価の炭化水素であり、ｍは、０、１、もしくは２であり、ｎは、２〜８、好ましくは３〜８である。該方法は一般的に、Ｍ_２Ｓ_ｎもしくはＭＨＳ（式中、Ｈは水素、Ｍはアンモニウムもしくはアルカリ金属、ｎは１〜８）のようなスルフィド化合物（Ａ）を、式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｘ（式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、もしくはＩ、ｍは、０、１、もしくは２）のシラン化合物（Ｂ）および硫黄（Ｃ）と加熱し反応させるステップからなる。ステップ（Ｉ）は相間移動触媒の存在下に実施され、水相が緩衝剤もしくは塩基性化合物を含有し、生成混合物を形成する。ステップ（ＩＩ）において、該生成混合物は約１〜３時間、８０〜１００℃、好ましくは８５〜９５℃、最も好ましくは８７〜９２℃へと再度加熱され、所望の有機シリコン化合物が、これを結果得られる生成混合物から分離することにより得られる。この結果として、向上した色合いを有する組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により形成できるとともに、基板表面に強固に吸着でき、かつ、高い秩序性（結晶性）および高密パッキング特性を有する機能性有機薄膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは水素原子がハロゲン原子によって置換されていてもよい１価脂肪族炭化水素基であって、ハロゲン原子によって置換されていない場合は炭素数１６〜３０、ハロゲン原子によって置換されている場合は炭素数１３〜２５のもの；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物を用いた機能性有機薄膜。上記有機シラン化合物のシリル基を加水分解して基板表面と反応させ、該基板に直接吸着した単分子膜を形成した後、該単分子膜上の未反応の有機シラン化合物を非水系有機溶剤を用いて洗浄除去する機能性有機薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 溶液プロセスを用いた簡便な方法により結晶化させて薄膜を形成できるとともに、得られた薄膜を基板表面に強固に吸着させて、物理的な剥がれを防止し、かつ、高い秩序性（結晶性）、高密パッキング特性、および優れた電気伝導特性を有する薄膜を作製可能な有機シラン化合物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式；Ａ−Ｂ−Ｃ−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ａは炭素数１〜３０の１価脂肪族炭化水素基；Ｂは酸素原子または硫黄原子；Ｃはπ電子共役を示す２価の有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）の有機シラン化合物。式；Ｈ−Ｃ−Ｈ（Ｃは上記と同義）の化合物に対してウィリアムソン反応により酸素原子または硫黄原子を介して炭化水素基Ａを導入した後、式；Ｘ^４−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ｘ^１〜Ｘ^３は上記と同義）の化合物との反応によりシリル基を導入する上記有機シラン化合物の製造方法。 （もっと読む）

繊維セメント適用においてセルロース繊維を処理するなど、広範囲のシラン処理操作のための低ＶＯＣシラノール添加剤を提供する。シラノール添加剤は、触媒存在下、シランを加水分解することにより作製してから、加水分解反応により遊離されるアルコールなどのＶＯＣを実質的に全て除去して、低ＶＯＣおよび／または実質的にアルコールを含まないシラノール添加剤を生成することにより作製する。低ＶＯＣシラノール添加剤は、製造施設においてＶＯＣ放出を増加させることなく、種々の工業的プロセスに使用できる。該シラノール添加剤は、従来の多くのシラン処理プロセスにおいてシランを加水分解するために必要とされる反応時間をなくすために、処理表面に直接適用することができる。該シラノール添加剤を、処理基材を含有する溶液に添加するか、または表面処理として直接適用することができる。
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【課題】 密着性に優れるシランカップリング剤溶液の製造方法、シランカップリング剤溶液を提供する。
【解決手段】 まず、有機ケイ素化合物を水と混合して、有機ケイ素化合物水溶液を調製する。そして、有機ケイ素化合物水溶液をアルコールと混合することによりシランカップリング剤溶液を製造する。このような製造方法によれば、従来と比べて、高いシラノール化率を実現でき、これに伴って優れた密着性を実現するシランカップリング剤を提供できる。 （もっと読む）

メルカプトシランを酸受容体の存在下で有機又は無機ハロゲン化物又は無水物と反応させ、得られた反応生成物を水又はブラインで洗浄して、２つの非混和性相、即ちブロックトメルカプトシラン生成物を含有する有機相と、酸受容体の塩を含有する水性相とを生成することにより、ブロックトメルカプトシランを製造することができる。水性相に塩基を加えることにより酸受容体のリサイクルを実現できる。本プロセスはバッチ式、連続式いずれで実施するのにも適当である。ブロックトメルカプトシラン化合物はゴム混合物にカップリング剤として使用される。 （もっと読む）

【課題】使用時の劣化の問題を防ぎ、潤滑剤、界面活性剤、撥水撥油剤等の表面改処理等として有用に用いうる化合物を提供する。
【解決手段】式［Ｗ−Ｑ^１（Ｏ）_e（ＣＨ_２）_f（ＣＦ_２）_gＯ（Ｑ^２）_h−］_aＹ［−Ｏ（Ｑ^２）_qＲ^Ｆ］_bで表され、式中に−（ＯＣＦ_２Ｏ）−構造が存在しない含フッ素エーテル。ただし、ａは２〜２０の整数、ｂは０〜１８の整数であり、かつ（ａ＋ｂ）は２〜２０の整数；Ｑ^１は単結合等；Ｑ^２は−ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−；ｅは０または１、ｆは０〜４の整数、ｇは１〜６の整数、ｈは０〜２００の整数。ただし、ｅとｇが１である場合のｆは１〜４の整数；ｑは３〜２００の整数；Ｒ^Ｆは１価のペルフルオロ化飽和炭化水素基またはエーテル性酸素原子を含む１価のペルフルオロ化飽和単価水素基；Ｙは（ａ＋ｂ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基、または、（ａ＋ｂ）価のペルフルオロ化飽和炭化水素基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基；Ｗは（ＣＨ_３Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_３−等の基。 （もっと読む）

【課題】電気材料として有用な導電特性を制御できる化合物である低分子量のπ電子共役系分子含有ケイ素化合物及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】下記式（１）
（式） Ａ¹−Ｂ−Ａ² （１）
｛Ａ¹はＳｉ−Ａ¹¹Ａ¹²Ａ¹³（Ａ¹¹〜Ａ¹³は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、及びアルキル基から選択される基である）で表されるシリル基であり、Ｂは、官能基を有していてもよい、π電子共役系の化合物に由来する有機基であり、Ａ²はＳｉ−Ａ²¹Ａ²²Ａ²³（Ａ²¹〜Ａ²³は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアルキル基から選択され、Ｓｉからの脱離反応性が、Ａ¹¹〜Ａ¹³より低い基である）で表されるシリル基である｝
で表される脱離反応性の異なるシリル基を２つ有することを特徴とするπ電子共役系分子含有ケイ素化合物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

官能基化カルボ-ケイ素化合物を、ヒドロシリル化触媒存在下、ヒドロシリル化促進条件下で、少なくとも１つのＳi-Ｈ官能基を有する加水分解可能ケイ素反応体；ならびに、第三炭素原子に付着していない場合、少なくとも１つの末端オレフィン官能基、および実質上ヒドロシリル化反応を妨げる能力を有することを特徴とする第二メチル官能基または炭素官能基を結合している第三炭素原子、を含む官能基化オレフィン反応体；を接触させる工程を含む製造方法によって、提供する。 （もっと読む）

本発明の対象は、一般式（ＩＩ）Ｒ¹_n（Ｘ）_3-n−Ｓｉ−Ｒ³−ＰＯ（ＯＲ⁴）（ＯＲ⁵）（ＩＩ）のホスホネート−シランを、一般式（ＩＩＩ）Ｒ¹_n（Ｘ）_3-n−Ｓｉ−Ｒ³−Ｈａｌ（ＩＩＩ）のハロゲン含有シランと、一般式（ＩＶ）Ｐ（ＯＲ⁴）（ＯＲ⁵）（ＯＲ⁶）（ＩＶ）のホスフィットとを反応させることに製造するにあたり、上記式中、Ｒ¹は、１〜２０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換の炭化水素基又は水素であり、Ｘは、加水分解可能な基又はＯＨであり、Ｒ³は、１〜１０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換のアルキレン基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ１〜２０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換の炭化水素基であり、Ｈａｌは、ハロゲン原子であり、かつｎは、０、１、２又は３の値である方法において、この反応の間にこの反応混合物の一部を連続的に又は繰り返して取出し、既に形成された生成物をこれから遊離させ、そしてこれをこの反応混合物の残部に返送する方法である。 （もっと読む）

【課題】
低屈折率で優れた硬度を有し、且つ、耐擦傷性、および防汚性に優れる含フッ素重合体を与える、含フッ素多官能モノマーを提供すること。さらに該含フッ素多官能モノマーを用いてなる反射防止膜を提供すること。該反射防止膜を用いた反射防止フィルム、画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
重合性基を３つ以上有する含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量の３５．０質量％以上であり、前記重合性基を重合させたとき、すべての架橋間分子量の計算値が３００以下であることを特徴とする、含フッ素多官能モノマー。 （もっと読む）

【課題】 簡便な製造方法により容易に結晶化させて有機薄膜を形成することができるとともに、得られた有機薄膜を基板表面に強固に吸着させて物理的な剥がれを防止して、かつ、高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜を作製できるπ電子共役系有機シラン化合物およびその合成方法を提供すること。
【解決手段】 Ｒ^１−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ｒ^１はσ^＊-π^＊共役系を形成する原子を含有する単環式複素環ユニットを含む有機基；Ｘ^１〜Ｘ^３は加水分解により水酸基を与える基）で表されるπ電子共役系有機シラン化合物。Ｒ^１−Ｌｉ（Ｒ^１は上記と同義）の化合物、またはＲ^１−ＭｇＸ^５（Ｒ^１は上記と同義；Ｘ^５はハロゲン原子）の化合物と、Ｘ^４−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３（Ｘ^１〜Ｘ^３は上記と同義；Ｘ^４は水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基）の化合物とを反応させる上記π電子共役系有機シラン化合物の合成方法。 （もっと読む）

本発明は、式（１）で示されるシルセスキオキサン誘導体を提供する。


（ここで、Ｒ^１は水素、アルキル、アリールまたはアリールアルキルであり；Ｒ^２およびＲ^３はアルキル、フェニルまたはシクロヘキシルであり；Ａは単量体に対して重合を開始させる能力を有する基である。）
本発明のシルセスキオキサン誘導体を用いて、重合体を形成することにより、新たな有機−無機複合材料が得られる。
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【課題】 低誘電率でかつクラック耐性、耐熱性、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）耐性に優れる、特に２．４以下の低い比誘電率を有する高信頼性の絶縁膜などの絶縁材料を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物などの特定のケイ素含有化合物、その加水分解物、または縮合物を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物及びそれを用いて形成される絶縁膜などの絶縁材料。
Ａ_nＳｉＸ_(4-n) （１）
式中、ｎは１〜３の自然数を表す。Ａは、置換基を有していても良い、炭素原子１１個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基であり、Ｘは加水分解性基を表す。 （もっと読む）

アルケニルアルコキシシラン（アリルトリメトキシシランなど）は、対応するモノアルケニルジクロロシラン（すなわち、アリルジクロロシラン）をモノヒドロキシアルコール（すなわち、メチルアルコール）と反応させることにより製造することができる。触媒は必要でなく、室温で反応を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】接着剤組成物に添加することで、その接着剤組成物に対して、長期間保存後も十分強固な界面接着強度を付与できるシラン化合物を製造するための製造方法を提供。
【解決手段】下記一般式（１）のアルキル（フェニル）シリルハライドと、下記一般式（２）等で表される特定のシリルエーテル化合物と、を反応させるシラン化合物の製造方法。


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式ＴＧ１３−Ｒで表される組成物、及び、式ＴＧ１４−Ｒで表される組成物。
【化１】

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