【課題】屈折率の高い低アッベ数の光学材料に適した硬化性組成物並びに硬化物を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、（Ｄ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素三重結合を１分子中に少なくとも１個有する芳香族化合物を必須成分とする硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】芳香環結合ハロゲン原子、Ｏ−ベンジル基、芳香族カルボニル基、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル基、エポキシ基、水酸基、トリアルキルシロキシ基、アルコキシ基及び／又は芳香族ニトロ基が同一化合物内に存在していてもこれらを水素化又は水素化分解することなく、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合及びアジド基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を選択的に水素化する触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を使用する水素化方法を提供する。
【解決手段】窒化ホウ素を含む担体と、該担体に担持されパラジウムを含む活性成分とを含む選択的接触還元用触媒。 （もっと読む）

本発明は中間体シロキサンモノマーの精製プロセス及び高分子量線状ポリシルアルキレンシロキサンを生成するための該モノマーの使用に関する。シロキサンモノマーは、シロキサンモノマー及び線状オリゴマーの混合物を形成する、酸性又は塩基性開環重合触媒の存在下で、以下に示す構造の環状モノマーの開環重合により調製される。線状オリゴマーを次に抽出及び廃棄した後、該中間体シロキサンモノマー混合物を出発物質として用いる開環重合のさらなるステップを行う。第２重合ステップは該シロキサンモノマー混合物の融点範囲内の温度で行う。中間体、最終生成物及びそれらの製造方法について記載する。

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【課題】水系製品中での分散安定性及び化学的安定性の両方に優れるケイ酸エステルの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるケイ酸エステル。


〔式中、ｍは０〜３の数であり、Ｙは、水酸基、−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｒ¹基、−Ｏ−Ｒ²基又は−Ｏ−Ｒ³基を示す。ＡはＣ２〜３のアルキレン基、ｎは１〜５０の数、Ｒ¹はＣ１〜２４の直鎖又は分岐鎖の飽和若しくは不飽和の炭化水素基、Ｒ²はＣ６〜２４の機能性アルコールから水酸基を１つ除いた残基、Ｒ³はＣ１〜３の炭化水素基を示す。一分子あたりの−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｒ¹基、−Ｏ−Ｒ²基、−Ｏ−Ｒ³基及び水酸基の平均置換モル数ｐ、ｑ、ｒ、ｓについて、ｐ、ｑはそれぞれ（ｍ×０．０５＋０．１）〜（ｍ×１．９５＋３．９）の範囲にある数であり、ｒ、ｓはそれぞれ０〜（ｍ×１．９＋３．８）の範囲にある数であり、ｐ、ｑ、ｒ及びｓの和は（ｍ×２＋４）である。〕 （もっと読む）

【課題】イオウを使用せず硫化水素が発生しないビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィド等の製造方法等を提供する。
【解決手段】触媒量のアルカリ金属アルコラート存在下でビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドとトリエタノールアミンの加熱によるビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドの製法、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ジスルフィドの混合物、ビス（シラトラニルアルキル）ポリスルフィドと（シラトラニルアルキル）（トリアルコキシシリルアルキル）ジスルフィドとビス（トリアルコキシシリルアルキル）ポリスルフィドの混合物、それらの製法。 （もっと読む）

【課題】適切な材料特性を有するポリシロキサン材料を作製すること。
【解決手段】新規なフルオロシロキサン含有モノマーが開示される。これは、コンタクトレンズのような生体医用材料の調製に特に有用である。ポリシロキサン含有モノマー中のシロキサン基に、末端ジフルオロ置換炭素原子に結合した水素原子を有する極性のフルオロ化グラフトまたは側基を結合しているフルオロシロキサン含有モノマーが開示される。このフルオロ化ポリシロキサンは、追加の混和剤または可溶化剤が必要とされなくなる程度に、親水性コモノマーに可溶化されている。 （もっと読む）

【課題】 乳化粒子の安定性に優れた乳化物を形成することのできる反応性非イオン界面活性剤、さらには煩雑な操作を行なうことなく、容易に調製することのできるマイクロカプセル組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される反応性非イオン界面活性剤。
Ｒ^１_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_ｍ（ＯＲ^３）_{４−（ｍ＋ｎ）} （１）
（式中、Ｒ^１は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｒ^２は多価アルコール残基、Ｒ^３は１価アルコール残基、ｎは１又は２、ｍは１〜３、２≦ｍ＋ｎ≦４であり、Ｒ^１における炭素数の和は８〜３６である。） （もっと読む）

本発明の対象は、一般式［２］（その際、Ｒ^１は、場合により置換された炭化水素基または＝Ｎ−ＣＲ^３_２基、Ｒ^２は、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基または計２〜１０個の炭素原子を有するω−オキサアルキル−アルキル基、Ｒ^３は、水素または場合により置換された炭化水素基であり、かつａは、０、１、２または３の値をとってよい）の少なくとも１つの構造エレメントを有するアルコキシシラン（Ａ）であって、ただし、一般式［２］中の窒素原子は第三級窒素原子であり、アルコキシシラン（Ａ）は少なくとも１つのさらに他の反応性官能基（Ｆ）を有し、該基を介してそれは有機の反応相手に結合されえ、その際、式［１］のシランは除外される。
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本発明は、光応答性を落とすことなく、成膜性に影響する構造部分や表面物性に影響する部位を柔軟に変換でき、比較的低エネルギーの波長光により表面変換が可能であり、再現性良く基板上に有機薄膜を形成できる化合物、及び有機薄膜形成体に関し、その化合物は式（１）で表される。（式中、Ｘは、ヘテロ原子を含み、金属又は金属酸化物表面と相互作用できる官能基を表し、Ｒは、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリール基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基等を表す。ｎは１〜３０の整数を表し、ｍは０〜５の整数を表す。Ｇ１は、単結合又は炭素数が１〜３である２価の炭化水素基を表す。Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｇ２は、Ｏ、Ｓ又はＮｒを表す。）

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【課題】高い抗菌性を有し、かつ、基材への固着性、特に耐水性が高い抗菌性化合物を提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）〔〔式中、Ｒ_１、Ｒ_４は、１から３０の炭素数を有するアルキル基、ベンジル基、１から３０の炭素数を有するアルキルベンジル基からなる群から選ばれる基であり、Ｒ_２は、１から１０の炭素数を有するアルキレン基であり、Ｒ_３は、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアシルオキシ基、塩素からなる群から選ばれる基であり、Ｒ_５はアリル基又は−Ｒ_２−Ｓｉ（Ｒ_３）_３であり、Ｘは、ハロゲン元素を示す。〕で示される抗菌性化合物。
【化１】
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本発明の対象は、一般式（ＩＩ）Ｒ¹_n（Ｘ）_3-n−Ｓｉ−Ｒ³−ＰＯ（ＯＲ⁴）（ＯＲ⁵）（ＩＩ）のホスホネート−シランを、一般式（ＩＩＩ）Ｒ¹_n（Ｘ）_3-n−Ｓｉ−Ｒ³−Ｈａｌ（ＩＩＩ）のハロゲン含有シランと、一般式（ＩＶ）Ｐ（ＯＲ⁴）（ＯＲ⁵）（ＯＲ⁶）（ＩＶ）のホスフィットとを反応させることに製造するにあたり、上記式中、Ｒ¹は、１〜２０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換の炭化水素基又は水素であり、Ｘは、加水分解可能な基又はＯＨであり、Ｒ³は、１〜１０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換のアルキレン基であり、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、それぞれ１〜２０個の炭素原子を有するハロゲン置換又は非置換の炭化水素基であり、Ｈａｌは、ハロゲン原子であり、かつｎは、０、１、２又は３の値である方法において、この反応の間にこの反応混合物の一部を連続的に又は繰り返して取出し、既に形成された生成物をこれから遊離させ、そしてこれをこの反応混合物の残部に返送する方法である。 （もっと読む）