【課題】トリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイド誘導体の提供。
【解決手段】本発明は、天然に存在するトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドおよびそれらの構造的アナログの調製のための方法であることを特徴とする。本発明はさらに、これらの方法によって調製され得るトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドの新規誘導体およびアナログを提供する。本発明はまた、種々の疾患、または炎症または炎症性応答、自己免疫疾患、慢性関節リウマチ、心臓血管疾患、または異常細胞増殖または癌に関連する症状の予防、改善および処置のためにトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドを用いる組成物および方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】電気特性の安定性に優れた有機薄膜トランジスタの製造方法と、有機薄膜トランジスタを提供すること。
【解決手段】基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極を有する有機薄膜トランジスタにおいて、有機半導体膜上に、（ａ）炭酸プロピレン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドから選ばれる少なくとも１つの有機溶剤と、（ｂ）該有機溶剤に可溶な有機化合物を含有する絶縁膜形成液を用いてウェットプロセスによりゲート絶縁膜を形成することを特徴とするトップゲート型有機薄膜トランジスタの製造方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】スズ化合物を用いることなく、緩やかな条件で、両末端に反応性官能基を有するシリコーン樹脂を得ることができる、シリコーン樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】両末端にシラノール基を有するシリコーン樹脂（Ａ）と、１分子中に少なくとも２個のアルコキシ基を有するアルコキシシラン（Ｂ）とを、１分子中に少なくとも１個のカルボキシ基を有するカルボン酸化合物（Ｃ）の存在下で反応させて反応生成物を得る工程と、上記反応生成物から副生成物を除去し、主生成物である両末端に反応性官能基を有するシリコーン樹脂（Ｄ）を得る工程と、を備えるシリコーン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機半導体層や発光層といった有機活性層を構成する有機機能性分子の規則的な配列の向上に資する液晶性化合物、配向性単分子膜、及び、配向性単分子膜の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶性化合物は、両末端に反応性基を備えている。液晶状態にて異方性を有し、ＳｉＯ_２基板等に両末端の反応性基が結合することで、液晶性化合物の分子が一定方向に、且つ、基板に沿って配列した配向性単分子膜が得られる。この配向性単分子膜上に有機半導体層や発光層といった有機活性層を形成することで、これらを構成する有機機能性分子も所望の配列をとることができ、電荷移動特性や発光特性の制御が可能である。 （もっと読む）

【課題】無水コハク酸基含有有機ケイ素化合物を安価で且つ安全に製造するための新しい製造方法を提供する。
【解決手段】分子鎖末端にＨ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ_２−構造を含む基または2-プロペニル基を有するアルケニル官能性有機ケイ素化合物、特にアルケニル官能性アルコキシシランまたはアルケニル官能性アルコキシアルコキシシランと、無水マレイン酸とを反応させることによって、無水コハク酸基含有有機ケイ素化合物を製造する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（ｉ）で表されるオレフィン化合物と、一般式（ｉｉ）で表されるハロゲン含有化合物、又は、ハロゲンとオレフィンを逆にした化合物を、遷移金属触媒存在下で反応させることを特徴とする一般式（１）で表されるシラノール基含有オレフィン化合物の製造方法。






（Ｘは炭素数１〜６０の置換又は非置換の一価炭化水素基であり、炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよい。Ｈａｌはハロゲン原子又はトリフレート基を表す。ｎは１〜１０の整数で、Ｙは置換又は非置換の二価の共役性置換基を示す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０の置換又は非置換の一価炭化水素基を示す。）
【効果】高収率で容易にシラノール基含有オレフィン化合物が得られる。 （もっと読む）

【解決手段】トリフルオロメタンスルホン酸と１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンとを混合して中和塩を生成させた後、該中和塩を熱分解させ、蒸留することを特徴とするジメチルビニルシリルトリフラートの製造方法。
【効果】本発明の方法により製造されるジメチルビニルシリルトリフラートは、高価なトリフルオロメタンスルホン酸銀や引火点の低いジエチルエーテルを用いることなく、トリフルオロメタンスルホン酸から溶媒を用いることなく、安価に安定的にジメチルビニルシリルトリフラートを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、不純物量の少ない効率的なシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られる多面体構造ポリシロキサン変性体を提供することを目的とする。
【解決手段】以下の（ｉ）〜（ｉｉｉ）の製造工程を含むことを特徴とするシリ
ル化カゴ型ケイ酸の製造方法；
（ｉ）テトラアルコキシシランまたはその部分縮合物（ａ）に水酸化４級アンモ
ニウム（ｂ）を混合、反応させる工程、
（ｉｉ）前記（ｉ）で得られる反応液を冷却する工程、
（ｉｉｉ）前記（ｉｉ）で得られた反応液とシリルクロライド（ｃ）とを反応さ
せてシリル化カゴ型ケイ酸を得る工程。 （もっと読む）

【課題】十分なキャリア移動度を発揮し得るとともに溶媒に対する優れた溶解性を有するポリアセン化合物の原料化合物として有用な芳香族化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される芳香族化合物。


［式中、Ａ環及びＢ環は、ベンゼン環、芳香族縮合環、複素芳香族環又は複素芳香族縮合環を示し、Ｒ^１ａは−ＣＨＲ^２ａ−ＣＨＲ^２ｂＲ^２ｃで表される基を示し、Ｒ^１ｂ、Ｒ^１ｃ及びＲ^１ｄは水素原子、アリール基又は−ＣＨＲ^２ｄ−ＣＨＲ^２ｅＲ^２ｆで表される基を示す。Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^２ｃ、Ｒ^２ｄ、Ｒ^２ｅ及びＲ^２ｆは水素原子、アルキル基、アリール基又は置換シリル基を示し、Ｒ^２ａとＲ^２ｂ、Ｒ^２ｄとＲ^２ｅは環を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】各種化合物の中間体として有用な光学活性シス−シリルオレフィンオキシド化合物の効率的な製造方法の提供。
【解決手段】式（１）、式（２）等


（式中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子等であり、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１−４アルキル基等であり、Ｒ^３は、Ｃ_１−４アルキル基等、Ｒ^４は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子等であり、Ｍは、Ｔｉである。）で表される光学活性チタン錯体を触媒として利用した、下記のような光学活性シス−シリルオレフィンオキシド化合物の製造方法。
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【課題】毒性が強い化合物を使用せずに、ルブレン合成の中間体となる化合物を合成するための方法を提供する。
【解決手段】遷移金属錯体の存在下で、式(３)のＡｒ基がアルコキシ基である化合物と、Ａｒ−Ｙ〔Ａｒはアリール基を表す。Ｙはホウ酸残基又はホウ酸エステル残基を表す。〕で表される化合物とを交差カップリング反応させる反応工程を含む、式（３）：


〔Ｒ³は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基を表す。ｍ及びｎは、０〜３の整数を表す。Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基を表す〕で表される芳香族化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】温和な条件でホモアリルアルコールを高収率で得ることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】反応基質としてアルデヒドとアリルシランを用い、ＭＣＭ−４１をＡｌ置換して得られるＡｌ−ＭＣＭ−４１を固体触媒として用いると、穏和な条件下、短時間で対応するホモアリルアルコール誘導体のシリルエーテル体が高収率で得られ、シリルエーテル体から対応するホモアリルアルコール誘導体が簡便に得られる。 （もっと読む）

本発明は、８〜１３のｐＫａを有する不足量の核酸結合性のＡ基を備えているか、またはＡ基と、結合中および好ましくは溶出中、中性電荷を有する結合阻害性のＮ基とを有する、核酸結合相を用いて核酸を精製する方法であって、（ａ）核酸結合性のＡ基のｐＫよりも小さいｐＨ（結合ｐＨ）で、核酸を核酸結合相に結合させる工程；（ｂ）結合ｐＨよりも大きいｐＨ（溶出ｐＨ）で、該核酸を溶出させる工程を含む方法に関する。さらに、核酸の精製に使用され得る対応するキットおよび核酸結合相も開示する。本発明による手法により、低塩濃度の使用による核酸の精製、特に溶出が可能になり、そのため、精製された核酸の処理過程を直接行なうことができる、例えば、ＰＣＲに使用することができる。 （もっと読む）

【課題】グリニャール反応のみを用いた合成過程と比較して、反応時間を短縮することができ、かつ、簡便な工程にて高い収率で生成物を得ることができる有機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】代表的製造方法は、例えば、クロロメチルジイソプロポキシシラン（化合物５）を、テトラヒドロフラン中マグネシウムと反応させて、メチル（ジイソプロポキシ）シリルメチルマグネシウムクロライド（化合物３）を含む反応液を得、これにメチルトリメトキシシラン（化合物４）を滴下して最終化合物４，４−ジメトキシ−２，２−ジイソプロポキシ−２，４−ジシラペンタン（化合物１）を得る方法や、ジメチル（ｔ−ブトキシ）シリルメチルマグネシウムクロライド（化合物３）とビニルトリメトキシシランを反応させて５−（ｔ−ブトキシ）−（化合物１）を得、更にエタノールと反応濃縮を繰り返して２，４，４−トリエトキシ−（化合物１）を得る方法がある。 （もっと読む）

【解決手段】イリジウム触媒又はロジウム触媒存在下に、一般式（１）
ＣＨ₂＝ＣＨＳｉＲ¹₂Ｘ （１）
（Ｒ¹は炭素数１〜２０の置換又は非置換の１価炭化水素基を表し、Ｘはハロゲン基を表す。）
で表されるハロゲノジオルガノビニルシランと、一般式（２）
ＨＳｉＲ²₂Ｘ （２）
（Ｒ²は炭素数１〜２０の置換又は非置換の１価炭化水素基を表し、Ｘは上記に同じ。）
で表されるハロゲノジオルガノシランとを反応させる一般式（３）
ＸＲ¹₂ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＲ²₂Ｘ （３）
（Ｒ¹、Ｒ²、Ｘは上記に同じ。）
で表される１，２−ビス（ハロゲノジオルガノシリル）エタンの製造方法。
【効果】本発明の製造方法によれば、イリジウム触媒又はロジウム触媒存在下に、ハロゲノジオルガノビニルシランとハロゲノジオルガノシランを反応させることにより、選択的に１，２−ビス（ハロゲノジオルガノシリル）エタンを提供できる。 （もっと読む）

【課題】耐アルカリ性に優れた新規なＳｉＨ基含有有機ケイ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：


（式中、ｎは０、１または２であり、R¹は非置換又は置換の炭素原子数1〜10の１価の有機基であり、ｎ＝２のとき、R¹は同一でも異なってもよく、R²は独立に非置換又は置換の炭素原子数1〜10の2価の有機基である。）で表される有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、特にプラズマＣＶＤ装置に適した環状シロキサン化合物を含んでなる低誘電率絶縁膜用材料を提供すること、並びにそれを用いたＳｉ含有膜及びこれらの膜を含んでなる半導体デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒは炭素数１〜４の鎖状又は分岐状アルキル基を表す。ｎは３〜５の整数を表す。）
で示されるビニル基含有環状シロキサン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）


（Ｒ¹及びＲ²は１価炭化水素基であるか、又はＲ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂環をなしてもよく、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ³及びＲ⁴は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁵は水素原子又はメチル基である。Ｒ⁶は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁷はハロゲン原子又はアルコキシル基である。ｋは０〜１０の整数である。Ｒ⁵が水素原子の時にｍは１、Ｒ⁵がメチル基の時にｍは０である。ｎは０〜２の整数である。）
で表される有機ケイ素化合物。
【効果】本発明の新規な有機ケイ素化合物は、遊離のヒドロキシル基を含有せず、安定性が高く、無機材料と共有結合可能な加水分解性シリル基を含有し、硬化後も黄変、不快臭がない、光重合開始基を有する有機ケイ素化合物として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】アルキルアルコキシシリル基により保護された水酸基を含有し、脱保護により脱離したシリル基がシルセスキオキサン骨格に組み込まれるアルコキシシランを提供する。
【解決手段】本発明は、下記一般式（１）で表される有機ケイ素化合物である。
【化１】


（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は炭素数１から１０のアルキル基、アラルキル基またはアリール基であり、Ｒ³は炭素数２から１０のアルキレン基又は炭素数７から１０のフェニルアルキレン基を示し、ａおよびｂは、ａ≧０、ｂ≧１およびａ＋ｂ＝３を満たす整数である。） （もっと読む）

【課題】 有機−無機複合材料などとして有用なビス（２−メルカプトエチル）シラン化合物の工業的に有利な製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）；


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して、炭素数１〜２のアルキル基または炭素数１〜２のアルコキシ基を示す。ただし、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくとも１つは炭素数１〜２のアルコキシ基である。Ｒ^３は炭素数１〜２のアルキル基を示す。）で表されるチオカルボニル基含有シラン化合物を、還元剤と反応させることを特徴とする一般式（２）；


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は前記と同様である。）で表される化合物の製造方法。 （もっと読む）