【課題】各種機械設備の火災の危険性を下げるため、従来のグリース組成物よりも難燃性及び自己消火性を向上させたグリース組成物を提供。
【解決手段】増ちょう剤、基油、及びホスファゼン化合物、特に、構造式が、（ＮＰＲ12）n（１）（式中、Ｒ1はハロゲン原子又は一価の基を表し、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎは３〜１５である。）である、環状ホスファゼン化合物を含む、８０℃以上の高温環境下で使用するための難燃性グリース組成物。 （もっと読む）

【課題】高真空又は超高真空下或いは高温下でも良好に使用できる錆止め性に優れたイオン液体を基油とした潤滑剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アニオンが下記式１又は２で表されるイオン液体；及び
（Rf1−SO₂）（Rf2−SO₂）N⁻ 式１
（Rf3）（Rf3）（Rf3）PF₃⁻ 式２
（式１中、Rf1及びRｆ2は互いに同一でも異なっていてもよく、F、CF₃、C₂F₅、C₃F₇又はC₄F₉を表す。式２中、Rf3は互いに同一でも異なっていてもよく、CF₃、C₂F₅、C₃F₇又はC₄F₉を表す。）
（Ｂ）0.1〜5.0質量％の脂肪酸アミン塩；
を含有する潤滑剤組成物。 （もっと読む）

本発明は、（Ａ）少なくとも１つの（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖（鎖Ｒ_Ｆ）を含んでなる少なくとも１つの非官能性（ペル）フルオロポリエーテル油（非官能性ＰＦＰＥ油）と、（Ｂ）次式（Ｉ）または（ＩＩ）：


を有する１つまたはそれ以上の環式部分を含んでなり、前記環式部分が、１つまたはそれ以上のリン原子に結合して、少なくとも１つの（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖（鎖Ｒ’_Ｆ）を含んでなる少なくとも１つの置換基を含んでなる、少なくとも１つの環式ホスファゼン化合物［化合物（Ｐ）］と、
（Ｃ）少なくとも１つの（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖（鎖Ｒ’_Ｆ）と、少なくとも１つの単環式または多環式芳香環を含んでなる少なくとも１つの官能基とを含んでなり、前記芳香環が、場合により、Ｎ、ＯおよびＳから選択される１つまたはそれ以上のヘテロ原子と、水素原子とは異なる１つまたはそれ以上の置換基を含有する、化合物（Ｐ）とは異なる少なくとも１つの官能性（ペル）フルオロポリエーテル誘導体（官能性ＰＦＰＥ誘導体）と
を含んでなる潤滑剤組成物に関する。
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【課題】熱アシスト磁気記録方式の磁気記録装置に搭載する磁気ディスクに好適に用いられる耐熱性に優れた磁気ディスク用潤滑剤及びこの潤滑剤を含有する潤滑層を備えた磁気ディスクを提供する。
【解決手段】構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し且つ末端にはホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル基同士が連結基を介して結合している化合物を含有する磁気ディスク用潤滑剤である。上記連結基は、脂肪族基、ホスファゼン環である。基板上に少なくとも磁気記録層と保護層と潤滑層を備える磁気ディスクにおいて、上記潤滑層は上記磁気ディスク用潤滑剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】新規な耐摩耗性に優れた化合物およびそれを含む潤滑組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（２）で表されるリン化合物（Ｘ＝酸素又は硫黄）、または、一般式（２）のＸ＝硫黄である化合物に亜鉛、モリブデン、銅、タングステンから選ばれる金属原子によって錯体を形成した金属塩から選ばれる少なくとも１種のリン化合物である新規耐摩耗剤およびそれを含み、潤滑油組成物全量を基準として、リン元素換算で０．０１〜１０質量％含有してなる潤滑組成物。
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【課題】安定性の良好な湿式伸線加工用潤滑剤、湿式伸線方法および該湿式伸線加工用潤滑剤に使用する湿式伸線加工用潤滑剤用添加剤を提供する。
【解決手段】ブラスめっきされたスチールワイヤを湿式伸線する際に使用する湿式伸線加工用潤滑剤において、ホスファゼン誘導体化合物と界面活性剤の混合物を添加してなる湿式伸線加工用潤滑剤、該湿式伸線加工用潤滑剤中で、ブラスめっきされたスチールワイヤを湿式伸線する湿式伸線方法である。ホスファゼン誘導体化合物および界面活性剤を含む湿式伸線加工用潤滑剤用添加剤である。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体上の汚染物質を低減して、安定した磁気記録再生特性を有する磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に磁性層２と保護層３と潤滑剤層４とをこの順序で有し、潤滑剤層４が下記一般式（１）に示す化合物Ａと、下記一般式（２）に示す化合物Ｂ_１または下記一般式（３）に示す化合物Ｂ_２とを含み、質量比（Ａ／Ｂ_１）または質量比（Ａ／Ｂ_２）が０．０５〜０．３の範囲内である磁気記録媒体１１を用いる。




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【課題】高強度スチールワイヤを製造する伸線加工時において、断線し難い優れた延性を持ち、撚線等の加工を加えても延性の低下が少ない湿式伸線加工用潤滑剤及び湿式伸線方法を提供する。
【解決手段】ブラスめっきされたスチールワイヤを湿式伸線する際に使用する湿式伸線加工用潤滑剤において、ホスファゼン誘導体化合物を含有する。前記ホスファゼン誘導体化合物は、好ましくは環状又は鎖状の化合物である。この湿式伸線加工用潤滑剤を水中に添加して水溶液となし、該水溶液中で、ブラスめっきされたスチールワイヤを湿式伸線する。 （もっと読む）

【課題】摩擦低減剤もしくは耐摩耗剤として有効な潤滑油添加剤、特に、摺動面が鋼などの金属である場合はもとより、ダイヤモンドライクカーボン膜である場合であっても摩擦低減効果が優れる潤滑油添加剤、及び該潤滑油添加剤を配合してなる摩擦低減効果が優れる潤滑油組成物、並びに前記潤滑油組成物の存在下で摺動する摺動面がダイヤモンドライクカーボン膜を有する低摩擦摺動部材を提供すること。
【解決手段】モノ−Ｎ−（アルキル）ホスホリックアミド、ジ−Ｎ−（アルキル）チオホスホリックジアミド、等のアミノリン化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる潤滑油添加剤、該潤滑油添加剤を配合してなる潤滑油組成物、及並びに前記潤滑油組成物の存在下で摺動する摺動面がダイヤモンドライクカーボン膜を有する低摩擦摺動部材。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク上の保護層及び減摩層の改良は磁気ヘッドと磁気ディスクの間の接触によりもたらされる摩擦音及び損傷を最小にする。
【解決手段】組成物は低断面潤滑剤および一以上のシクロホスファゼン環を含む化合物の混合物を含む。低断面潤滑剤はペルフルオロポリエーテル主鎖、主鎖の各末端に少なくとも1つの官能基ならびに末端間の主鎖領域に位置する少なくとも1つの官能基を含む。また装置は磁気ディスク及び磁気ディスク上組成物を含む。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクの潤滑剤に好適な化合物を提供すること。
【解決手段】ペルフルオロポリエーテル鎖をもった主鎖を含む化合物。この化合物はまた、主鎖に結合しているかもしくはそれに組み込まれている１つ以上のシクロホスファゼン環を有する。この化合物はさらに、主鎖に結合しているか、１つ以上のシクロホスファゼン環に結合しているか、さもなければそれらの結合の組み合わせをもった少なくとも２つの官能基を含む。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の（すなわち、１種、または、２種以上の混合物）パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）潤滑剤であって、すなわち、パーフルオロオキシアルキレン鎖、換言すると、少なくとも１つのエーテル結合および少なくとも１つのフルオロカーボン部分を有する反復単位を有する鎖を含む潤滑剤を含む潤滑組成物の使用を含む風力タービン変速装置を潤滑する方法、ならびに、前記潤滑組成物を含有する潤滑システムを備える風力タービン変速装置に関する。 （もっと読む）

【課題】イオン液体を効果的に消泡すること。
【解決手段】少なくとも１種のイオン液体と、少なくとも１種の消泡剤と、適切な場合には溶媒および／またはさらに助剤もしくは添加剤とを含有する組成物。 （もっと読む）

【課題】ディップコート法によって磁気記録媒体表面に塗布した場合でも、膜厚の均一性が高い潤滑剤層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤溶液を提供する。
【解決手段】潤滑剤と溶媒とを含み、潤滑剤がパーフルオロポリエーテルまたはフォスファゼン系化合物であり、溶媒が１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルと他の有機溶媒とを含み、溶媒の２５℃における表面張力が１５．０ｍＮ／ｍ以下である磁気記録媒体用潤滑剤溶液。 （もっと読む）

【課題】ヘッドと磁気記録媒体との接触によるドライブ障害を低減することのできるヘッドスライダ、このヘッドスライダと磁気記録媒体との組合せおよびこのヘッドスライダを備えた磁気記録装置を提供する。
【解決手段】本ヘッドスライダは、磁気記録媒体と対向するヘッドスライダ面に、フォスファゼン環を含む化合物が塗布されてなる。 （もっと読む）

式中、RがCF₃、F、およびHより選択され、かつmが1〜22の整数である、式 (I) の化合物を提供する。化合物は、第一の反応物が、2,4-ジクロロ-2,4,6,6-テトラ(アリールオキシ)-1,3,5-トリアザ-2,4,6-トリホスホリンであって、かつ第二の反応物が、式CF₃CF₂CF₂O(CF₂CF₂CF₂O)_mCF₂CF₂CH₂OHのペルフルオロポリエーテルである、第一の反応物と第二の反応物とを溶液中で反応させることにより、調製され得る。アリールオキシは、4-(トリフルオロメチル)フェノキシ（p-CF₃-C₆H₄O）、4-フルオロフェノキシ（p-F-C₆H₄O）、およびフェノキシ（C₆H₅O）より選択される。第一の反応物は、2,2,4,4,6,6-ヘキサクロロ-1,3,5-トリアザ-2,4,6-トリホスホリンをフェノキシドと反応させることにより、調製され得る。化合物は、表面を潤滑化するための潤滑剤に用いられ得る。潤滑剤は、記録媒体を含む磁気記録装置の記録表面に適用され得る。

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本発明は、式（Ｉ）または（ＩＩ）


（式中：
−Ｒ_ｆおよびＲ’_ｆは、相互に同じかまたは異なっており、出現毎に、独立して、繰返し単位Ｒ^Ｏ（好ましくは本質的にこれからなる）を含む（パー）フルオロポリオキシアルキレン鎖［鎖（ＯＦ）］を表し、（パー）フルオロポリオキシアルキレン鎖の全体に無作為に分布された前記繰返し単位は、
（ｉ）−ＣＦＸＯ−（式中、ＸはＦまたはＣＦ_３である）、
（ｉｉ）−ＣＦ_２ＣＦＸＯ−（式中、ＸはＦまたはＣＦ_３である）、
（ｉｉｉ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−、
（ｉｖ）−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−
のうちから選択され、
−ＺおよびＺ’は、相互に同じかまたは異なっており、出現毎に、式−Ｏ⁻Ｍ^＋の極性基（式中、Ｍは、水素；一価の金属、好ましくはＬｉ、Ｎａ、Ｋから選択されるアルカリ金属；式ＮＲ_１Ｒ_２Ｒ_３Ｒ_４のアンモニウムラジカル（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４の各々は、独立して、水素原子あるいは任意によりフッ素化されているＣ_１〜Ｃ_１２炭化水素基である）のうちから選択される）、または式−Ｏ⁻）_２Ｍ’^２＋の極性基（式中、Ｍ’は、二価の金属、好ましくはＣａ、およびＭｇから選択されるアルカリ土類金属である）［基（Ｐ）］を表し、
−ｎ_Ｚは、１〜３、好ましくは１に等しい整数であり、
−ｎ_Ｚ’は、１〜４、好ましくは１に等しい整数であり、
−ｎ_ｆ’は、ｎ_Ｚ’＋ｎ_ｆ’が８と等しくなるような整数であり、
−ｎ_ｆは、ｎ_Ｚ＋ｎ_ｆが６と等しくなるような整数である）に従う環式ホスファゼン化合物に関する。
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１５０℃より高い、好ましくは２００℃より高い軟化点または融点を有し、かつ繰り返し単位に、好ましくはその主鎖に少なくとも１つの芳香環を含有する、室温で固体のポリマーについて、高温、好ましくは２００℃より高い高温で、ペルフルオロポリエーテル潤滑油を安定化する添加剤としての使用、および前記添加剤を含む潤滑油組成物。 （もっと読む）

残渣を表面から除去する方法であって、表面を、式Ｅ−またはＺ−Ｒ^１ＣＨ＝ＣＨＲ^２を有する化合物（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立に、Ｃ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_６ヒドロフルオロアルキル基である）からなる群から選択される少なくとも１つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと、表面を組成物から回収するステップとを含む方法が開示されている。フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法、および少なくとも水の一部分を濡れた基板の表面から除去する方法において、フッ素化炭化水素は溶媒組成物としても使用される。 （もっと読む）