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Fターム[4J002CD05]の内容

高分子組成物 (583,283) | エポキシ樹脂 (17,069) | 芳香族 (7,839) | フェノール系 (6,686) | ビスフェノール系(ビスフェノールとエピクロルヒドリンから) (2,741)

Fターム[4J002CD05]に分類される特許

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【課題】屈折率の向上を図ることができながら、透明性、耐熱性および取扱性の向上を図ることができる光硬化性樹脂および光学材料を提供すること。
【解決手段】本発明の光硬化性樹脂組成物は、1分子中に2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、アニオン成分とカチオン成分とからなる光重合開始剤と、アルコール性水酸基を有する芳香脂肪族化合物とを含有する。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、短時間で紫外線により硬化する特徴を有し、光電変換素子や発光素子の封止において、高いレベルでの湿度バリア性と溶剤バリア性を両立した光硬化型樹脂組成物及び、シール剤及び色素増感型太陽電池を提供することにある。
【解決手段】
下記(A)〜(D)成分を含有することを特徴とするガスバリア性光硬化型樹脂組成物。
(A)、水添ノボラック型エポキシ樹脂
(B)、(A)成分以外のカチオン重合性化合物
(C)、光カチオン重合開始剤
(D)、無機充填材 (もっと読む)


【課題】
PPS樹脂とインサート金属と直接的に接した面での高い接合強度を有し、且つインサート金属や中空複合体に内包される精密部品に対しても熱や衝撃による損傷を与えることなく複合化することを課題とする。
【解決手段】
(A)降温結晶化温度が205℃以下のポリフェニレンスルフィド樹脂100重量部に対し、(B)エポキシ樹脂1〜10重量部、(C)単繊維径10μm以上のガラス繊維5〜100重量部を配合してなる熱可塑性樹脂組成物を金属インサートした射出成形品にレーザー光を照射し、他の成形品とレーザー溶着する複合成形品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成形性に優れ、なおかつトランスファー成形時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板、光半導体装置およびこれらの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤、(E)白色顔料および(F)カップリング剤を含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、成形温度が100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、60〜120秒の条件でトランスファー成形した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物、ならびに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板、光半導体装置およびこれらの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、成形性に優れる等のエポキシ樹脂の一般的特性を有する上、水等に接触する環境や、高温、高湿環境に対する耐久性が高く、耐トラッキング性に優れた硬化物を与える半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、少なくとも、
(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機充填剤、及び(D)アルカリ金属を除く金属元素の水酸化物を表面処理したものを含有し、
前記半導体封止用エポキシ樹脂組成物を硬化させたときの硬化物の吸水率が0.1%以下となるものであることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れ、かつ少量の無機フィラーであっても高い導電性及び熱伝導性を有する導電性放熱フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】有機粒子、無機フィラー及び硬化樹脂を含み、かつ前記無機フィラーが導電性及び熱伝導性を有する導電性放熱フィルム。硬化樹脂の前駆体を溶解又は分散可能な溶媒と、この溶媒に対して不溶性である有機粒子と、無機フィラーと、硬化樹脂の前駆体とを含む組成物の膜を形成した後、硬化樹脂の前駆体を硬化する上記導電性放熱フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
樹脂組成物の硬化物の表面粗度が低く、顔料のみに依らずして緑色を呈するハロゲンフリーのソルダーレジスト用樹脂組成物を提供することである。
【手段】
ナフトール樹脂と青色着色剤を含有する樹脂組成物によって、本発明を完成するに至った。 (もっと読む)


【課題】基材への含浸性が良好で、放熱性、低熱膨張性、ドリル加工性、及び信頼性に優れるプリプレグを作製できるプリント配線板用樹脂組成物を提供する。さらに、前記プリント配線板用樹脂組成物を用いて作製したプリプレグ、前記プリント配線板用樹脂組成物、又は前記プリプレグを用いて作製した積層板、前記積層板、前記プリプレグ、及び前記プリント配線板用樹脂組成物のうち少なくともいずれか1つを用いて作製したプリント配線板、及び前記プリント配線板を用いて作製した性能に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材を必須成分とするプリント配線板用樹脂組成物であって、(B)無機充填材が、(b1)窒化ホウ素、および(b2)ジルコニウム粒子であることを特徴とするプリント配線板用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】柔軟性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性に優れ、石油系製品への依存度の低い熱可塑性樹脂組成物、およびその熱可塑性樹脂組成物を用いてなる成形体を提供する。
【解決手段】本発明の熱可塑性樹脂組成物は、重量平均分子量が150000以上のポリ乳酸系樹脂と、スチレン系樹脂とを含有し、ポリ乳酸系樹脂とスチレン系樹脂との質量比率が、ポリ乳酸樹脂/スチレン系樹脂=90/10〜10/90であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導体配線の位置及び寸法の精度が高く、且つ微小な部品が位置精度よく実装され得る、多層化されたフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】本発明に係るフレキシブルプリント配線板は、屈曲可能な第一の絶縁層と、この第一の絶縁層の片面上又は両面上に積層され第一の導体配線と、前記第一の絶縁層に積層され前記第一の導体配線を覆う、単一の層からなる第二の絶縁層と、この第二の絶縁層上に積層されている第二の導体配線とを備える。前記第一の導体配線の厚みが10〜30μmの範囲、ライン幅が50μm〜1mmの範囲、ライン間隔が50μm〜1mmの範囲である。前記第一の導体配線の表面から前記第二の絶縁層の表面までの厚みが5〜30μmの範囲である。前記第二の絶縁層における前記第一の導体配線を覆っている部分の表面のうねりが10μm以下である。 (もっと読む)


【課題】
金属ベース回路基板と絶縁層との密着性、およびヒートサイクル性に優れ、かつ十分な絶縁抵抗を有する樹脂組成物、樹脂シート、金属ベース回路基板、インバータ装置、及びパワー半導体装置を提供する。
【解決手段】
(A)フェノキシ樹脂、(B)25℃における溶融粘度が2Pa・s以下のエポキシ樹脂(C)無機充填剤、及び(D)シランカップリング剤を必須成分とする樹脂組成物であって、(D)シランカップリング剤が樹脂組成物全体の2〜10重量%であることを特徴とする樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】基材への含浸性が良好で、低熱膨張性、ドリル加工性、及び信頼性に優れるプリプレグを作製できる樹脂組成物を提供する。さらに、前記樹脂組成物を用いて作製したプリプレグ、前記樹脂組成物、又は前記プリプレグを用いて作製した積層板、前記積層板、前記プリプレグ、及び前記樹脂組成物のうち少なくともいずれか1つを用いて作製したプリント配線板、及び前記プリント配線板を用いて作製した性能に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)充填材、(C)極性基を有するポリエステル樹脂を必須成分とすることを特徴とする樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】基材への含浸性が良好で、放熱性、低熱膨張性、ドリル加工性、及び信頼性に優れるプリプレグを作製できるプリント配線板用樹脂組成物を提供する。さらに、前記プリント配線板用樹脂組成物を用いて作製したプリプレグ、前記プリント配線板用樹脂組成物、又は前記プリプレグを用いて作製した積層板、前記積層板、前記プリプレグ、及び前記プリント配線板用樹脂組成物のうち少なくともいずれか1つを用いて作製したプリント配線板、及び前記プリント配線板を用いて作製した性能に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂と、(B)無機充填材とを必須成分とするプリント配線板用樹脂組成物であって、(B)無機充填材が、(b1)不定形の窒化ホウ素、(b2)不定形のベーマイト、および(b3)平均粒径5〜100nmの無機微粒子を必須成分とすることを特徴とするプリント配線板樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】特定の充填剤の組合せにより耐リフロー性を有するパッケージの封止材料が可能であると共に、パッケージの封止時に置いて流動が発生しないため封止精度の向上を可能にする。
【解決手段】(A)〜(E)成分を含み、(A)成分が100質量部に対して、(B)成分が15〜60質量部、(C)成分が20〜120質量部、(D)が成分5〜35質量部からなるエポキシ樹脂組成物。(A)成分:エポキシ樹脂(B)成分:有機フィラー粉(C)成分:アルミナ粉(D)成分:タルク粉(E)成分:熱硬化剤 (もっと読む)


【課題】基材への含浸性が良好で、低熱膨張性、ドリル加工性、及び信頼性に優れるプリプレグを作製できるプリント配線板用樹脂組成物を提供する。さらに、前記プリント配線板用樹脂組成物を用いて作製したプリプレグ、前記プリント配線板用樹脂組成物、又は前記プリプレグを用いて作製した積層板、前記積層板、前記プリプレグ、及び前記プリント配線板用樹脂組成物のうち少なくともいずれか1つを用いて作製したプリント配線板、及び前記プリント配線板を用いて作製した性能に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】
ジルコニウム化合物を含むことを特徴とするプリント配線板用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】ボイドの発生を抑制することができる、半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)および(B)成分とともに、下記の(C)成分を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物である。(A)エポキシ樹脂。(B)フェノール樹脂および酸無水物の少なくとも一方である硬化剤。(C)特定の構造で(メタ)アクリル基を有するヘミアセタールエステル化合物。 (もっと読む)


【課題】新規なジエポキシ化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式(1)


(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表わす。)で表わされるジエポキシ化合物、及び無機塩基の存在下、式(2)


(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表わす。)で表わされるジヒドロキシ化合物とエピハロヒドリンとを反応させる工程を含むことを特徴とする前記式(1)で表わされるジエポキシ化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】繊維基材への含浸性が良好で、低熱膨張性、ドリル加工性、放熱性、及び信頼性に優れるプリプレグを作製できるプリント配線板用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、(C)ポリブタジエン骨格を有する樹脂を必須成分として含むプリント配線板用エポキシ樹脂組成物であって、無機充填材として、(b1)平均粒径5〜100nmの微粒子と、(b2)窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素から選ばれる少なくとも1つとを含有することを特徴とするプリント配線板用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高温における金属との接着性が高く、耐リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)1分子中にエポキシ基を2個以上含有するエポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)分子構造中にニトリル基を1個以上含有する1価又は2価のフェノール誘導体を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料。(C)分子構造中にニトリル基を1個以上有する1価又は2価のフェノール誘導体の割合が、0.1〜1.0質量%であると好ましい。さらに、(D)シラン化合物、(E)硬化促進剤、(F)無機充てん剤を含有すると好ましい。前記の封止用エポキシ樹脂成形材料により封止された素子を備える電子部品装置である。 (もっと読む)


【課題】 最も一般的に多用されているトリエチレンテトラミン由来のポリアミド硬化剤よりも可撓性が優れるポリアミド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 分子中に1個以上の水酸基と2個以上の活性水素とを有するポリアミンを含むアミン成分(A)と、ダイマー酸、ダイマー酸エステル、又はそれらの両方からなるダイマー酸成分(B)とを混合し、縮合反応させて得られるポリアミド樹脂組成物であって、[アミン成分(A)]/[ダイマー酸成分(B)]が2/1〜4/3(モル比)の範囲であることを特徴とするポリアミド樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


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