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Fターム[4J002CD05]の内容

高分子組成物 (583,283) | エポキシ樹脂 (17,069) | 芳香族 (7,839) | フェノール系 (6,686) | ビスフェノール系(ビスフェノールとエピクロルヒドリンから) (2,741)

Fターム[4J002CD05]に分類される特許

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【課題】LED製品の信頼性を向上させ、産業利用上の要求を満たす、LED封止用の樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るLED封止用の樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤及び応力調整剤を含む。 (もっと読む)


【課題】硬化物における難燃性、耐熱性に優れる硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び、該硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線基板用樹脂組成物、プリント配線基板、フレキシブル配線基板用樹脂組成物、半導体封止材料用樹脂組成物、及びビルドアップ基板用層間絶縁材料用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)、及び、下記構造式(1)
【化1】


(式中、X及びXは、それぞれ独立的に水素原子又は水酸基であり、Aは水素原子、又は水酸基である。但し、X及びXの少なくとも一方は水酸基である。)で表されるリン原子含有化合物(C)を必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】優れた熱伝導性および機械的強度を達成し、放熱性と機械的強度が要求される電気・電子部品又は自動車電装部品などの電気用途に有用な、ポリフェニレンスルフィド樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)、(B)および(C)の合計を100重量%として(A)ポリフェニレンスルフィド樹脂25〜55重量%と(B)X線回折法による黒鉛層間の面間隔d(002)が0.336nm未満であり、かつ黒鉛結晶の結晶子サイズLc(002)が100nm以上である黒鉛であって、さらに黒鉛の不純物成分Feが50ppm以下、Siが100ppm以下である黒鉛25〜60重量%および(C)繊維径が4〜11μmのガラス繊維15〜50重量%を配合してなるポリフェニレンスルフィド樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】内蔵する電子部品を所定の厚みで埋没できる電子部品内蔵モジュール用層間絶縁シート、電子部品内蔵モジュール及び電子部品内蔵モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品内蔵モジュール用層間絶縁シートは、常温以上樹脂粘度上昇開始温度以下の温度範囲内で電子部品の周囲を埋没させ、かつ電子部品内蔵モジュール内の層間絶縁をする工程に使用される樹脂シートであって、樹脂シートは、未硬化の熱硬化性樹脂からなり、常温にて固形で、電子部品を埋没する温度にて粘度が300Pa・s以上1000Pa・s以下、電子部品を埋没する温度から熱硬化性樹脂が粘度上昇を開始する樹脂粘度上昇開始温度までの粘度変化率が20%以下、である。 (もっと読む)


【課題】 高い耐熱性、高い靱性を有する硬化物を得ることのできる繊維強化複合材料用熱硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の繊維強化複合材料用熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、(A)環を構成する炭素原子にエポキシ基が単結合により結合している脂環を分子内に2個以上有するエポキシ化合物(A1)及び分子内に2個以上のジエン骨格と2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化ポリブタジエン樹脂(A2)からなる群より選ばれる少なくとも1種のエポキシ化合物と、(B)アミン硬化剤と、(C)硬化促進剤を含む。さらに、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物[但し、前記(A1)及び(A2)を除く](D)を含んでいてもよい。 (もっと読む)


【課題】高熱伝導率と低誘電率、高隙間流入性とを兼備した液状封止樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】半導体素子と基板とをバンプ接続した後、半導体素子と基板との隙間を封止する際に用いる液状封止樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機充填材を含有し、(C)無機充填材が球状アルミナと球状シリカとの混合物を含み、且つ(D)塩基性化合物を含有することを特徴とする液状封止樹脂組成物であり、好ましくはpH値が7以上である液状封止樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】スピンコート法により半導体ウェハー表面に塗布した場合において、厚みが均一な塗布膜を形成可能な、ウェハレベルアンダーフィル工法に用いられるプリアプライド用封止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のプリアプライド用封止樹脂組成物は、半導体チップと基板との間隙を封止する封止樹脂層を得るために用いられる。当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しB−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。当該プリアプライド用封止樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填剤と、(D)溶剤と、を含んでなり、粘度a/粘度bで表されるチキソ比が1.5以下である。
粘度a:ブルックフィールド型粘度計を用い、0.5rpm、25℃で測定。
粘度b:ブルックフィールド型粘度計を用い、2.5rpm、25℃で測定。 (もっと読む)


【課題】無機酸化物微粒子の表面を、アクリル変性ポリビニルアルコールにより修飾することにより、屈折率および機械的特性の向上と共に透明性維持を可能とする透明複合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明複合体は、樹脂中に、アクリル変性ポリビニルアルコールにより表面が修飾され、平均分散粒径が1nm以上かつ20nm以下の無機酸化物微粒子を分散してなり、前記表面の修飾部分の重量比は、前記無機酸化物微粒子の20重量%以上かつ80重量%未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放熱性に優れ、かつ成形が容易な封止材を備えた半導体パッケージを提供する。
【解決手段】半導体パッケージの封止材4が、熱硬化性樹脂組成物に、該熱硬化性樹脂組成物に対して容量比で70:30〜5:95の範囲にある無機酸化物フィラーが分散されてなる熱伝導性樹脂組成物であって、該無機酸化物フィラーが、容量比で5:95〜40:60の範囲にある酸化マグネシウム粉末と二酸化ケイ素粉末とを含むことを特徴とする熱伝導性樹脂組成物から形成されている。 (もっと読む)


【課題】 絶縁層と導電層との接着性、耐熱衝撃性及び耐クラック性が十分であるプリント配線板若しくは多層配線板の形成を可能とする、加工時の発塵が十分少ない樹脂付き基材並びに樹脂付き銅箔を提供すること。
【解決手段】 樹脂付き基材10は、基材1と、該基材1上に設けられた樹脂層2とを備える樹脂付き基材であって、樹脂層2が、2個以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂と、重量平均分子量が70000以上120000以下のポリアミドイミド樹脂と、を含む樹脂組成物から形成されるものであり、樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有量が、エポキシ樹脂100質量部に対して10〜50質量部である。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性に優れた樹脂組成物と、熱伝導性、耐熱性などに優れ、しかも、接着作業性の良好な熱伝導性シート、金属箔付高熱伝導接着シート、ならびに、金属板付高熱伝導接着シートを提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と無機フィラーとを含み、前記エポキシ樹脂を熱硬化させるべく硬化促進剤がさらに含有されている樹脂組成物であって、前記無機フィラーには、三酸化ホウ素成分を含む無機フィラーが用いられており、しかも、前記硬化促進剤として、三フッ化ホウ素系硬化促進剤が用いられている樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】注入性に優れ、フィレットクラックおよびボイドの発生が抑制され、ガラス転移温度の低下が抑制された半導体樹脂封止材の提供。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)アミン系硬化剤、(C)フィラー、(D)コアシェルゴム、および、(E)反応性希釈剤よりなり、前記(E)反応性希釈剤が、1分子中に2以上のグリシジル基を含む化合物からなり、前記(B)アミン系硬化剤の含有量が、前記(A)エポキシ樹脂および前記(E)反応性希釈剤のエポキシ当量に対して、0.5〜1.5当量であることを特徴とする半導体樹脂封止材。 (もっと読む)


【課題】本願発明は、プリント配線板を製造する際、セミアディティブ工法が好適に用いることができ、導体回路との密着性が高く、樹脂層を形成した際の樹脂表面の表面粗さが小さく、耐熱性に優れるプリント配線板用樹脂組成物、及び、当該樹脂組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂シート、プリント配線板、半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)シアネート樹脂、(C)カルボン酸変性アクリロニトリルブタジエンゴム、を必須成分とすることを特徴とする樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 層間挿入法による有機化処理を実施することなく、エポキシ樹脂に層状粘土鉱物を均一分散することが可能であり、環境負荷を低減することのできる方法に対するニーズが存在する。
【解決手段】 (a)層状粘土鉱物を水、水系混合溶媒のうちいずれか一方で膨潤させて層状粘土鉱物分散液を得る工程と、(b)前記層状粘土鉱物分散液にシランカップリング剤を加えて層状粘土鉱物表面を有機官能化し、有機官能化層状粘土鉱物分散液を得る工程と、(c)前記有機官能化層状粘土鉱物分散液に、エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂と相溶な有機溶媒を加えて混練する工程とを含む、高電圧機器用絶縁樹脂組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低粘度で、低温短時間での硬化が可能であり、優れた耐熱性、耐電圧性、電気絶縁性、耐湿性、機械強度、密着性を具備し、封止時のはんだボール補強性に優れ、かつ、ポットライフが長いエポキシ樹脂組成物、および、それを用いた半導体封止材の提供。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、(C)イミダゾール系潜在性硬化剤、および、(D)フェノール樹脂よりなり、前記(A)エポキシ樹脂および前記(B)1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルの合計質量に対する前記(B)1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルの含有量が0.5〜80質量%であり、エポキシ樹脂組成物の全成分の合計質量に対する前記(C)イミダゾール系潜在性硬化剤の含有量が5〜25質量%であり、エポキシ樹脂組成物の全成分の全成分の合計質量に対する前記(D)フェノール樹脂の含有量が0.5〜25質量%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】シリコンウエハー上へ印刷法により数μm〜数十μmの厚さで表面の凹凸を低く抑えて塗布することができ、加熱により容易にBステージ化が可能で、且つ、Bステージ状態で、ダイシングテープの貼付性、及びシリコンウエハーを個片化するときのダイシング性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)軟化点が40〜110℃である室温で固体状のエポキシ樹脂、(B)軟化点が40〜110℃以下である室温で固体状の硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)質量平均粒径が0.05〜5μmである無機フィラー、(E)希釈剤および(F)特定のジメチルシリコーンを含み、成分(A)及び/又は成分(B)がシリコーン変性されているエポキシ樹脂組成物;上記組成物を用いたシリコンチップのダイアタッチ方法;シリコンチップと、基体と、上記組成物の硬化物とを有し、該硬化物を介して該シリコンチップが該基体に接着されている半導体装置。 (もっと読む)


【課題】本発明は、小型薄型化のプリント配線板に用いられる材料であって、低熱線膨性、めっき密着性に優れ、微細配線に対応し高度な電気的信頼性を有するエポキシ樹脂組成物を提供するものである。また当該エポキシ樹脂組成物を用いた電気的信頼性に優れるプリプレグ、積層板、プリント配線板、及び半導体装置を提供するものである。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)無機充填材、および(C)トリアジンチオール基を有するシロキサン化合物を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】外観が黒色であり、プリント配線板としてガラス転移点(Tg)の低下を起こさず、かつ絶縁性及び信頼性の低下がなく、蛍光を検知する方式による外観検査が可能な積層板を製造するために好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、金属張り積層板およびプリント配線板を提供する。
【解決手段】染料を含有してなる黒色の熱硬化性樹脂組成物において、染料としてアントラキノン系化合物を0.05〜5質量%含む熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、金属張り積層板およびプリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】繰り返しモールドを押し付けてもレリーフパターンの形状が維持され、かつレリーフパターン表面が界面活性剤等の離型剤等で汚染されないナノインプリント用組成物が求められている。
【解決手段】炭素数1〜100の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物(C)を含むナノインプリント用組成物、および、当該組成物を基板に塗布し加熱することによって塗膜を形成し、当該塗膜にモールドを押し当て、モールドに刻まれたパターンのネガ像が形成されたレリーフパターンを形成する、レリーフパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板のビルドアップ層の硬化後は高い密着強度を保持し、剥離用加熱処理後においては良好な剥離強度を有する、剥離フィルム用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂に水酸化アルミニウムを配合させることによって、剥離用加熱処理後においては良好な剥離強度を有して剥離容易であり、ビルドアップ層の硬化後は高い密着強度が発現される。 (もっと読む)


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