【課題】
耐ブリードアウト性、塗膜密着性、及び耐候性が改良された１液または２液型硬化性ポリウレタン組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
末端イソシアネート基含有化合物（Ａ）、アリルアルコール、またはプロペニルアルコールにアルキレンオキシド基を付加したモノオールと有機イソシアネートとを反応させることによって得られる実質上水酸基を有さない反応生成物を可塑剤（Ｂ）として含有する硬化性ポリウレタン組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】紙や板紙を製造する工程において、優れた汚れ付着防止効果と、優れた剥離性向上効果とを併せ持つ抄紙作業性向上剤及びそれを用いた抄紙機の抄紙作業性向上方法を提供する。
【解決手段】本発明の抄紙作業性向上剤は、ノニオン界面活性剤としての構成部分を有する酸性界面活性剤と、アミノ基含有ポリマーとの混合液からなり、優れた汚れ付着防止効果と、優れた剥離性向上効果とを併せ持つ。 （もっと読む）

【課題】シラン基を含むポリマーをベースとし、単純な方法でかつ毒性学的に不安全な物質を使用することなく調製することができ、水分不存在下で長い貯蔵寿命を有し、低粘度で、水分と接触して硬化して弾性を有する良好な架橋物質をもたらし、かつ水ベースでない、水分硬化性一液性組成物を提供する。
【解決手段】3-(N-シリルアルキル)アミノプロペン酸エステル基を有し式(I)で記載される少なくとも1種のポリマーを含む水分-硬化性一液性組成物する少なくとも1種類のポリマーを調製して使用する。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、材料に起因する光損失を低減できる感光性樹脂組成物を提供することに有り、さらには光損失を低減できる光導波路用感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 本発明の感光性樹脂組成物は、側鎖に脱離性基を有する環状オレフィン系樹脂と、酸発生剤と、特定の第１モノマーとを含む。また、本発明の光導波路形成用感光性樹脂組成物は、上記に記載の感光性樹脂組成物を光導波路形成用の感光性樹脂組成物として用いる。また、本発明の光導波路形成用フィルムは、上記に記載の光導波路形成用感光性樹脂組成物で構成される。また、本発明の光導波路は、上記に記載の光導波路形成用フィルムに、互いに屈折率の異なるコア部とクラッド部とを設けている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、低使用量で分散性、流動性、保存安定性に優れ、バインダー樹脂や溶剤に制限されない顔料分散体を得るための分散剤の提供を目的とする。更に本発明は、オフセットインキ、グラビアインキ、カラーフィルター用レジストインキ、インキジェットインキ、塗料、及び着色樹脂組成物等に適する、非集合性、流動性に優れた分散性や安定性を付与できる、分散剤の提供を目的とする。
【解決手段】
前記課題は、片末端領域に１つのヒドロキシル基若しくは１級アミノ基を有する重合体（Ａ）のヒドロキシル基と、及びポリイソシアネート（Ｂ）のイソシアネート基とを反応してなる両末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー（Ｅ）のイソシアネート基と、並びに、ポリアミン（Ｃ）の一級及び／又は二級アミノ基と、を反応させてなる分散剤によって解決される。 （もっと読む）

【課題】高分子量で分子量分布の狭い加水分解性シリル基含有オキシアルキレン重合体の製造方法及び室温硬化性組成物を提供する。
【解決手段】有機配位子として、ｔ−ブチルアルコールと他の化合物の混合物が配位した複合金属シアン化物錯体を触媒としてアルキレンオキシドを反応させて数平均分子量５０００〜３００００、かつ総不飽和度０．０２ｍｅｑ／ｇ以下の重合体を得、該重合体の末端水酸基を加水分解性シリル基に変換することによる加水分解性シリル基含有オキシアルキレン重合体の製造方法及びその重合体を含む室温硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】発泡剤として水を用いた際のポリオールシステム液の粘度増加を充分に抑制でき、スプレー法によっても強度および寸法安定性に優れた硬質フォームを形成できるようにする。
【解決手段】フェノール類、アルデヒド類、およびアルカノールアミン類を反応させて得られるマンニッヒ縮合物からなる開始剤（Ｓ１）にアルキレンオキシドを開環付加重合させて得られる、水酸基価が２００〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエーテルポリオール（Ａ）、およびフェノール類からなる開始剤（Ｓ２）にアルキレンオキシドを開環付加重合させて得られる、水酸基価が５０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇのヒドロキシエーテル（Ｂ）を含む組成物（Ｐ）とポリイソシアネート化合物（Ｉ）とを、水を含む発泡剤、整泡剤および触媒の存在下で反応させて硬質発泡合成樹脂を製造する。 （もっと読む）

【課題】製造効率が良好で収率も高い修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンの製造方法、ならびに新規な修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンを提供する。
【解決手段】修飾シクロデキストリンの環状分子の穴部に軸分子を貫通させ包接錯体を形成させる反応により修飾擬ポリロタキサンを製造する方法において、軸分子の数平均分子量を１５００以上とすることにより、軸分子に対する修飾シクロデキストリンの被覆率が８０％以下である修飾擬ポリロタキサンを製造する。 （もっと読む）

優れた凍結融解安定性、開放時間、耐汚染性、低温フィルム形成、耐発泡性、耐ブロッキング性、接着性、水感度及び低ｖｏｃ含有量を有するラテックスポリマー及び水性コーティング組成物が開示される。ラテックスポリマー及び水性コーティング組成物としては、アルコキシ化化合物と共重合又は混合されるモノマーコポリマーから誘導されるラテックスポリマー、例えばアルコキシ化トリスチリルフェノール又はアルコキシ化トリブチルフェノールを含む。また、少なくとも１つのラテックスポリマー、少なくとも１つの顔料、水及び少なくとも１つの凍結融解添加剤を含む水性コーティング組成物が提供される。典型的には、凍結融解添加剤が、ポリマーの約１．３％、２％、４％、７５％、１０％又は２０質量％を超える量で加えられる。 （もっと読む）

【課題】変成シリコーンポリマーを硬化成分として含み、耐久性に優れた硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ポリオキシアルキレン鎖を有し、かつ分子末端に加水分解性シリル基を有する重合体（Ｐ）、および炭素数３以上の直鎖状または分岐状の炭素原子鎖と、１個以上の炭化水素基と、２個以上の水酸基を有し、炭化水素基が結合している炭素原子に隣り合う少なくとも２個の炭素原子にそれぞれ水酸基が結合している構造を有する化合物（Ａ）を含む硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 通常の製造設備を用い、副生成物の生成を抑制しつつ、高分子量のアルキレンオキサイド付加物を得ることができる、アルキレンオキサイド付加物の製造方法、および、その誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るアルキレンオキサイド付加物の製造方法は、水酸基含有飽和化合物にアルキレンオキサイドを付加反応させてアルキレンオキサイド付加物を得る方法であって、水酸基含有飽和化合物１モルに対して平均２０モル以下のアルキレンオキサイドを付加させてアルキレンオキサイド低モル付加物を得る初期工程と、前記初期工程で得られたアルキレンオキサイド低モル付加物にアルキレンオキサイドをさらに付加させる付加モル数調整工程とを含み、前記付加モル数調整工程では前記初期工程で得られたアルキレンオキサイド低モル付加物全量中の一部の量を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空気連行性や凝結遅延に影響を与えずに乾燥収縮を抑制する収縮低減剤を提供する。
【解決手段】収縮低減剤は、式（１）のポリオキシアルキレン化合物からなる。R^１（OA^２）_ｍ（OA^１）_ｙ−O−X−O−（A^１O）_ｚ（A^２Ｏ）_ｎR^２ ・・・（１） ［Ｘは、炭素数２〜６のアルカンジオールから水酸基を除いた残基である。Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ互いに独立して、水素原子またはメチル基である。Ａ^２Ｏは、オキシエチレン基および炭素数３のオキシアルキレン基であり、ブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。Ａ^１Ｏは、炭素数４〜６のオキシアルキレン基の１種または２種以上からなり、２種以上のときはブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。ｍおよびｎは、炭素数２と炭素数３のオキシアルキレン基の平均付加モル数であり、ｍ＋ｎは２〜３０である。ｙおよびｚは、炭素数４〜６のオキシアルキレン基の平均付加モル数であり、ｙ＋ｚは１〜１０である。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤組成物等として有用な新規な組成物の提供。
【解決手段】油性媒体と式（Ｚ）で表される化合物とを含む組成物である。
Ａ−Ｌ−｛Ｄ¹−（Ｅ）_q−Ｄ²−（Ｂ）_m−Ｚ¹−Ｒ｝_p （Ｚ）
Ａはｐ価の鎖状あるいは環状残基；Ｌは、単結合、二価の連結基；ｐは２以上の整数；Ｄ¹はカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）又はスルホニル基（−Ｓ（＝Ｏ）₂−）；Ｄ²はカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、スルホニル基（−Ｓ（＝Ｏ）₂−）、カルボキシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）、スルホニキシル基（−Ｓ（＝Ｏ）₂Ｏ−）、カルバモイル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ａｌｋ）−）、又はスルファモイル基（−Ｓ（＝Ｏ）₂Ｎ（Ａｌｋ）−）；Ｅは二価の基；Ｒは、水素原子、Ｃ₈以上の置換もしくは無置換のアルキル基、パーフルオロアルキル基、又はトリアルキルシリル基；Ｂは、Ｂはオキシエチレン基等；Ｚ¹は、単結合又は二価の基である。 （もっと読む）

新規のヒドロキシル官能性ポリエーテルは（ａ）ジビニルアレーンジオキサイド、特にジビニルベンゼンジオキサイド(ＤＶＢＤＯ)等のジビニルベンゼンから由来するジビニルアレーンジオキサイド及び（ｂ）ジフェノールの反応に由来し、ここでの反応生成物は、熱的に安定であり、且つ上昇した温度での加熱で自己重合(架橋結合又はゲル化)の不存在を示す。この新規ヒドロキシル官能性ポリエーテルは、固体エポキシ樹脂、フェノール性エポキシ樹脂(硬化剤)及びポリ(ヒドロキシルエーテル)等の公知のヒドロキシル官能性ポリエーテルと比較して、改良された特質を示す。 （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性に優れた乳化物、特にポリオルガノシロキサンの乳化物を容易に得ることを目的とする。
【解決手段】油中で界面活性剤を合成することにより得られた、油及び界面活性剤の混合物を乳化して乳化物を得ることを特徴とする乳化物の製造方法。特に、通常は安定な乳化が困難な（Ａ）オルガノポリシロキサンの乳化物の製造に好適であり、（Ｂ）シリコーン系界面活性剤、特に、トリシロキサンのようにシロキサン鎖の重合度が小さいシリコーン系界面活性剤を油中で合成することにより、貯蔵安定性に優れた乳化物を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】医薬品用途の高分子量、高純度ポリアルキレングリコール誘導体の製造方法。
【解決手段】次の工程からなる、式（Ｘ）のポリアルキレングリコール誘導体の製造方法。（工程（Ａ））式（Ｙ）の化合物に、アルカリ触媒を添加する。（工程（Ｂ））アルキレンオキシドを５０〜１３０℃の条件下、ｎが５〜５００となるまで反応させ、ポリアルキレングリコール誘導体を得る。（工程（Ｃ））工程（Ｂ）の誘導体を炭化水素系溶媒で希釈し、残存水分を共沸除去する。（工程（Ｄ））工程（Ｂ）の誘導体を、ｎが６００〜２０００となるまで更に反応させる。


（もっと読む）

【課題】フォトレジストに配合してもフォトレジストの硬化に悪影響を与えず、硬化したフォトレジストの耐エッチング性が良好で、更に発泡性の少ないフォトレジスト用の分散剤を提供すること。
【解決手段】下記の一般式（１）で表されるフォトレジスト用反応性分散剤。


（式中、Ｒは酸素原子及び／または窒素原子が入ってもよい炭素数８〜２２の炭化水素基を表し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｍは２〜１００の数を表し、ｎは１または２の数を表し、Ｙは水素原子、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。ただし、（ＸＯ）_ｍ中のオキシエチレン基の割合は５０質量％以上であり、Ｙはアクリル基またはメタクリル基のいずれかが１つ以上入っていなければならない。） （もっと読む）

【課題】 通常の製造設備を用い、副生成物の生成を抑制しつつ、多価アルコールにアルキレンオキサイドを付加反応させて高分子量のポリオキシアルキレン化合物を効率良く得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポリオキシアルキレン化合物の製造方法は、１分子当り３個以上の水酸基を有する飽和化合物にアルキレンオキサイドを付加反応させてアルキレンオキサイドが合計で６０モル以上付加したポリオキシアルキレン化合物を得る方法であって、前記水酸基含有飽和化合物の水酸基１モルに対して５モル以上のアルキレンオキサイドを付加させてアルキレンオキサイド低モル付加物を得る初期工程（Ｉ）と、
前記初期工程で得られたアルキレンオキサイド低モル付加物に、前記アルキレンオキサイド低モル付加物の水酸基１モルに対して５モル以上のアルキレンオキサイドを付加させる付加モル数調整工程（ＩＩ）とを含み、
前記初期工程（Ｉ）で得られるアルキレンオキサイド低モル付加物は、２５℃で液体状態であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特に水系用途において高い性能を発揮できるポリアルキレングリコール系重合体の製造に用い得る、新規なポリアルキレングリコール系化合物を提供する。また、該化合物の効率的な製造方法、該化合物から得られるポリアルキレングリコール系重合体、該ポリアルキレングリコール系重合体を用いた分散剤、洗剤用ビルダー、および洗剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明のポリアルキレングリコール系化合物は、式（１）で表される構造を有し、カルボキシル基および／またはカルボキシル基の塩を有する。
【化１】


（式（１）中、Ｒ_１は水素原子、またはメチル基であり、Ｒ_２は、ＣＨ_２基、ＣＨ_２ＣＨ_２基、または単結合であり、Ｒ_３は炭素数２〜４のアルキレン基であり、ｎはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、１≦ｎ≦３００であり、Ｒは任意の有機基である。） （もっと読む）