【課題】硬化性に優れた硬化物の提供。
【解決手段】（Ａ）窒素カチオンを有するオニウム塩と（Ｂ）硬化性化合物を含有する組成物にプラズマを照射することを含む、硬化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】モノマー塗膜の重合硬膜の表面硬化度を、膜内部の硬化度を低下させることなく改善する。
【解決手段】少なくとも１種のラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、を含有する組成物に、プラズマ照射するプラズマ重合膜の製造方法である。また、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも１種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を、プラズマ照射によって重合させてなるプラズマ重合膜である。 （もっと読む）

【課題】高い配向性及び高い硬膜度の有機薄膜、及びその製造方法の提供。
【解決手段】少なくとも１種の重合性液晶化合物を含有する組成物の配向を、プラズマ照射による重合により固定してなる有機薄膜である。また、少なくとも１種の重合性液晶化合物を含有する組成物を配向させること、前記組成物を配向させるとともに、又は配向させた後に、前記組成物にプラズマを照射して重合を進行させて、配向を固定すること、
を含む有機薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系モノマー重合フィルムの接着性を確実に向上させる。
【解決手段】モノマー供給系２によって、水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーを含むモノマー混合ガスをオレフィン系モノマー重合フィルム１１に吹き付け接触させる。上記２種類のモノマーは、好ましくは互いに混合させずにフィルム１１の近傍まで導いて混合する。凝縮手段５６によって、モノマー混合ガス中の水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーをフィルム１１の表面上で凝縮させる。凝縮の後、プラズマ照射手段４によってフィルム１１に大気圧近傍プラズマを照射する。上記モノマー混合ガス中のオレフィン系モノマーの体積濃度を水溶性モノマーの体積濃度の１．１倍以上とする。 （もっと読む）

１つまたは２つ以上の官能基を有する透過性ポリマーマトリックス、およびポリマーマトリックス内に埋め込まれた、抗微生物特性を提供するための銅または銀などの無機物質（単数または複数）の１個または２個以上のナノ粒子を含む活性ポリマーフィルムが記載される。

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【課題】優れたエッチング選択性及び微細加工性を示し、高密度プラズマ下においてもエッチング速度とエッチング選択性のバランスに優れたドライエッチングが可能であり、また、加熱処理を施しても応力緩和の小さいフルオロカーボン膜を成膜可能なプラズマ反応用ガスを提供すること。
【解決手段】パーフルオロ−(３−メチレンシクロペンテン)を含有してなるプラズマ反応用ガス。 （もっと読む）

【課題】簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。
【解決手段】正孔輸送層１３の上に、ラジカル反応性を有する赤色発光材料を含む赤色発光材料層１４Ｒと、ラジカル開始剤を含むラジカル開始剤層３１とを順に形成する。ラジカル開始剤層３１のうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域に含まれるラジカル開始剤を励起させ、ラジカル連鎖反応により赤色発光材料層１４Ｒのうち赤色発光層１５Ｒの形成予定領域を高分子化させる。そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。これにより、所望の部位のみに赤色発光層１５Ｒが形成される。 （もっと読む）

【課題】溶媒を使用しない方法、および複雑な幾何形状の基板の形状に完全に適合し、かつイオン伝導特性が良好である燃料電池用非架橋イオン伝導性膜を提供する。
【解決手段】それぞれが、少なくとも１つの重合可能な基と、ホスホニルエステル、アシルエステル、スルホニルエステル、ハロゲン化カルボニル、またはハロゲン化チオニルによって形成される基から選択されるイオン伝導性官能基の少なくとも１つの前駆体基とを含む少なくとも２つの同一または異なる重合可能なモノマーをプラズマ化学蒸着させることによって燃料電池のイオン伝導性高分子膜を製造する。 （もっと読む）

式（Ｉ）［式中、Ａ₁は、式（ＩＩ）であり；Ａ₂は、式（ＩＩＩ）であり；Ａ₃は、式（ＩＶ）であり；Ａ₄は、式（Ｖ）であり；ｗ、ｘ、ｙおよびｚは、互いに独立して、０〜４の整数であり；ただし、ｘ＋ｙ＋ｚは、Ｑの結合価に対応して、２〜４の整数であることを条件とし；Ｍ₁、Ｍ₂、Ｍ₃およびＭ₄は、例えば、直接結合、ＣＯまたはＯであり；Ｙは、例えば、直接結合またはＳであり；Ｑは、（ｘ＋ｙ）価の結合基であり；Ｒ₁は、例えば、水素、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキルまたはフェニルもしくはナフチルであり；Ｒ₂およびＲ’’₂は、例えば、水素またはＣ₁〜Ｃ₂₀アルキルであり；Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ’₃、Ｒ’₄、Ｒ’’₃およびＲ’’₄は、例えば、水素、ハロゲン、フェニルまたはＣ₁〜Ｃ₂₀アルキルであり；Ｒ₂₄は、例えば直接結合である］の化合物は、光重合反応において予想外に良好な性能を発揮する。
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【課題】半導体装置の層間絶縁膜などに有用な誘電率が低く、かつ機械的強度が高い絶縁膜を得る。
【解決手段】絶縁膜材料として、ジイソプロピルジビニルシラン、ジアリルジビニルシランなどを用い、プラズマＣＶＤ法によって成膜する。Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、水素、炭素数２〜６の炭化水素などの水素を含まない同伴ガスを成膜時に同伴させてもよい。１−メチル−４−イソピル−１，３−シクロヘキサジエンなどのポロジエンを添加して成膜してもよく、プラズマ発生用高周波電力、成膜用ガスの流量あるいは成膜圧力を変化させて成膜してもよい。 （もっと読む）

【課題】 基板を大気圧プラズマ技術により被覆する方法を提供する。
【解決手段】 前記方法は、基板（１）を準備し、ガスの存在下に大気圧プラズマ放電を作り、基板を前記大気圧プラズマ放電に少なくとも部分的に露出し、被膜形成物質の液体エーロゾル（６）を前記大気圧プラズマ放電中に導入し、それにより基板上に被膜を形成し、基板を紫外光に露出することにより基板及び被膜を硬化することを含む。 （もっと読む）

【課題】導電性粒子の配合量が少なくても、充分な帯電防止性能を発現することができ、硬化性に優れ、かつ、各種基材の表面に、帯電防止性、硬度、及び耐擦傷性に優れ、透明性と表面抵抗値を両立させた硬化膜を形成し得る硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子
（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物
（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有する化合物
を含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも高いガスバリア性能を備え、かつ平滑性、密着性に優れ、大サイズに対応可能なガスバリア性薄膜積層体のバリアフィルムと、高い生産性を有するバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に、少なくともバリア層とポリマー層とを有するバリアフィルムにおいて、該ポリマー層が重合性モノマーを含有する塗布液をミスト状で該基材の表面に噴霧した後、硬化させて形成されたものであることを特徴とするバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】体積位相型ホログラム記録材料用フォトポリマー組成物、更にこれから得られたホログラム記録媒体およびその製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１）で表されるラジカル重合開始剤（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、熱可塑性樹脂（Ｃ）、４００〜８００ｎｍに吸収波長を持つ光増感色素（Ｄ）からなるホログラム記録材料組成物。
【化１】


（式中、Ｘは上記２種のうち少なくともどちらか１種の置換基であり、ｍはＸの置換数を表わしｍ＝１〜６である。置換基の位置は任意である。置換基Ｘがターシャリーブチルパーオキシベンゾエイト誘導体である場合のｎはｎ＝１〜５であり、置換基Ｘ上のターシャリーブチルパーオキシエステル基の位置は任意である。）
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【課題】プラズマ重合により、より低い誘電率の膜を製造する方法およびより低い誘電率の高分子膜を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物のガスを含む混合ガスを減圧下の反応室に供給する工程と、反応室内に形成されたプラズマ中を通過させることにより反応室内に設置された基板表面に前記ガスを吹き付けて、前記有機化合物を骨格に含む高分子膜を基板表面上に成長させる工程とを含む高分子膜の製造方法。該製造方法により得られる高分子膜。


（ＰＣＡは炭素原子数７以上のポリシクロ脂肪族炭化水素基。ＡＬＫは炭素原子数１〜１０の二価の脂肪族炭化水素基。ｍは１または２。ｎは０または１。Ｒ１およびＲ２は炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基、炭素原子数２〜６のアルキニル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数６〜１０のアリール基または炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基。） （もっと読む）