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Fターム[4J029KH05]の内容

ポリエステル、ポリカーボネート (88,866) | 重合後の処理 (1,021) | 物理的処理 (425) | 精製 (187)

Fターム[4J029KH05]に分類される特許

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【課題】ポリ乳酸を含有し、成形加工性に優れ、高結晶性で、高融点の樹脂組成物、その製造方法および成形品を提供する。
【解決手段】ポリL乳酸およびポリD乳酸からなり、前者と後者との重量比が10:90〜90:10の範囲にある組成物であって、モノマー含有量が1重量%以下、触媒含有量が金属換算で10ppm以下であり、重量平均分子量が10万〜50万であり、示差走査熱量計(DSC)測定において、昇温過程における融解ピークのうち、200℃以上の融解ピークの割合が80%以上である組成物、その製造方法および成形品。 (もっと読む)


【課題】溶融成形時の再生環状ダイマーの生成量が少なく、溶融紡糸時の工程調子が安定し、また、製織、製編時のオリゴマー析出量が少なく安定した繊維の生産ができ、さらに染色工程での品質管理に優れた性能を有する、ポリエステルを提供すること。
【解決手段】主たる繰り返し単位をトリメチレンテレフタレート単位とするポリエステルを、該ポリエステル中に含まれるオリゴマーを溶解し、かつ該ポリエステルを実質上溶解しない溶媒を用いて処理し、該オリゴマーを抽出除去するポリエステルの処理方法。 (もっと読む)


【課題】
力学特性を低下することなく優れた低光学分散性に光学特性を有する有機リン系重合体及びそのモノマーとなる新規の有機リン化合物を提供する。
【解決手段】
本発明の有機リン化合物は、下記式(1)で示される構造からなることを特徴とする。
【化16】


(式中Y、Y’は、各々独立に脂肪族基、芳香族基、縮合環式脂肪族基、縮合環式芳香族基、複素環基からなる群から選ばれる炭素数1〜20の有機基である。Xは、酸素、硫黄、セレン、テルル、非共有電子対からなる群から選ばれる。l、m、及びnは各々独立に1〜4の整数である。)
また有機リン系重合体は、上記の有機リン化合物に対応する構造単位を有する重合体である。 (もっと読む)


本発明は、ヒト又は他の動物の有機体に適合する外科用インプラントを製造するための、ポリエーテル単位とポリエステル単位とを含む再吸収性ブロック共重合体の使用に関するもので、さらに、対応するブロック共重合体に関する。この新規なブロック共重合体は機械抵抗が高く再吸収動態が速いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡略化された方法により、重縮合反応槽に供給するポリエステルオリゴマーのカルボキシル末端基濃度の変動を抑制することにより、次行程の重縮合反応の変動が抑制し、均質なポリエステルを安定して生産することができるポリエステルの製造方法を提供すること。
【解決手段】ジカルボン酸とグリコールとからなるスラリーをスラリー調製槽で調製して、該スラリーをエステル化反応槽に連続的に定量供給し、複数のエステル化反応槽を用いてエステル化反応を行い引き続き重縮合を行いポリエステルを連続的に製造する方法において、第1エステル化反応槽の反応条件を一定として、第1エステル化反応槽出口のポリエステルオリゴマーのカルボキシル末端基濃度をオンラインで連続的に検出し、スラリー温度にフィードバックし制御するポリエステルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ポリエステルの製造工程で発生するグリコールを再使用する連続法ポリエステル製造方法において、高品質のポリエステルを経済的に、かつ安定して製造する方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ジカルボン酸とグリコールをスラリー混合槽にて混合しスラリーとなし、該スラリーをエステル化反応槽に供給してエステル化反応を行い、得られたポリエステル低重合体を続いて重縮合反応槽に供給して重縮合することによりポリエステルを連続製造する方法において、該ポリエステル製造工程より留出するグリコールを該ポリエステルの製造工程内に設けた蒸留塔により水を主成分とした低沸点留分を分留除去しスラリー調製槽に戻し循環再使用する方法において、該蒸留塔の底部より抜き出した残留分の一部を該蒸留塔に循環させるポリエステルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ポリエステルの製造工程で発生するグリコールを再使用する連続法ポリエステル製造方法において、高品質のポリエステルを経済的に、かつ安定して製造する方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ジカルボン酸とグリコールをスラリー調製槽にて混合しスラリーとなし、該スラリーをエステル化反応槽に供給してエステル化反応を行い、得られたポリエステル低重合体を続いて重縮合反応槽に供給して重縮合することによりポリエステルを連続製造する方法であって、該ポリエステル製造工程より留出するグリコールを該ポリエステルの製造工程内設けた蒸留塔で、水を主成分とした低沸点留分を分留除去し、循環再使用するポリエステルの製造方法において、該回収グリコール中の水分量をオンラインで計測し、該水分量変動によるフィードバック回路により蒸留塔温度を変えることにより回収グリコール中の水分量を制御するポリエステルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ポリエステルの製造工程で発生するグリコールを再使用する連続法ポリエステル製造方法において、単純な方法でエステル化反応を制御することで、高品質のポリエステルを経済的に、かつ安定して製造する方法を提供すること。
【解決手段】ジカルボン酸とグリコールよりなるスラリーをエステル化反応槽に連続的に供給して直接エステル化法でポリエステルを連続的に製造する方法におけるエステル化工程で留出する留出物を水を主体とした低沸点留分を分留除去した残留分を前記原料グリコールの一部または全量として循環再使用する方法において、スラリー中の水分量を設定値の±1.1質量%以内に制御するポリエステルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ポリエステルの製造工程で発生するグリコールを再使用する連続法ポリエステル製造方法において、単純な方法でエステル化反応を制御することで、高品質のポリエステルを経済的に、かつ安定して製造する方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ジカルボン酸とグリコールをスラリー調製槽にて混合しスラリーとなし、該スラリーをエステル化反応槽に供給してエステル化反応を行い、得られたポリエステル低重合体を続いて重縮合反応槽に供給して重縮合することによりポリエステルを連続製造する方法であって、該ポリエステル製造工程より留出するグリコールを該ポリエステルの製造工程内設けた蒸留塔で、水を主成分とした低沸点留分を分留除去し、蒸留塔底部より取り出される残留分を回収グリコールとして循環再使用するポリエステルの製造方法において、該回収グリコール中の水分量を2〜3±2.0質量%以内に制御するポリエステルの製造方法。 (もっと読む)


(a)テレフタル酸残基;場合によっては、芳香族ジカルボン酸残基若しくは脂肪族ジカルボン酸残基又はそれらのエステル残基を含むジカルボン酸成分;2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール残基;及び1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を含むポリエステルを含むポリエステル組成物を含む眼用製品が記載される。
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本発明の一態様として、(a)70〜100モル%のテレフタル酸残基及び30モル%以下の芳香族ジカルボン酸残基又は脂肪族ジカルボン酸残基を有するジカルボン酸成分;並びに(b)11〜25モル%の2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール残基及び75〜89モル%の1,4−シクロヘキサンジメタノール残基を有するグリコール成分を含む(ジカルボン酸成分の総モル%は100モル%であり、グリコール成分の総モル%は100モル%である)ポリエステルが記載されている。これらのポリエステルからは物品を製造することができる。
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【課題】 有機EL素子を作成するために必要となる高純度の高分子有機電子材料の製造方法、及びその方法により得られる高分子有機電子材料並びに高分子有機電子材料を用いた有機電界発光素子の提供。
【解決手段】 高分子有機電子材料用原料モノマーを金属触媒の存在下で脱水縮合させて高分子有機電子材料を合成する工程と、前記高分子有機電子材料を有機溶剤に溶解させて高分子有機電子材料溶液を調製する工程と、イオン交換樹脂を用いて前記高分子有機電子材料溶液から前記金属触媒に起因する金属イオンを除去する工程と、を有する高分子有機電子材料の製造方法、及びその方法により得られる高分子有機電子材料並びに高分子有機電子材料を用いた有機電界発光素子。 (もっと読む)


【課題】 残留する触媒や着色物質が少なく、透明性に優れた純度の高いポリアリレートと、その製造方法とを提供する。
【解決手段】 触媒として、下記式(1)の第4級アンモニウム塩を、2価フェノールに対して0.3〜1.5モル%使用し、2価の芳香族カルボン酸ハライドと2価フェノールとを界面重縮合反応してポリアリレートを製造する方法であって、重合反応後の有機相に水を添加して有機相を洗浄する工程が、(A)水相のpHが4以下になるまで酸を添加しながら有機相と水相を撹拌した後、水相を除去する工程と、(B)有機相と水相を撹拌した後、水相を除去する工程とからなり、A工程の後、水相のpHが5以上になるまでB工程を繰り返し、次いでA工程の後、水相のpHが5以上になるまでB工程を繰り返す方法。
【化1】


(式中のYはブチル基またはベンジル基を示し、XはCl、Br、Iのハロゲン原子またはOH、HSOを表す。) (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高良品率で得ることができかつ信頼性の高い光ディスク基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、ポリカーボネート樹脂を成形して、光ディスク基板を製造する方法であって、該ポリカーボネート樹脂が、粒径15μm以上である異物総個数が1個/40g以上、36個/40g以下であり、かつそのうち鉄または鉄含有異物が22個/40g以下であることを特徴とする光ディスク基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 ダストの発生が少なく、光学用ポリカーボネート樹脂として好適に使用できる乾燥されたポリカーボネート樹脂の製造に使用する回転多管式乾燥機を提供する。
【解決手段】 回転軸密封用シール部にV型ゴムシールを使用し、密封用シール部の先端にエアーシール流路を設けた回転多管式乾燥機。 (もっと読む)


【課題】 ポリエステル樹脂、特に脂肪族或いは脂環式ポリエステル樹脂を抽出助剤の供給下で抽出剤の流体と接触させて精製処理するにおいて、オリゴマー等の低分子量体を効率的に低減化すると共に、抽出助剤の樹脂中への残存を抑えることができるポリエステル樹脂の精製処理方法を提供する。
【解決手段】 ポリエステル樹脂を、常温常圧下液体の抽出助剤の供給下で、常温常圧下気体の抽出剤の流体と接触させる前段工程、更に、抽出助剤の非供給下で抽出剤の流体と接触させる後段工程により精製処理するポリエステル樹脂の精製処理方法。 (もっと読む)


【課題】ダストの発生が少なく、光学用ポリカーボネート樹脂として好適に使用できる乾燥されたポリカーボネート樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】円筒の一端の入口側円板4に被乾燥物の供給装置8が挿入される入口中空軸6と乾燥ガスの出口9が設置され、出口側円板16に取り付けられた出口中空軸19を含み、これらの中空軸によって支持され、出口側中空軸には被乾燥物の排出装置と加熱媒体の流入管20及びドレン排出管25が設けられた回転円筒式乾燥機を用いて、ポリカーボネート樹脂を乾燥するに際して、回転軸密封用シール部14にV型ゴムシールを使用し、密封用シール部の先端にエアーシール流路を設けることを特徴とする光学用ポリカーボネート樹脂の製造方法。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、リン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種からなるポリエステル重縮合触媒の存在下でポリエステルを連続的に製造する方法において、ポリエステルの製造工程で留出されるグリコールおよびリン化合物を循環再使用できる方法、及び重縮合触媒活性が維持された状態で、昇温時結晶化温度が制御でき、透明性の高い成型体をえるポリエステルの経済性連続製造方法の提供。
【解決手段】リン化合物を添加した反応槽およびそれ以降の反応槽より留出する留出物(A)を水を主体とした低沸点留分、エチレングリコールを主体とした中留分およびリン化合物等を含む高沸点留分に分留して、中留分をエステル化反応用のグリコールの一部と再使用し、かつ高沸点留分をリン化合物の一部または全量として再使用するポリエステル製造方法。また、該製造方法で製造されたポリエステルおよびその成型体。 (もっと読む)


【課題】リン化合物の存在下でポリエステルを連続的に製造する方法において、経済性の高い方法でポリエステルの製造工程で留出されるグリコールを循環再使用できる方法を提供する。また、低コストで製造でき、かつ高品質、特に静電密着性に優れたポリエステルおよびその成型体を提供する。
【解決手段】リン化合物の存在下で芳香族ジカルボン酸を主体とするジカルボン酸とエチレングリコール、1,3−プロパンジオールおよび1,4−ブタンジオールよりなる群から選ばれる1種のグリコールを主たるグリコール成分とする芳香族ポリエステルを連続的に製造する方法において、リン化合物を添加する前の反応槽より留出する留出物とリン化合物を添加した反応槽およびそれ以降の反応槽より留出する留出物を区分して処理し再使用するポリエステル製造方法。また、該製造方法で製造されたポリエステルおよびその成型体。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム化合物からなる重合触媒を用いて重合し、樹脂の着色が抑制され、更にはアルミニウム由来の異物低減の問題が解決された共重合ポリエステル樹脂の製造方法、共重合ポリエステル樹脂、塗料用樹脂組成物及びこれらを塗布した塗装金属板を提供する。
【解決手段】少なくとも1種のアルミニウム化合物を含有する重合触媒の存在下に共重合ポリエステルを製造する方法において、共重合ポリエステルの酸成分が芳香族ジカルボン酸50モル%以上、グリコール成分が(化2)に示すビスフェノールA及び/又はビスフェノールFのアルキレンオキサイド付加物5モル%以上からなる。


(式中、R1、R2及びR3は水素又はメチル基であり、m、nはそれぞれ1以上の数であると同時に2≦m+n≦8である。) (もっと読む)


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