具体的にはプロピレンではない、炭素含有ガスのプラズマ重合によって高度架橋ポリプロピレン材料を製造する方法が開示され、高度架橋ポリプロピレン材料は、低い比誘電率、高い熱安定性、及び強化された機械的特性を示す。前記方法及び材料は、マイクロチップ製造における層間誘電体堆積の用途に適しているが、これに限定されない。 （もっと読む）

【課題】 スループットの高いＭｏｌｅｃｕｌａｒ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＭＬＤ）プロセス，および高性能太陽電池，エレクトロルミネッセンス素子，光スイッチの実現。
【解決手段】
本発明の，反応性分子ガスを異なる分子領域に分離して配置し，基体または分子領域を移動させることにより行う分子領域分割型ＭＬＤは，課題解決の有力手段となる。また，太陽電池，エレクトロルミネッセンス素子，光スイッチに，ＭＬＤにより分子配列制御したポリマ鎖／薄膜を組み込むことは，課題解決の有力手段となる。 （もっと読む）

【解決手段】Ｃ_p−Ｏ−Ｃ_q（但し、ｐ、ｑは炭素数を表わし、２≦ｐ≦６、２≦ｑ≦６であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない）結合を含有する炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された２個以上のケイ素原子を含有し、かつ該２個以上のケイ素原子はいずれも１個以上の水素原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基を有するプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】ＵＶナノインプリント法で成型され、生産性が良く、光学部品として適用できるために十分な透明性を有するＵＶナノインプリント成型体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のＵＶナノインプリント成型体は、樹脂全体に対して０．０１重量％〜０．２重量％のテトラキスペンタフルオロボレートと、前記樹脂全体に対して１重量％〜５重量％のヘキサフルオロホスフェートと、を含有する光酸発生剤と、カチオン反応系モノマーと、を含むカチオン系ＵＶ硬化樹脂を所定形状のキャビティを有する型に流入し、前記カチオン系ＵＶ硬化樹脂にＵＶ光を照射することにより、前記カチオン系ＵＶ硬化樹脂を硬化させることにより得られる。 （もっと読む）

分子層堆積法を用いて有機ポリマー又は有機−無機複合ポリマーの超薄層を基板上に堆積する。この方法は、第１の官能基を有する気相反応物を用いる。この気相反応物は表面に単官能性でのみ反応して、ポリマー鎖に一つの単位を追加する。更に、追加の気相反応物は第１の官能基とは異なる第２の官能基を有するか、又はブロックされ、マスクされ若しくは保護された官能基、又はこのような官能基の前駆体を有する。
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ダイヤモンドおよびダイヤモンド状セラミックのポリマー前駆体であるポリカルビンの製造のための新たな工業的に実行可能な方法。本発明は、ポリカルビンを合成する新たな方法に関する。これらのポリマーは、加熱の際に、プラズマ処理および化学蒸着によって、ダイヤモンドおよびダイヤモンド状セラミックスを製造することで知られている。ポリカルビンを合成する方法には、「トリハロアルカン（RCX₃）またはあらゆる割合でのそれらの混合物、溶剤（2）および電解質を容器（1）に入れ」、「適当な電源（3）を使用し
て、電気を電極（4）へ加える」という特徴がある。
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【課題】 マクロスケールに及ぶ３次元Ｃ_６０ポリマーを製造する。
【解決手段】
ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物を出発原料２０として加圧成形室３０に供給し、加圧成形室３０において加圧部４０により出発原料２０を加圧成形し、加圧成形した状態の出発原料２０に、３００°Ｃ以下の加熱状態で５００〜６００ｎｍ程度の波長領域のレーザ光Ｌを照射することにより、ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物から光重合反応により３次元フラーレン重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】 基板上に共役ポリマーを含む被覆を作るための方法を提供する。
【解決手段】 この方法は基板を準備し、共役ポリマー被覆形成物質を大気圧プラズマ放電中にまたはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、被覆形成物質の導入と同時に、追加の物質を前記プラズマ放電中またはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、基板を前記プラズマ放電またはそれからもたらされる反応性ガス流に露出し、それにより前記被覆を得ることを含む。 （もっと読む）

【課題】
自動的にサンプリングが行える装置を提供する。
【解決手段】
液状合成樹脂の製造タンク又は調合タンクに付設されるサンプリング装置であって、液状合成樹脂を貯蔵するサンプル容器と、液状合成樹脂をサンプル容器に供給するサンプル供給配管と、タンク内の液状合成樹脂を吸引してサンプル容器に供給するポンプと、サンプル容器内に設置された合成樹脂の特性値を測定する計器の検出部と、サンプル容器内の液状合成樹脂を重力又は加圧により元の液状合成樹脂のタンクに戻すように設置された洗浄用配管と、を有することを特徴とするサンプリング装置。 （もっと読む）

【課題】配列の規定されたポリマー鎖を構築するための、ポリマー合成装置および方法を提供すること。
【解決手段】ポリマー鎖を形成するためのポリマー合成法および装置(20)が開示され、該装置は各々液状試薬(24)のタンク(23)に連結されたノズル(22)をもつヘッドアセンブリー(21)と、反応ウエル(26)を有するベースアセンブリー(25)とを含む。該ノズル(22)の上流側の該共通のチャンバー(31)への入口(70)および該ノズル(22)の下流側の該共通のチャンバー(31)からの出口(71)が、該共通のチャンバー(31)から、該試薬により放出される有害な煙霧を掃気する。圧力調節デバイス(82)が設けられ、これは、該反応ウエル(26)に及ぼされる圧力と該オリフィス(74)の出口(80)に及ぼされる圧力との間の差圧を、該差圧が予め定められた値を越えた場合に、該試薬溶液(76)を追い出すように制御する。 （もっと読む）

本発明は、遷移金属によって触媒作用を受ける重縮合によってポリマーを調製する方法に関する。これらポリマーは、特に、急成長している有機半導体の分野において、極めて重要である。本発明の方法により得られるポリマーは、従来方法に従って得られるポリマーよりも、高い再現性及び高い純度で調製され得る。 （もっと読む）

【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約２０℃〜約３５０℃の炭化水素系液体モノマー(C_αH_βX_γ、α，β：５以上の自然数，γ：0を含む整数、X：O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 （もっと読む）

モノマーをそれら自身とまたはこれらと少なくとも一種の他のモノマーと溶融縮合することによってポリマーを連続的に製造する方法において、溶融したモノマーを触媒の存在下にエステル化またはエステル交換し； 次いで得られたエステル化生成物／エステル交換生成物を、予備縮合のために、環状ディスク反応器に供給し、その後、得られた予備縮合生成物を、重縮合のためにＬＶＳ環状ディスク反応器に供給し、そして最後に得られた重縮合生成物を、最終の重縮合のためにＨＶＳ環状ディスク反応器に供給する。 （もっと読む）