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Fターム[4J036DA01]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | エポキシ樹脂の硬化剤、硬化促進剤 (2,188) | エポキシ硬化剤一般 (669)

Fターム[4J036DA01]に分類される特許

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【課題】硬化後の硬化物の接着性に優れている硬化性組成物、並びに該硬化性組成物を用いたダイシング−ダイボンディングテープを提供する。
【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、極性基を有するエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂用硬化剤と、エポキシ基含有アクリル樹脂とを含む。上記エポキシ基含有アクリル樹脂の重量平均分子量は1万〜40万であり、かつ上記エポキシ基含有アクリル樹脂のガラス転移温度は60℃以上である。ダイシング−ダイボンディングテープ1は、硬化性組成物により形成された粘接着剤層3と、粘接着剤層3の片面3aに積層された基材層4とを備える。 (もっと読む)


【課題】放熱性及び耐熱性に優れた硬化物を得ることができる樹脂組成物及び樹脂シートを提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂組成物は、重量平均分子量が1000以下であり、かつ炭素−炭素二重結合を有するラジカル重合性化合物(A)と、光ラジカル発生剤(B)と、重量平均分子量が600以下であり、炭素−炭素二重結合を有さずかつエポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(C)と、熱硬化剤(D)と、熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラー(E)とを含有する。樹脂組成物中の全樹脂成分の合計100重量%中、上記ラジカル重合性化合物(A)の含有量は20〜60重量%、かつ上記硬化性化合物(C)の含有量は10〜60重量%である。本発明に係る樹脂シートは、上記ラジカル重合性化合物(A)を不溶のゲル体を形成するように、又は重量平均分子量が1万以上になるように重合させ、上記樹脂組成物の硬化を進行させたものである。 (もっと読む)


【課題】ゲルタイムを速くすることでボイド発生がなく、硬化温度を下げることが可能な電子部品用液状樹脂組成物、及びこれにより封止された信頼性(耐湿性、耐温度サイクル性)の高い電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)液状エポキシ樹脂、(B)液状芳香族アミン、(C)硬化促進剤として下記一般式(I)で表される構造を分子内に有する化合物を含有する電子部品用液状樹脂組成物。R及びRはそれぞれ独立に、炭素数1〜18の二価の炭化水素基であり、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜18の一価の炭化水素基である。
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【課題】保存安定性及び反応性に優れたワックス被処理硬化剤を製造する方法、及びその利用を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるワックス被処理硬化剤を製造する方法は、樹脂の硬化を促進する固形状の硬化剤を、ワックスを分散又は溶解した液体中に分散させる分散工程と、次いで、上記硬化剤を分散させた上記液体を気相中に噴霧する噴霧工程とを含む。 (もっと読む)



【課題】熱処理を施して得られる熱硬化性樹脂としたときのTgが高く、なおかつ低弾性であり、強度、たわみに優れた、液状封止樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記成分、(A)一般式(1)で表され、室温での粘度が50〜100000cPsであり、エポキシ当量が150〜2000g/eq.であるエポキシシリコーン樹脂、(B)室温で液状であり、かつ分子内に少なくとも1つ以上の酸無水物基またはアミノ基を有する化合物及び樹脂、(C)硬化促進剤を必須成分として含む半導体用液状封止樹脂組成物。式中、R1、R2は炭化水素基を表し、E1はイソシアヌル環骨格を含む基を介して結合するエポキシ基を有するエポキシ基含有基であり、Zは2価の有機基であり、m及びnは独立に0〜100の数を表す。
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【課題】高周波の電気信号を伝達可能であり、導体層と絶縁層とが十分な強度で接着され、しかも耐熱性も十分に優れる配線板を製造可能な導体張積層板を提供する。
【解決手段】導体張積層板1は、絶縁層2、接着層4及び導体層6をこの順に備えた構造を有している。ここで、接着層4は、所定の樹脂組成物の硬化物から構成されるものである。この樹脂組成物は、(A)成分;ポリアミドイミドと、(B)成分;ポリブタジエン構造及びオキシラン環を有する特定のエポキシ化合物と、ラジカル反応開始剤とを含む樹脂組成物の硬化物からなる。 (もっと読む)


【課題】流動性、フィラー高充填性、耐湿性、耐熱性、難燃性に優れた硬化物を与え、電子部品の封止、回路基板材料等の用途に好適なエポキシ樹脂及びその組成物を提供する。
【解決手段】4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、0.5〜1.4モルのインデン又はスチレンを反応させて得られるフェノール樹脂と、エピクロルヒドリンを反応させることにより得られるエポキシ樹脂であり、下記一般式(1)で表される。


(但し、R1、R2は、独立に水素、インデニル基又はα−メチルベンジル基を示し、Gはグリシジル基を示す。pおよびqは0〜3の数であるが、p+qの合計は平均値として0.5〜1.4である。また、nは0〜5の数を示す。) (もっと読む)


【課題】過酷な環境下で使用されてもクラック又は剥離が生じ難い光半導体装置用封止剤を提供する。
【解決手段】本発明に係る光半導体装置用封止剤は、環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂反応物と、上記シリコーン樹脂反応物の上記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤とを含有する。上記シリコーン樹脂反応物は、単官能のカルボン酸及び単官能のアミン化合物の内の少なくとも1種の成分と、環状エーテル含有基を有するシリコーン樹脂との反応により得られる。光半導体装置1は、光半導体素子3と、該光半導体素子3を封止するように設けられた光半導体装置用封止剤4とを備える。 (もっと読む)


【課題】低粘度で高流動性を有し保存安定性に優れるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、硬化促進剤(C)と、無機充填材(D)と、シランカップリング剤(E)とを含むエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ化合物(A)は、エポキシ化シクロヘキサンを2個有する特定な脂環式ジエポキシ化合物(a1)20〜80重量%、及び前記脂環式ジエポキシ化合物(a1)以外のエポキシ化合物(a2)80〜20重量%からなり、前記無機充填材(D)は、シランカップリング剤で表面処理された無機微粒子である、エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


本発明は、a.不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂およびそれらの混合物からなる群から選択されるラジカル共重合を行うことが可能な化合物と、b.第一および/または第二脂肪族アミンと反応することが可能な化合物としてエポキシド官能性樹脂と、c.遷移金属化合物と、d.第一および/または第二脂肪族アミンとを含む多成分樹脂系において、遷移金属は、Cu、Mn、Feおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする、多成分樹脂系に関する。 (もっと読む)


【課題】ガラス等の透光性基板上に形成された着色画素毎の膜厚が異なるカラーフィルタに対して透明保護膜を塗布し形成する場合に、着色画素上の透明保護膜層の膜厚差が少ない透明保護膜用樹脂組成物と、その適用により、液晶層のマルチギャップを維持できるカラーフィルタ基板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示用カラーフィルタに用いられる熱硬化性の透明保護膜用樹脂組成物において、水酸基を有するアクリルモノマーと他のアクリルモノマーである(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートから選ばれるアクリルモノマーとの共重合体であるアクリル樹脂とエポキシ樹脂からなる樹脂組成物であり、前記樹脂組成物の硬化温度が100〜130℃の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】光半導体封止材、接着剤、電気絶縁材、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基盤、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリなどとして使用できる、耐熱性、耐光性、透明性ならびに耐クラック性に優れた硬化物を形成することができる硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明では、脂環式エポキシ化合物(A)と、下記式(1)[式中、R1及びR2は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を示す]で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、硬化剤(C)又は硬化触媒(D)とを含むことを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
【化1】
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【課題】保存安定性、密着性、屈曲性、充填性、吸湿時の耐熱性、難燃性をいずれも高めることができるプリント配線板用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】プリント配線板用エポキシ樹脂組成物に関する。(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)カルボジイミド変性可溶性ポリアミド、(D)無機充填材が必須成分として含有されている。前記(D)成分として、モリブデン酸亜鉛で処理されたタルク、クロライトのうちの少なくとも1種類が用いられている。 (もっと読む)


a)硬化性エポキシ樹脂と、b)式Iによるポリカルボジイミド0.01〜30重量%とを含む組成物を提供する。
R−{−N=C=N−R−}n−N=C=N−R (I)
式中、nは0〜100の整数であり、各Rは独立して、1〜24個の炭素を含むと共に、任意で置換されている芳香族基及び脂肪族基から選択され、典型的にはポリカルボジイミドを0.1〜20重量%含む。いくつかの実施形態では、本開示は、硬化されているか、未硬化であるか、又は部分的に硬化されている上記のような物質で作製したシート材を提供する。いくつかの実施形態では、これらの組成物は、複合パーツの表面フィルムを作製するのに有用である場合があると共に、良好なペイントリムーバ耐性及びマイクロクラック耐性を示す場合がある。 (もっと読む)


【課題】難燃性、成形性、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性に優れ、VLSIの封止用に好適な封止用エポキシ樹脂成形材料を提供する。
【解決手段】(A)下記式(I)で示されるエポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(F)末端が炭化水素基、水酸基、アルコキシ基のいずれかであり、エポキシ当量が500〜4000である珪素含有重合物からなる封止用エポキシ樹脂成形材料。


(一般式(I)中のR、Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の、炭化水素基及びアルコキシ基から選ばれる。nは0〜4の整数。mは0〜6の整数。) (もっと読む)


【課題】熱的、機械的特性および電気的特性に優れた基板形成用組成物と、これを用いたプリプレグおよび基板を提供する。
【解決手段】本発明の基板形成用組成物は、エポキシ樹脂の主鎖にフルオロエポキシ化合物を導入してなるマトリクス樹脂を含む。 (もっと読む)


【課題】熱膨張率が低く、かつ導体層のピール強度に優れる絶縁層が形成可能な、多層プリント配線板の層間絶縁用樹脂組成物、並びに該樹脂組成物より調製される多層プリント配線板用の接着フィルムおよびプリプレグの提供。また該樹脂組成物または該プリプレグの硬化物により絶縁層が形成されている多層プリント配線板の提供。
【解決手段】下記成分(A)〜(E):(A)1分子中に2以上のエポキシ基を有し、温度20℃で液状であるエポキシ樹脂、(B)1分子中に3以上のエポキシ基を有し、エポキシ当量が200以下である芳香族系エポキシ樹脂、(C)フェノール系硬化剤、(D)ガラス転移温度が100℃以上である、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂およびポリアミドイミド樹脂からなる群より選ばれる一種以上の樹脂、及び(E)無機充填材を含む多層プリント配線板の層間絶縁用樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】低温での硬化反応を抑制して、貯蔵安定性(1液安定性)の向上を図るとともに、加熱処理を施すことにより、効果的にエポキシ樹脂を硬化させることができる包接化合物を提供する。
【解決手段】式(I)で代表されるイソフタル酸化合物、及び、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンで代表されるテトラキスフェノール系化合物より選ばれる少なくとも1種と1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5を含有する包接化合物。


[式中、Rは、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、ニトロ基又は水酸基を表す。] (もっと読む)


【課題】本発明は、耐熱性、光学特性に優れる硬化物を与える新規な脂環エポキシ樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】
下記式(1)
【化1】


(式中、複数存在するR、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、もしくは炭素数1〜6のアルキル基を表す。Pはメチルカルボニルオキシ結合および/またはカルボニルオキシメチル結合を表す。)
で表されることを特徴とするジオレフィン化合物を原料とし、これをエポキシ化することにより得られるエポキシ化合物、及びその硬化物。 (もっと読む)


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