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Fターム[4J036DA01]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | エポキシ樹脂の硬化剤、硬化促進剤 (2,188) | エポキシ硬化剤一般 (669)

Fターム[4J036DA01]に分類される特許

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【課題】AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤を含有し、(A)エポキシ樹脂が、特定の一般式で示されるエポキシ樹脂を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】AgやAuのような貴金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性、流動性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(H)特定の式で示されるインデン系オリゴマーを含有し、(A)エポキシ樹脂が、(A1)特定の式で示されるエポキシ樹脂と(A2)特定の式で示されるエポキシ樹脂を含有し、エポキシ樹脂(A2)の含有量がエポキシ樹脂(A1)とエポキシ樹脂(A2)の総和に対して、5〜70質量%である封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】簡便な工程により、電子素子に水分、塵等の異物が付着しないように、また反りねじれが少なく難燃性に優れ、必要部分には十分に樹脂を充填させ、電子素子を封止することができるシート状樹脂組成物とそれを用いて封止された回路部品を提供する。
【解決手段】(A)液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、(B)軟化点が70℃以下の固形状多官能エポキシ樹脂、(C)エポキシ樹脂用硬化剤、(D)無機フィラー、(E)難燃剤を必須成分とするシート状樹脂組成物であって、(A)/(B)の質量比が10/90〜30/70であり、かつ前記(D)含有量が組成物全量に基づき50〜80質量%であるシート状樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】吸水性が低く、過酷な使用環境においても安定した性能を発揮する硬化成型体を得ることが可能な硬化成型体用樹脂組成物、及び、光学部材等の各種用途に有用な硬化成型体を提供する。
【解決手段】縮合性無機化合物、硬化性有機化合物及び硬化剤を含む硬化成型体用樹脂組成物であって、該硬化性有機化合物は、オキセタン環を有する化合物を含むことを特徴とする硬化成型体用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】コンポジット(複合材料)等の熱伝導率を向上させるための窒化アルミニウムの高熱伝導性複合粒子及びそれを用いた放熱材料を提供。
【解決手段】窒化アルミニウム粒子の表面に化学的に結合したメソゲン基及び窒化アルミニウムと反応性のある官能基を有する有機化合物により窒化アルミニウム粒子を処理して有機被覆層を形成した高熱伝導性複合粒子、それを用いた樹脂組成物、その硬化物、樹脂シート、プリプレグ、積層体、電子装置。 (もっと読む)


【課題】ヒドロシリル化反応の際に炭素−炭素二重結合が内部転位を起こしにくく、且つエステル部位の還元反応を起こしにくいエポキシ化合物、また、透明性、耐熱性、ガスバリア性に優れた硬化物が得られる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】以下の一般式(1)で表されるエポキシ化合物;


(式中、R1〜R9は、各々独立して水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、nは0〜4の整数である。)上記エポキシ化合物と、異なるSi原子に水素原子が結合して形成されるSi−H基を分子内に2つ以上含む鎖状または環状のシリコーン化合物とをヒドロシリル化反応することで得られる、エポキシ基含有シリコーン生成物を含む硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、得られた硬化膜は耐熱性、透明性,耐溶剤性を有することで、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられ、さらに保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(A)エポキシ基を有する化合物、(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(C)感放射線性重合開始剤、並びに(D)ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、低温(200℃以下)で硬化可能であり、得られる硬化膜が柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、硬化膜からの難燃剤成分のブリードアウトが発生しない熱硬化性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも(A)分子内にラジカル重合性基を実質的に含有しないカルボキシル基含有樹脂、(B)エポキシ樹脂、及び(C)熱硬化性樹脂組成物中において粒子径が1μm以上、25μm以下で存在しているイミド樹脂を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】ガラス転移点(Tg)が約200℃以上で、熱膨張率が小さく、放熱性に優れる樹脂複合組成物およびこれを用いた半導体封止材ならびに基板を提供する。
【解決手段】下式


(式中、Xは−CH2−、−C(CH3)2−、又は−SO2−を表す。)で表されるベンゾオキサジン誘導体とエポキシ樹脂と無機フィラーを有する樹脂複合組成物であって、ベンゾオキサジン環に対する該エポキシ樹脂が有するエポキシ基のモル比が0.2〜0.7であり、無機フィラーが鱗片状の一次粒子が配向せずに集合してなる松ボックリ状の六方晶窒化ホウ素を含み、無機フィラーが樹脂複合組成物全体の30〜85体積%である樹脂複合組成物。 (もっと読む)


【課題】低温かつ短時間での加熱・焼成が可能であると共に、高い放射線感度を有し、低線熱膨張係数を示す、フレキシブルディスプレイのスペーサー、保護膜、層間絶縁膜等の形成に好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】(A)(a1)カルボキシル基含有構造単位及び(a2)エポキシ基含有構造単位を有する共重合体、並びに
(B)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物
(C)感放射線性重合開始剤
(D)一般式(1)及び(2)で表される化合物から選ばれる少なくとも一方を含むことを特徴とする表示素子用感放射線性樹脂組成物によって達成される。 (もっと読む)


【課題】
先供給方式のための半導体封止充てん用樹脂組成物として用いた場合に、優れた接続信頼性が奏され、かつ接続の際の樹脂中のボイドの発生を充分に抑制することが可能な半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物、及びこれを用いた半導体装置を提供すること。
【解決手段】
複数のバンプが形成された半導体チップと、複数の電極を有する基板と(ただし、前記バンプ及び前記電極の少なくとも一方の表面にすず又ははんだが存在する)、を電気的に接続するために用いられる、半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、フラックス剤を必須成分とし、上記接続は、所定の方法により実施される半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性、低熱膨張性を発現し、さらに良好な溶剤溶解性を実現する硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板、これらの性能を与える新規エポキシ樹脂を提供すること。
【解決手段】下記構造式(i)


(式中、Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1〜4の炭化水素基、又は炭素原子数1〜2のアルコキシ基を示し、Xは、それぞれ独立して水素原子又はナフタレン環にエーテル結合したエポキシ基を持つ基を示す。但し、Xのうちの少なくとも1つはナフタレン環にエーテル結合したエポキシ基を持つ基である。)で表される新規エポキシ樹脂をプリント配線基板用ワニス用主剤として使用する。 (もっと読む)


【課題】均一に硬化した信頼性の高い硬化物を形成することのできるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と硬化促進剤マイクロカプセルとを含有するエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂と前記硬化促進剤マイクロカプセルとの間の比重差が0.3以下であるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】従来に無く優れた耐熱性、低熱膨張性を発現する硬化性樹脂組成物、その硬化物、耐熱性及び低熱膨張性に優れるプリント配線基板を提供する。
【解決手段】下記、下記構造式(i)
【化1】


(式中、Rは、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1〜4の炭化水素基、又は炭素原子数1〜2のアルコキシ基を示す。)
で表される骨格を有する化合物(a)に代表される、分子構造中にナフタレン構造とシクロヘキサジエノン構造とグリシジルオキシ基とを有するエポキシ樹脂(A)、及びシアン酸エステル系化合物(B)を必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】耐光性などの光学特性、耐熱性などの機械物性、接着性、エッチング耐性等に優れるアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む樹脂組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供する。
【解決手段】特定のアダマンタン骨格を含有するアダマンタン誘導体である。一例を下記に示す。


a〜kは、13C-NMRのスペクトルデータと対応するものである。 (もっと読む)


【課題】紫外線に対して高い反射率を有し、さらに、機械特性および密着性(耐熱変形性と熱処理による不良品発生率)に優れる光半導体用反射材を提供すること。
【解決手段】(A)アダマンタン骨格を有するエポキシ化合物、(B)硬化剤および(C)無機粒子および/または架橋粒子を含む樹脂組成物および同樹脂組成物を硬化物層として設けてなる光半導体用反射材である。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐光性など光学特性、耐熱性、機械物性に優れた優れた硬化物を与えるアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む樹脂組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供する。
【解決手段】下式で示されるアダマンタン誘導体。


[式中、R1はアルキル基等を表し、kは0〜4の整数を表し、Xはアルキレン基等を表し、Yはオキシラニルメチル基、オキセタニルメチル基等を表し、jは1〜4の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】新規な硬化物及び該硬化物を与え得るジエポキシ化合物が求められている。
【解決手段】式(1)


(式中、R〜Rはそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表わす。)
で表わされるジエポキシ化合物、
前記式(1)で表わされるジエポキシ化合物及び硬化剤を含むことを特徴とする組成物、並びに、前記組成物を硬化して得られる硬化物。 (もっと読む)


【課題】難燃性に優れ、成型性、機械強度がよいビスフェノールF型エポキシ樹脂組成物およびその硬化物を提供する。
【解決手段】樹脂を合成する際に生成する特定の環状モノマー成分の含有量が一般式(1)で示されるビスフェノールF型ジグリシジルエーテル成分に対し高速液体クロマトグラフィー測定で1.0質量%以下であるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)と硬化剤および難燃剤を必須成分としてなる難燃性エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物。
(もっと読む)


【課題】エピハロヒドリンを用いて製造されたエポキシ樹脂であって、全ハロゲン含有量が著しく低減された高純度エポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】活性水素化合物とエピハロヒドリンとの反応によって得られ、全ハロゲン含有量が80重量ppm以下であるエポキシ樹脂。活性水素化合物とエピハロヒドリンとの反応によって得られたエポキシ樹脂を、昇華法、蒸留法、晶析法、アルカリ洗浄法により精製する。各種絶縁材料や積層板などの電気、電子材料として有用な、ハロゲンの溶出の問題のない高信頼性のエポキシ樹脂硬化物を与えることができる。 (もっと読む)


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