説明

Fターム[4J100AM21]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 不飽和ニトリル、アミド、イミド (5,789) | 不飽和モノカルボン酸アミド (3,756) | N置換(メタ)アクリルアミド (1,280)

Fターム[4J100AM21]に分類される特許

281 - 300 / 1,280


【課題】
難着霜性および除霜性に優れ、その優れた性能を長期間持続することが可能な被膜を形成できる親水化処理組成物、及び該親水化処理組成物を塗装してなる親水性被膜を有する熱交換器用部品を提供すること。
【解決手段】
特定の構造を有するポリエーテル化合物と反応して結合を形成することの可能な官能基を有する重合性不飽和モノマーと該ポリエーテル化合物の反応により得られるポリエーテル基含有重合性不飽和モノマーを含むモノマー混合物を重合して得られるポリエーテル基含有アクリル樹脂(A)と架橋剤(B)を含んでなることを特徴とする親水化処理組成物。 (もっと読む)


【課題】ハードコート材の基材とハードコート層との間に設けられるプライマー層を形成する際に好適に用いられ、かつ、実質的に溶剤を含有しない感光性組成物、その感光性組成物を用いて形成されたプライマー層を有するハードコート材、及びそのハードコート材を備えた画像表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性組成物は、トリアセチルセルロースに対して相溶性である単官能の重合性化合物(A)と、カルボキシ基、水酸基、イミド基、及びアミド基の少なくとも1種を有し、かつ、トリアセチルセルロースに対して非相溶性である単官能の重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有し、実質的に溶剤を含有しない。(A)の含有量は、(A)と(B)との合計に対して25モル%以上である。また、該感光性組成物中の重合性化合物に占める単官能の重合性化合物の割合は90モル%以上である。 (もっと読む)


【課題】共重合体の皮膜強度、伸度が十分得られるような乳化重合方法を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル系モノマーを主成分とし、複数のビニル系重合性単量体を有するビニル系重合性単量体混合物を乳化重合して、ビニル共重合体の水性分散体を製造する方法において、ビニル系重合性単量体混合物から得られる共重合体のガラス転移温度をTg(℃)、それらを共重合する反応温度をT1(℃)としたとき、T1とTgとの温度差(T1−Tg)が20(℃)未満とする。 (もっと読む)


【課題】高いラジカル濃度を有することのできるN,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミドおよびその製造方法、N,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−N−オキシル−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミド化合物架橋重合体、並びに、二次電池の電極を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるN,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミド。
[化1]


式(1)中、Rは水素原子またはメチル基を示す。 (もっと読む)


【課題】高いラジカル濃度を有することのできるN,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−N−オキシル−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミド化合物およびその製造方法、N,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−N−オキシル−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミド化合物架橋重合体、並びに、それらを用いた二次電池の電極を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表されるN,N−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−N−オキシル−4−イル)−アミン−(メタ)アクリルアミド化合物。


式(1)中、Rは、水素原子またはメチル基を示す (もっと読む)


【課題】膨潤速度が速く、機械的強度が高い塞栓材及びその製造法の提供。
【解決手段】(メタ)アクリルアミド系単量体に由来する構成単位及び不飽和カルボン酸に由来する構成単位を含む共重合体を架橋剤により架橋したpH応答性水膨潤性高分子材料の薄膜2から形成され、膜厚が5〜70μmであり、pHが7以上の条件下で水膨潤する、ロール状に巻回されている形状である塞栓材1。製造方法は水膨潤性高分子材料を有機溶媒中に分散させた後、有機溶媒を揮発させることによって水膨潤性高分子材料の薄膜を形成する工程を含む。 (もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陰イオン基とを含む硬化性イオン化合物20〜65重量%と、(iii)溶媒15〜45重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%とを含む硬化性組成物であって、該組成物は0.8〜12のpHを有する。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(C)溶剤を含有してなり、光酸発生剤(B)の含有率が、該組成物の全固形分を基準として8〜20質量%であるパターン形成方法。 (もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陽イオン基とを含む硬化性イオン化合物12〜65重量%と、(iii)溶媒10〜70重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%と、(v)非硬化性塩とを含む硬化性組成物であって、ここで(i)の(ii)に対するモル比が>0.10である。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陰イオン基とを含む硬化性イオン化合物20〜65重量%と、(iii)溶媒15〜45重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%とを含む硬化性組成物であって、(i)の(ii)に対するモル比が0.1〜1.5である。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


【課題】低複屈折性保護ポリマーフィルムから移動UV色素を取り除くまたは低減すること。
【解決手段】低複屈折性保護ポリマーフィルム188と、ポリ(ビニルアルコール)への接着を促進する層とを含み、UV吸収ポリマーを含む少なくとも1つの機能層186を含む保護カバーシート189。 (もっと読む)


【課題】
感度に優れると共に、MEEFを良好に維持することが可能な化学増幅型レジストであるフォトレジスト組成物の提供
【解決手段】
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)および感放射線性酸発生剤(B)を含有するフォトレジスト組成物。
【化1】
(もっと読む)


(i)少なくとも2個のアクリルアミド基を含む架橋剤2.5〜50重量%と、(ii)エチレン性不飽和基と陽イオン基とを含む硬化性イオン化合物12〜65重量%と、(iii)溶媒10〜70重量%と、(iv)フリーラジカル開始剤0〜10重量%と、(v)リチウム塩及び/又はカルシウム塩とを含む硬化性組成物である。かかる組成物は、イオン交換膜を製造するのに有用である。 (もっと読む)


【課題】特にArFエキシマレーザー、電子線、X線、EUV等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する部位を含む繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含み、繰り返し単位(A)が炭素数7以上の芳香環を、少なくとも、該酸アニオン発生部位を有する側鎖上であって該酸アニオン発生部位以外に有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】リン酸モノエステル及びリン酸ジエステルの混合物から容易にリン酸モノエステルを精製することができるリン酸エステルの精製方法を提供すること、並びに、ポリマー合成時のゲル化を防止し安定に製造することができるポリマーの製造方法、及び、前記ポリマーの製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤を提供すること。
【解決手段】リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを主成分とするリン酸エステル混合物を、中性の水及び非ハロゲン系有機溶剤と混合し、リン酸モノエステルを水相に抽出する抽出工程、並びに、前記水相と有機相とを分離する分離工程、を含むことを特徴とするリン酸エステルの精製方法、前記精製方法により得られたリン酸エステルを用いるポリマーの製造方法、並びに、前記製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤。 (もっと読む)


【課題】めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れ、めっき液耐性に優れる絶縁性樹脂層を形成しうる絶縁樹脂及び該絶縁性樹脂を含んでなる絶縁性樹脂層形成用組成物、金属パターンを簡易に形成しうる積層体、該積層体を用いた表面金属膜材料の作製方法、金属パターン材料の作製方法の提供。
【解決手段】式(A)、式(B)及び式(C)で表される共重合体からなる絶縁性樹脂である。式中、R〜Rは、水素又はアルキル基、Z及びVは二価の炭化水素基等、W、Wはめっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基。R及びRは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基等を表す。
(もっと読む)


【課題】耐候性、防汚性、防曇性に優れた、高透明性の有機無機複合体を形成することができる水系有機無機複合組成物を得る。
【解決手段】粒子径が1〜400nmの金属酸化物(A)と、
水及び乳化剤の存在下で、加水分解性珪素化合物(b1)と、2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)とを重合して得られる、粒子径が10〜800nmである重合体エマルジョン粒子(B)と、
を、含有し、
前記2級及び/又は3級アミド基を有するビニル単量体(b2)と、前記重合体エマルジョン粒子(B)との質量比(b2)/(B)が、0.01以上0.05以下である水系有機無機複合組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】フォトクロミック特性を有する、透明で、架橋されたポリマー物質の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)フォトクロミック剤を、溶媒または混合溶媒に溶解させて、フォトクロミック含侵溶液を得る工程と、(b)親水性を有し、透明で、架橋されたポリマー物質を、前記フォトクロミック含侵溶液に含侵させて、フォトクロミック溶液に含侵された物質を得る工程と、(c)前記含侵された物質を、水溶液で洗浄して、前記含侵溶液を前記水溶液で実質的に置換する工程と、(d)得られたフォトクロミックポリマー物質を回収する工程と、を含む工程でポリマー物質を製造する。 (もっと読む)


本開示は、固体粒子と構造化されたビニルポリマー分散剤とを含む水性分散系であって、前記構造化ビニルポリマー分散剤が少なくとも1つの親水性セグメントと少なくとも1つの疎水性セグメントを含み、親水性セグメントが少なくとも1つの架橋性部分を含み、架橋性部分が水性インクビヒクルに実質的に不溶性である架橋剤と架橋されている、水性分散系を提供する。これらの分散系は、インクジェットインク中で使用された場合に、新興のインクジェット利用分野に必要とされる必須の光学密度および色度を伴う画像を提供する。 (もっと読む)


【課題】良好なラインエッジラフネス及び良好なマスクエラーファクターを示す化学増幅型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。


【解決手段】式(aa)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。
[式(aa)中、Tは、C4〜36の脂環式炭化水素基、該基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、C1〜12のアルキル基等で置換されていてもよく、該基に含まれるメチレン基は、少なくとも1つの−SO−で置換されており、さらに、カルボニル基、酸素原子等で置換されていてもよい;Rは、水素原子又はC1〜6のアルキル基;Rは、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲン原子を有してもよいC1〜6のアルキル基;Zは飽和炭化水素基を表し、飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−CO−、−O−、−S−又は−N(R)−で置き換わっていてもよい。] (もっと読む)


281 - 300 / 1,280