内部オルトメタル化を含有するヘテロ環式有機配位子のハフニウム錯体、およびオレフィン重合触媒、特に気相オレフィン重合でのオレフィン重合触媒の成分としてのそれらのハフニウム錯体の使用が開示される。 （もっと読む）

側鎖ヒドロキシル官能基を有するチオエーテル官能性ポリチオールオリゴマーであって、
（ａ）少なくとも二つのチオール官能基を有する化合物、
（ｂ）三重結合官能基を有するヒドロキシル官能性化合物、および
（ｃ）少なくとも二つの二重結合を有する化合物
を一緒に反応させることによって調製される、ポリチオールオリゴマーが提供される。さらに、
（ａ）以下：
（１）ジチオール、および
（２）少なくとも二つの二重結合を有する化合物；
を一緒に反応させることによって調製される、少なくとも二つのチオール官能基を有する化合物、
（ｂ）三重結合官能基を有するヒドロキシル官能性化合物、および任意選択で、
（ｃ）上記化合物（２）と同じであっても異なっていてもよい、少なくとも二つの二重結合を有する、さらなる化合物、
を一緒に反応させることによって調製される、側鎖ヒドロキシル官能基を有するチオエーテル官能性ポリチオールオリゴマーが提供される。 （もっと読む）

重合条件下、（ｂ）式（Ｉ）：


（ここで、基Ｒ^１〜Ｒ^４、Ｌ、Ｍ、及びＷは、本文中に記載した通りである）
の少なくとも１種類のメタロセン化合物；（ｂ）アルモキサン又はアルキルメタロセンカチオンを形成することのできる化合物；及び場合によっては（ｃ）有機アルミニウム化合物；を接触させることによって得られる触媒系の存在下において、エチレン及び少なくともプロピレンを接触させて、９６モル％〜７１モル％のエチレン誘導単位を含むコポリマーを得ることを含む重合方法。
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フィルム表面に傷が付きにくく、付着異物が少ないことに加え、当該フィルムを使用して偏光板を製造する過程で新たに付着する異物を防ぐことができる光学フィルムロールおよびそれを用いた偏光板の製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる光学フィルムとポリエステル系フィルムとを重ね合わせ、巻回することにより得られる光学フィルムロール、この光学フィルムロールにおける光学フィルム長手方向と、偏光子の長手方向とを揃え、両者を連続的に貼付する工程と、ポリエステル系フィルムを除去する工程とを含む偏光板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大型の液晶表示装置に好適に用いうる偏光板であって、製造効率が良く、低コストで、耐熱性に優れ、複屈折が小さい偏光板を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる透明な基板と、基板上に互いに平行かつ等間隔で配設された複数の金属細線と、基板との屈折率の差が０．０１以下である透明な被覆層とを備えている偏光板。基板を形成するノルボルネン系樹脂は、一般式（１）：


で表される１種の化合物を含む単量体を（共）重合して得られた樹脂である。 （もっと読む）

【課題】低吸湿性、低誘電率性、耐熱性などに優れたアセナフチレン誘導体を樹脂骨格に有し、熱硬化性および／または光硬化性をもつ共重合体または変性共重合体を提供する。アルカリ現像性に有効な酸性基を有し、レジスト材料に使用することができる共重合体または変性共重合体を提供する。
【解決手段】アセナフチレン誘導体と、不飽和酸無水物とを重合させてなる共重合体。 （もっと読む）

【課題】公知品に比べて、透明性、対衝撃強度等の特性に優れた物性を有するポリオレフィンを提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される炭素原子数４〜３０の環状または非環状のオレフィンを、付加重合用触媒を用いて重合し、重合体を製造する方法。


〔式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル基置換炭化水素基、炭化水素基置換シリル基から選ばれる原子まはた基を示し、Ｒ¹とＲ²のいずれか、およびＲ³とＲ⁴のいずれかが水素であり、Ｒ¹〜Ｒ⁴で示される基のうち互いに隣接する２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】解像度に優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生剤となる化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂を提供する。
【解決手段】高分子からなり、該高分子を構成する繰り返し単位として、放射線照射により酸を発生する塩のアニオン部分が結合した繰り返し単位であり、かつ繰り返し単位のカチオン部分以外の炭素原子間の結合がすべて一重結合である繰り返し単位を含むことを特徴とする酸発生樹脂。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐薬品性、光学特性に優れ、ガラス転移温度が高く、吸水率が低く、線膨張率が低く、一般溶剤に溶解するノルボルネン化合物付加重合体、これからなる成形品、及びこれらの用途を提供する。
【解決手段】 ノルボルネン化合物単量体の繰返し単位のみからなるノルボルネン化合物付加重合体であり、炭素及び水素のみから構成され全ての炭素が縮合環骨格の構成に関与しているノルボルネン化合物単量体の繰返し単位（ａ）と、炭素及び水素のみから構成され全ての炭素が縮合環骨格の構成に関与しているノルボルネン化合物単量体の水素の一部を、炭素数が２以下の炭化水素基のみで置換した構造を有するノルボルネン化合物単量体の繰返し単位（ｂ）との総和が全繰返し単位の７０モル％以上であって、繰返し単位（ａ）／繰返し単位（ｂ）のモル比が１０／９０〜９８／２の範囲内にあるノルボルネン化合物付加重合体。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）の重合による、繰り返し単位（２）を含むレジスト材料。


（Ｒ¹はＦ、又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ²はＨ、又はアルキル基。Ｒ³はＯ、又はアルキレン基。Ｒ⁴及びＲ⁵はＨ、又はアルキル基又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ⁶はＨ又は酸不安定基。）
【効果】レジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性と透明性、エッチング耐性を有し、ＡｒＦ液浸リソグラフィーでも高い性能を発揮する。 （もっと読む）

【課題】二環系共役ジエン類とオレフィン類との共重合物において二環系共役ジエン類単位の含有量の高い二環系共役ジエン共重合体およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）で表される化合物のうち少なくとも１種類からなる二環系共役ジエン類とオレフィン類との共重合物またはその水素化物であって、当該共重合体中の二環系共役ジエン類単位のモル分率が１０モル％以上であることを特徴とする二環系共役ジエン共重合体。


（但し、Ｒ_１〜Ｒ_６、Ｘ_１、Ｘ_２、Ｙ_１およびＹ_２は、水素、ハロゲンまたは炭素数１から２０のアルキル基もしくはハロゲン化アルキル基である。ｎおよびｍは、０から１０の整数である。） （もっと読む）

【課題】本発明により、光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なハイパーブランチポリマーを提供する。また、本発明により、スチレン誘導体をリビングラジカル重合反応させて得られるハイパーブランチポリマーの分子末端に酸分解性基を有することを特徴とするハイパーブランチポリマーを提供する。
【解決手段】本発明のハイパーブランチポリマーは、クロロメチルスチレン等のリビングラジカル重合により形成されるコア部に結合した、ｐ-ｔｅｒｔ-ブトキシスチレン等の酸分解性基をポリマー分子末端に有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、特殊な架橋メタロセン触媒およびその触媒系を利用してオレフィンを重合および共重合することによる超高分子量ポリマーの製造に関する。 （もっと読む）

リビングアニオンエラストマーポリマー及びシラン−スルフィド修飾剤の反応生成物を含む鎖末端修飾ポリマー。好ましいクラスの修飾剤には、（ＲＯ）_x（Ｒ）_yＳｉ−Ｒ’−Ｓ−ＳｉＲ₃の式によって表される化合物が含まれる（式中、Ｓｉはケイ素である；Ｓはイオウである；Ｏは酸素である；ｘは、１、２及び３から選択される整数である；ｙは、０、１及び２から選択される整数である；ｘ＋ｙ＝３；Ｒは同じ又は異なり、（Ｃ₁−Ｃ₁₆）アルキルである；Ｒ’は、アリール、アルキルアリール又は（Ｃ₁−Ｃ₁₆）アルキルである）。本発明はさらに、そのような鎖末端修飾ポリマーを作製するための方法、加硫エラストマーポリマー組成物の調製におけるその使用、及びそのような組成物から作製される物品（これには、空気入りタイヤ、タイヤトレッド及びベルトなどが含まれる）を含む。本発明の組成物は、良好な加工特性を維持しながら、６０℃でのより低いＴａｎδ値を示し、また、様々な物理的特性（これらには、耐摩耗性、引張り強さ、弾性率及び破断点伸びが含まれる）の良好なバランスを示す。 （もっと読む）

【課題】少ないパラジウム使用量でオレフィン性不飽和結合を有する低分子化合物および高分子量化合物を水素化できる触媒を提供する。
【解決手段】下記成分ａ)〜ｃ)を含む混合物から得られてなるオレフィン性不飽和結合を有する化合物の水素化触媒：ａ)式(１)で表されるパラジウム(II)の有機酸塩、ベータジ
ケトン化合物またはハロゲン化物：Ｐｄ(Ｘ)_k…式(１)〔Ｘは有機酸のアニオン、ベータ
ジケトンアニオン、ハロゲン化物アニオンを示す。ｋは１または２である。〕ｂ)式(２)
で表されるホスフィン化合物Ｐ(Ｒ¹)₃…式(２)〔式(２)でＰはリン原子、Ｒ¹はシクロペ
ンチル基、３−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、ｉ-プロピル基、ｔ−ブチル基、２−メチルフェニル
基、ペンタフルオロフェニル基からそれぞれ独立に選ばれた置換基〕ｃ)イオン性のホウ
素化合物またはイオン性のアルミニウム化合物から選ばれた化合物。 （もっと読む）

【課題】波長４００ｎｍ前後のブルーレーザ光の積算照射量が多くなっても光線透過率の低下が少なく、且つ低複屈折性で高光線透過率のブルーレーザ用光学成形体を提供する。
【解決手段】１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレンなどの芳香環を有するノルボルネン系単量体（Ａ）と、エチレンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン（Ｂ）とを架橋型メタロセン化合物などを含むメタロセン触媒等によって付加重合し、さらに芳香環を水素化率９０％以上となるように水素化し、数平均分子量が１５，０００以上である付加重合体水素化物を得、これを成形することによって、ブルーレーザ用光学成形体を得る。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、同一繰り返し単位内に環状炭化水素構造と特定の部分構造とを有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性及び溶融成形性の全てに優れる新規な環化共重合体、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系単量体（ノルボルネン類，テトラシクロドデセン類）と非共役ジエン化合物とを（Ｃｐ）_２Ｍ^２Ｚ^１_ｐＬ^１_ｑで示される特定の重合触媒の存在下に重合した、架橋脂環式繰り返し単位と、脂環式繰り返し単位とを有する、重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００である環化共重合体、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
従来用いられてきた樹脂組成物では、基盤との密着性が弱い為に現像液である有機アルカリ類の水溶液、特に半導体用途で一般的に使用されている２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液ではパターン剥がれが起こり、２．３８％より低濃度の専用現像液でなければ加工できないという課題があった。本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、その目的とするところは密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、（Ｂ）光酸発生剤と、（Ｃ）１３０℃以上の温度で（Ａ）の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物と、（Ｄ）分子中に硫黄原子を有するシランカップリング剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）