【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

本発明は、エチレン／プロピレン／ジエンでなされた共重合体を溶液重合で製造する方法に関するものであり、より詳細には、遷移金属配位化合物の触媒を使って、主要成分がエチレン、プロピレン、ジエンモノマーでなされた共重合体に対するものであり、共重合体の構成成分及び特性は次のようである。(a)共重合体内のエチレンの含量は３０ｗｔ．％以上ないし８０ｗｔ．％以下(b)共重合体内のプロピレン含量は１９．９ｗｔ．％以上ないし６０ｗｔ．％以下(c)共重合体内のジエンの含量は０ｗｔ．％超過ないし１５ｗｔ．％以下本発明で提供する触媒組成物はシクロペンタジエン誘導体とオルト(ortho-)位置にアリール誘導体が置換されたアリールオキシ基を有した陰イオン性リガンド(配位子)を最小一つ以上含む遷移金属触媒及びアルミノキサン、またはホウ素またはアルミニウム化合物を活性剤として使用する触媒系として活性が高くて、エチレンとプロピレン、そしてジエン化合物に対する反応性が優秀な重合方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ノルボルネン系重合体を生産性高く製造する方法および該方法における触媒として好適に用いられる新規なパラジウム錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される少なくとも一種の金属化合物成分（Ａ）を触媒として使用するノルボルネン系重合体の製造方法および下記式（ＩＶ）で表される化合物。


（上記一般式（Ｉ）において、Ｘ^１は置換基を有さない炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒは各々独立に炭素数３〜８の２級アルキル基もしくは炭素数４〜８のシクロアルキル基であり、Ｘ^２は水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、ニトロ基、カルボニル、トリフルオロメタンスルホニル基、またはトリフルオロアセトキシ基を表し、Ｍは周期律表第１０族の元素を表す。） （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた透明硬化樹脂パターン及び塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アリル基及びメタアリル基からなる群から選ばれる１以上の基を有する化合物（Ａ）、２以上のメルカプト基を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）並びにアルカリ可溶性樹脂（Ｅ）を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物は、分子内に２個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＡと、分子内に酸分解性基および１個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＢを、該ラジカル重合性モノマーＡおよび該ラジカル重合性モノマーＢの合計モル数に対して５モル％以上２００モル％以下の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】埋め込み性に優れ、昇華物量が少ないことに加え、エッチング耐性に優れ、屈折係数及び衰退係数の値が良好である下層膜を形成可能な下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）所定の構造単位を有する重合体と、（Ｂ）ブチルエーテル基を有する架橋剤と、（Ｃ）溶剤と、を含有する下層膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲとエッチング耐性とのバランスがとれ、極微細で均一なパターン形成を可能とするリソグラフィー用重合体とその製造方法、リソグラフィー用組成物及び該組成物を使用した半導体の製造方法の提供。
【解決手段】芳香族環式基を有するアセタール結合で架橋された重合体、すなわち、下記式で示す繰り返し構造単位を有する重合体により上記課題を解決する。一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、は各々独立に、水素原子、シアノ基、等を表す。Ｘ¹、Ｘ²は各々独立に、単結合、あるいは置換基を有していても良い２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、等を表す。Ｘ³、Ｘ⁴は各々独立に、単結合、もしくは−ＣＯ−を表す。Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
（もっと読む）

【課題】溶融流延可能であり、かつレターデーションの小さい、馬の背故障や巻芯転写と呼ばれる故障、及びフィルム巻始め時のシワ発生しやすい問題がなく、鮮明な動画像が得られるセルロースエステル系の光学フィルム並びに偏光板及び表示装置の提供。
【解決手段】セルロースエステルと下記ポリマー(I)を含む組成物を溶融流延製膜してウェブを形成し、該ウェブを少なくとも１方向に1.1倍以上5.0倍以下で延伸処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。ポリマー(I)：一般式(1)で表される部分構造を有するエチレン性不飽和モノマーと、置換基を有していてもよい芳香族基、置換基を有していてもよい複素環基、または置換基を有していてもよいシクロアルキル基を含有するエチレン性不飽和モノマーの少なくとも１種とを共重合させて得られるポリマー。
（もっと読む）

【課題】化学的に安定な末端構造を有する、狭分子量分布の含フッ素ノルボルネン類の重合体を提供すること。
【解決手段】下式（ｃ１）で表される化合物と下式（ｃ２）で表される化合物とを反応させてなる触媒の存在下に、下式（ｍ）で表される単量体の１種以上、または下式（ｍ）で表される単量体の１種以上と該単量体と共重合する単量体の１種以上とを含む単量体、の付加重合を行うことを特徴とする、下式（ｐ）で表される繰り返し単位を必須とする含フッ素重合体の製造方法。
（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｐ）→（Ｍ^１）^＋（Ｒ^４）（Ｌ^１）⁻ （ｃ１）
Ｍ^２（Ｌ^２）_ｎ （ｃ２）
【化１】
（もっと読む）

共役ジエン単量体，ランタニド系触媒系，ジシクロペンタジエン又は置換ジシクロペンタジエン及び任意に有機溶剤を含む液相重合混合物内で，共役ジエン単量体を重合する工程を含み、但し，前記有機溶剤が存在する場合，該有機溶剤は前記重合混合物の総重量の約２０重量％未満である、共役ジエン単量体をポリジエンに重合する方法。 （もっと読む）

【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８６】
（もっと読む）

【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８５】
（もっと読む）

【課題】触媒組成物、およびその製造方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを製造するための使用方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１．５オングストロームかつ２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する第一金属原子Ｍ^１、および第二金属原子Ｍ^２を含む、特定の中性金属対錯体を含む触媒組成物とその製造法が開示される。当該触媒組成物を用いたエチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマーも開示される。 （もっと読む）

【課題】実質的にゲルを含まないゴム配合物を提供する。
【解決手段】実質的にゲルを含まない配合物であって、少なくとも１つのＣ_４〜Ｃ_７のイソモノオレフィンモノマー、少なくとも１つのＣ_４〜Ｃ_１４のマルチオレフィンモノマー又はβ−ピネン、少なくとも１つのマルチオレフィン架橋剤、及び少なくとも１つの連鎖移動剤から得られる繰り返し単位を含む少なくとも１つのエラストマーポリマー、並びに少なくとも１つのフィラーおよび過酸化物加硫系を含む配合物を提供する。また、機械装置で生じる振動を減衰及び／又は遮断するのに有用な、前記過酸化物加硫性配合物を含む加硫ゴム・パーツを提供する。また、熱及び／又は振動を生じる動的手段、並びに動的手段を支持し、動的手段に接続された静的構造体を含み、且つ、前記加硫ゴム・パーツが動的手段と静的構造物との間で接続点にて挿入されている機械装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、１９３ｎｍ以下、特に１５７ｎｍ用であって、このような短波長でも高透明性であるばかりでなく、例えば優れたプラズマエッチング耐性および接着性を含むその他鍵となる特性をも有する別の新規なレジスト組成物の提供である。
【解決手段】本発明は、フッ素含有コポリマーであって、（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含む少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位と、（ｉｉ）ＣＨ₂＝ＣＨＯ₂ＣＲ¹⁵、ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂Ｒ¹⁵およびＣＨ₂＝ＣＨＯＲ¹⁵からなる群から誘導された反復単位であり、式中、Ｒ¹⁵は、炭素原子が約４個から約２０個の飽和アルキル基であり、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じであるという条件付きで、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有している反復単位と、を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】種々な用途で有用な片末端官能性ポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】第4〜5族遷移金属含有化合物(A)を含むオレフィン重合触媒の存在下で、次
の工程1および工程2を実施し、その後、必要に応じて工程3を実施することにより得られ
る、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で求められる分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜1.5である片末端官能性ポリオレフィンの製造方法。 [工程1]極性基含有オレフィン(C)を接触混合する工程。 [工程2] エチレンおよび炭素数3〜20のオレフィンから選ばれる
少なくとも1種のオレフィン(D)をn回（nは1以上の整数）接触混合する工程。（ただし、nが2以上の整数である場合は、各回で用いるオレフィン(D)の種類または組成が異なる。）[工程3] 化学変換工程。 （もっと読む）

【課題】 工業的用途に対して十分に高い耐衝撃性を有するポリマーを製造する。
【解決手段】 本発明は、１種以上のシクロオレフィンコポリマー類と、１種以上のコア−シェル粒子、または、ガラス転移温度の低いゴムから一部構成される１種以上のコポリマー類、または、１種以上のコア-シェル粒子とガラス転移温度の低いゴムから一部構成される１種以上のコポリマー類との組み合わせとを含むポリマーブレンドに関する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンモノマーの乳化重合において得られたポリエチレン粒子の他樹脂に対する相溶性を改善することにある。
【解決手段】
オレフィン重合触媒を用いてオレフィン系モノマーを乳化重合する際、ラジカル重合性の官能基を有する多官能性のモノマーを添加して重合し、ポリオレフィンに架橋前前駆点を与えておき、その後過酸化物により処理してポリオレフィン粒子を合成することによって達成される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、極性基である水酸基を含有するプロピレン系重合体、プロピレン系重合体の製造方法、及び塗装性材料の提供。
【解決手段】プロピレンと水酸基含有オレフィンからなるプロピレン系重合体であって、特定の構造のメタロセン化合物を含んだ触媒成分から製造され、(i)該重合体中の水酸基含有オレフィン量が１０mol%以下であり、(ii)該重合体のＧＰＣ測定によって得られた重量平均分子量（Ｍｗ）が5000以上であり、(iii)重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比の値（Ｍｗ／Ｍｎ）が、1.0〜3.5の範囲にあり、(iv)該重合体のＤＳＣで測定した融点（［Ｔｍ］；℃）とＮＭＲで測定した水酸基含有オレフィン量（［−ＯＨ］；mol%）とが、０＜［−ＯＨ］≦３の場合は下記関係式(Eq-1)を満たし、３＜［−ＯＨ］≦１０の場合は下記関係式(Eq-2)を満たすプロピレン系重合体。
（もっと読む）

本発明の態様は、多成分触媒系、重合方法および本方法で生じさせた異相性共重合体を包含する。本多成分触媒系は、ジエーテル系内部電子供与体含有チーグラー・ナッタ触媒系および一般式ＸＣｐ^ＡＣｐ^ＢＭＡ_ｎ［式中、Ｘは構造ブリッジであり、Ｃｐ^ＡおよびＣｐ^Ｂは独立して置換もしくは非置換シクロペンタジエニル基またはこれの誘導体を表し、Ｍは遷移金属であり、Ａはアルキル、ヒドロカルビルまたはハロゲン基であり、そしてｎは０から４の範囲の整数である］で表されるメタロセン触媒から選択した触媒を含有する。本態様に更に式ＸＣｐ^ＡＣｐ^ＢＭＡ_ｎ［式中、Ｃｐ^ＡおよびＣｐ^Ｂは独立して置換もしくは非置換シクロペンタジエニル基またはこれの誘導体を表し、Ｘ、Ｍ、Ａおよびｎは、この上で定義した通りである］で表される２番目の触媒も含有させ、かつこの２番目の触媒が示すエチレン反応の方が前記１番目の触媒成分が示すそれよりも高い。 （もっと読む）