【課題】粘着性に富み、柔軟で、優れた力学強度を示すと共に、良好な成形加工性を示すエチレン・α―オレフィン・非共役ポリエン共重合体を提供する。
【解決手段】エチレン［Ａ］、炭素原子数４〜２０のα−オレフィン［Ｂ］、および少なくとも一種の非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位を含むエチレン系共重合体であって、（１）エチレン［Ａ］に由来する構造単位が、［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］の構造単位の合計を１００モル％として、４０〜６０モルであり、（２）非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位が、［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］の構造単位の合計を１００モル％として、０．５〜４．０モル％であり、（３）１２５℃におけるムーニー粘度ＭＬ₁₊₄（１２５℃）が、１０〜８０であり、（４）損失弾性率（Ｇ’’）が下記式［Ｉ］を満たすことを特徴とするエチレン・α―オレフィン・非共役ポリエン共重合体。
５．０×１０⁴＜ Ｇ’’(５０℃) Ｐａ ＜１．０×１０⁵ ［Ｉ］ （もっと読む）

【課題】 本発明は、粒子径の小さいフッ素系ポリマー複合粒子が得られるとともに、粒子径やフッ素系ポリマー層の膜厚を均一に制御することが可能なフッ素系ポリマー複合粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭化水素系アレンモノマーを用いてリビング分散重合を行うことで樹脂コア粒子を作製する工程１、前記樹脂コア粒子及びフッ素含有アレンモノマーを用いてリビング分散重合を行うことで樹脂コア粒子の表面にフッ素系ポリマー層を形成する工程２を有するフッ素系ポリマー複合粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】新規な含フッ素ジエン化合物は下式で表される。この化合物を含有する重合性液晶組成物が調製され、この化合物を重合することにより光学異方性材料、光学素子が得られる。
CF₂=CFCXYCH(CZ-O-W¹-(CH₂)_m-R¹-(CH₂)_n-(O)_i-W²-(E¹)_h-W³-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R²)CH₂CH=CH₂
式中、Ｒ^１は単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基等、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２，Ｅ^３，Ｅ^４は各々独立に、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、ＣＺはメチレン基等を示す。 （もっと読む）

【課題】引張降伏応力が高く、優れた透明性を有し、融点の高いＥＴＦＥの提供を目的とする。
【解決手段】エチレンに基づく繰り返し単位と、テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位と、Ｙ−（ＣＦ_２）_４−Ｚ（ただし、ＹおよびＺは、それぞれ独立にビニル基、トリフルオロビニル基またはトリフルオロビニルオキシ基である。）で表される単量体（ａ）に基づく繰り返し単位とを有することを特徴とするエチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体。 （もっと読む）

【課題】初期の伝送損失および曲げ時の損失増加が抑制されかつ耐熱性や耐湿熱性が向上した、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体を材料とする屈折率分布型光ファイバを提供する。
【解決手段】同心円状の内外少なくとも２層構造を有する屈折率分布型光ファイバにおいて、内層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）を材料とする屈折率分布構造を有し、外層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体であってかつ内層の最外部の屈折率より低屈折率であり、かつ、式（１）で表される化合物を含むモノマーを重合して得られる含フッ素重合体（ｄ）のみ、または含フッ素重合体（ｄ）と他の材料との混合物である含フッ素重合体材料（ｃ）からなることを特徴とするプラスチック光ファイバ。
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−ＣＦ＝ＣＦ_２・・・（１） （もっと読む）

【課題】非共役ポリエン転化率の高く、炭化水素溶媒中、遷移金属化合物触媒を用いて共重合して得られた共重合体を含む溶液から、触媒残渣を除去することなく未反応単量体および炭化水素溶媒を除去可能なエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体を良好な重合活性で提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の構造で表される遷移金属化合物と、（Ｂ）下記（Ｂ−１）から（Ｂ−３）から選ばれる少なくとも１種の化合物；（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物、（Ｂ−３）遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物、とからなる遷移金属化合物を含む重合触媒を用いて、（ｉ）１００℃のムーニー粘度ＭＬが特定の範囲、あるいは１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が特定の範囲にあり、（ｉｉ）エチレンと、α−オレフィンと、非共役ポリオレフィンとの割合が特定の範囲にあり、（ｉｉｉ）エチレンモル分率、エチレン−α−オレフィンダイアッドモル分率、エチレン−非共役ポリエンダイアッドモル分率、α−オレフィンモル分率、および非共役ポリエンモル分率が特定の関係を満たす、エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとノルボルネン骨格を有する非共役ポリエンとの共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】線幅ラフネス、バブル欠陥抑制、パーティクル抑制、スカム低減の諸性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）下記一般式（２）〜（４）のいずれかで表される化合物を閉環重合して得られる繰り返し単位を少なくとも１種含む樹脂、もしくは、該樹脂から誘導して得られる樹脂、（Ｃ）活性光線又は放射線により酸を発生する化合物、及び、（Ｄ）溶媒を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】低粘度化が可能で、作業性、保存安定性に優れ、耐熱性、耐薬品性、マイグレーション耐性、可とう性に優れた硬化物を得ることが可能なインクジェット用硬化性樹脂組成物、及びその硬化物並びにそれを用いたプリント配線板を提供する。
【解決手段】インクジェット用硬化性樹脂組成物において、一般式（１）


（式中、Ｒ^１は、炭素数２〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す）で示されるビスアリルナジイミド化合物と、特定のビスマレイミド化合物と、前記ビスアリルナジイミド化合物１００質量部に対して、３００〜３０００質量部である特定のヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、光重合開始剤からなる。 （もっと読む）

【課題】低ＬＵＭＯであり、高い電荷輸送性を有し、しかも溶媒に対する高い溶解性を示す重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体。


［式中、Ａｒ^０は、置換基を有していてもよい芳香環又は置換基を有していてもよい複素環を示し、Ｘ^１及びＸ^２は、同一又は異なり、酸素原子又は硫黄原子を示す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト重合体を提供する。
【解決手段】式ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（Ｘ^Ａ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａ）（ＣＨ_２）_ｎａＣＲ^Ａ＝ＣＨＲ^Ａで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含むレジスト重合体（ただし、Ｘ^Ａは水素原子、シアノ基または式−Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａで表される基を示し、Ｚ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲ^Ａは同一であってもよく異なっていてもよい。）。 （もっと読む）

【課題】 ゲル化せずに安定した品質が得られる絶縁膜形成用重合体の重合方法、また、低誘電率、高耐熱性、高機械強度を兼ね備えた有用な有機絶縁膜用材料、また、低誘電率、かつ高耐熱性、高機械強度に優れた有機絶縁膜及びその有機絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 重合性不飽和結合を含む基と、アダマンタン構造を最小単位とするカゴ型構造を有するカゴ型構造化合物を、少なくとも２段階以上の多段階反応により重合する方法であって、各段階の反応において、該１段階前の反応より、反応温度を１℃以上低温で重合することを特徴とする、絶縁膜形成用重合体の重合方法。前記重合方法で重合して得られた絶縁膜形成用重合体を含む有機絶縁膜用材料。前記有機絶縁膜用材料を、加熱、活性エネルギー線照射、又は加熱と活性エネルギー線照射により、架橋反応させて得られる有機絶縁膜。前記有機絶縁膜を具備する、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】撥液性とアルカリ溶解性に優れた液浸露光用レジスト保護膜材料の提供。
【解決手段】下式（ａ１）で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位（Ａ１）、好ましくは下式（ａ２）で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位（Ａ２）を含む液浸露光用レジスト保護膜組成物。ただし、Ｚ：式−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ で表される基を１つ以上有する炭素数３から２０の有機基。ｎ：０、１または２。Ｒ：水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲは同一であってもよく異なっていてもよい。
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）（ＣＨ_２）_ｎＣＲ＝ＣＨＲ （ａ１）
ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （ａ２） （もっと読む）

【課題】耐久性のある撥水撥油性および優れた貯蔵安定性を有する撥水撥油剤水性分散液の提供。
【解決手段】（Ａ）パーフルオロアルキル基もしくはパーフルオロアルケニル基およびアクリル酸基もしくはメタクリル酸基を有する重合性化合物の少なくとも１種のホモ重合体もしくは共重合体またはそれらと共重合可能な重合性化合物との共重合体、（Ｂ）トリプロピレングリコールである有機溶剤および（Ｃ）界面活性剤を含有してなる撥水撥油剤水性分散液。
【効果】環境汚染の低減に有効であり、耐久性のある撥水撥油性および優れた貯蔵安定性を有する撥水撥油剤水性分散液。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂に無機強化材を配合した無機強化材配合成形用樹脂組成物について、優れた機械的物性、耐衝撃性を与えることを目的とする。
【解決手段】本発明の無機強化材配合成形用樹脂組成物は、（Ａ）熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂９５〜５０重量部（Ｂ）無機強化材５〜５０重量部（Ｃ）ジオール変性オレフィン系ワックス０．０１〜１０重量部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率、高耐熱性及び高機械強度を兼ね備えた樹脂膜を得ることができる有用な有機絶縁材料を提供し、また、低誘電率、低密度、高耐熱性及び高機械強度を兼ね備えた樹脂膜を提供し、さらにそれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】 本発明の有機絶縁材料は、重合性不飽和結合を含む基と、アダマンタン構造を最小単位とするかご型構造を有するかご型構造化合物のプレポリマーを含む有機絶縁材料であって、前記プレポリマーは、ＧＰＣ−ＲＡＬＬＳ法により測定される重量平均分子量及び慣性半径の両対数グラフにおける重量平均分子量が５０万以上２００万以下の範囲の直線の傾きが、０．３３以上０．４７以下である。本発明の樹脂膜は、前記有機絶縁材料を、加熱、活性エネルギー線照射、又は加熱と活性エネルギー線照射により、架橋反応させて得られる。本発明の半導体装置は、前記樹脂膜を具備する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのアルキド樹脂と、式（Ｉ）［式中、Ｒは水素またはメチル基であり、Ｘ¹およびＸ²は、互いに独立して、酸素または式ＮＲ’の基であり、Ｒ’は、水素、または１〜６個の炭素原子を有する基であり、Ｘ¹およびＸ²基の少なくとも１つが式ＮＲ’の基であり、Ｒ’は、水素、または１〜６個の炭素原子を有する基であり、Ｚは結合基であり、Ｒ¹は、９〜２５個の炭素原子を有する不飽和基である］によるモノマーＡから誘導された反復基を含む少なくとも１つのポリマーとを含む水性分散体に関する。
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【課題】高純度の核酸を高収量にて合成することができる核酸合成用固相担体を提供する。
【解決手段】本発明によれば、分子中に２個以上のビニル基を有する多官能性単量体単位と分子中に１個のビニル基を有するビニル単量体単位からなる多孔質共重合体粒子からなり、アセトニトリル中に浸漬したときの膨潤体積が３．５ｍＬ／ｇ以上であり、レーザー散乱式粒度分布測定法によるメジアン粒径が５０〜１２０μｍの範囲にある核酸固相合成用担体が提供される。 （もっと読む）

【課題】新たなジエン重合体を提供する。
【解決手段】本発明に係る重合体は、トレオジアイソタクチックトライアッドが７０モル％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】新規のジエン重合体を提供する。
【解決手段】重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する。
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【課題】ジエン重合体を提供する。
【解決手段】重合体は、６員環を持つ特定の繰り返し単位及び５員環を持つ特定の繰り返し単位を有し、６員環を持つ特定の繰り返し単位及び５員環を持つ特定の繰り返し単位の総量に対する、６員環を持つ特定の繰り返し単位の量が７０モル％以上である。 （もっと読む）