【課題】超微細領域での、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のオキシムスルホネート構造を有する繰り返し単位及び酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高い硬化膜を形成することができ、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性に優れ、配線電極のパターニング特性が良好な光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いることができ、保存安定性に優れる硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記硬化性樹脂組成物は、〔Ａ〕オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する繰り返し単位を有する重合体および〔Ｂ〕オキセタニル基を有する特定のポリオルガノシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【課題】顔料分散性に優れると共に、アルカリ現像性に優れるカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料分散剤と、（Ｂ）顔料と、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｄ）多官能性モノマーと、（Ｅ）光開始剤と、（Ｆ）溶媒とを有するカラーフィルタ用ネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）顔料分散剤が、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位（１）と、置換された（メタ）アクリル酸の構成単位（２）とを有し、さらに前記構成単位（１）が有するアミノ基と有機リン酸化合物とが塩を形成したブロック共重合体である。
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【課題】
本発明により、電解液膨潤度が高いゲル電解質を作成することにより、イオン伝導度の高いゲル電解質を提供する。
【解決手段】
本発明は、（式１）で示される重合性化合物と、（式２）で示される重合性化合物と、からなる電気化学デバイス用重合性組成物を重合させることにより得られる高分子を、電解質に含有することを特徴とする。ただし、ｘは４以上６以下、ｍは１以上１０以下、Ｒは低級アルキル基である。


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【課題】各種性能、特に分散性能に著しく優れ、分散剤やセメント混和剤等の各種用途に有用な（ポリ）アルキレングリコール鎖含有チオール重合体変性単量体及びその製造方法、該重合体を含む分散剤及びセメント混和剤、並びに、セメント組成物を提供する。
【解決手段】（ポリ）アルキレングリコール鎖を有する重合体であって、上記重合体は、上記（ポリ）アルキレングリコール鎖の少なくとも一端に硫黄原子含有基を介して結合した不飽和単量体成分由来の構成単位を含むポリマー部位を有し、上記ポリマー部位を構成する不飽和単量体成分は、不飽和カルボン酸系単量体及び不飽和（ポリ）アルキレングリコール系単量体を含み、上記（ポリ）アルキレングリコール鎖におけるアルキレングリコールの繰り返し単位数は、８０未満である（ポリ）アルキレングリコール鎖含有チオール重合体である。 （もっと読む）

【課題】インプリント性、基板密着性、インプリント性、エッチング適正、基板密着性、耐熱性（着色）に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と、（Ｂ）光ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）ウレタン化合物とを含有する組成物であって（但し、（Ａ）光重合性単量体と、（Ｃ）ウレタン化合物は１種類の化合物が兼ねる構成であってもよい）、前記（Ａ）光重合性単量体が有する９８モル％以上の光反応性基の、反応率が５０％以上であり、実質的に溶剤を含まず、かつ、組成物の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする光ナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】加工性に優れ、常態物性および耐寒性に優れた架橋物を与えるアクリルゴムを提供すること。
【解決手段】式Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ_１）−ＣＯ−Ｏ−Ｘ（Ｒ_１は水素原子又はメチル基，Ｘは炭素数１〜３アルキル基又は炭素数２〜３のアルコキシルアルキル基）で表わされる（メタ）アクリル酸エステル単量体単位１０〜４０重量％、炭素数４〜８のアルキル基またはアルコキシアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル単量体単位５５〜８９．８重量％、およびジ（メタ）アクリル酸エステル単量体単位０．１〜５重量％を有するアクリルゴム。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイの薄膜トランジタ、液晶カラーフィルタの保護膜、スペーサー、その他の液晶表示装置用部材の微細加工用途等のいわゆる永久膜の作製等に好適な、硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】平均粒径１００ｎｍ以下の無機微粒子に有機結合剤を結合させた修飾無機微粒子を含む分散液を、粒子経１０μｍ以上のシリカゲル粒子と混合し、粒径１０μｍ以上のシリカゲル粒子を除去してなる、修飾無機微粒子（Ａ）を含む硬化性組成物。無機微粒子がコロイダルシリカであり、さらに、（Ｂ）重合性単量体および（Ｃ）光重合開始剤を含み、（Ｂ）重合性単量体が（メタ）アクリル酸エステルモノマーである。さらにこの硬化性組成物を硬化させた硬化物。 （もっと読む）

【課題】硬化性、地汚れ耐性等の印刷適性が優れた印刷を可能とし、印刷皮膜強度の優れた印刷物を提供し得る活性エネルギー線硬化型平版印刷インキの提供。
【解決手段】（ａ）樹脂、（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物および（ｃ）顔料を含有する活性エネルギー線硬化型平版印刷インキにおいて、
（ａ）樹脂が、樹脂酸にアクリル酸エステル化合物およびα，β−不飽和カルボン酸
または該無水物を付加反応させ、さらに、多価アルコールを反応させて合成したもの
であり、
（ａ）樹脂が、インキ全量の１０〜４０重量％含有され、
（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物が、インキ全量の３０〜７５重量％含有され、
および
（ｃ）顔料が、インキ全量の５〜４０重量％
含有されてなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型平版印刷インキ。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】微細化された顔料の分散安定性に優れ、コントラストに優れた着色被膜を形成し得る顔料分散組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）及び（II）のいずれか１種を含む高分子化合物（式中、Ｒ１−Ｒ２；Ｈ等、Ｘ１−Ｘ２；−ＣＯ−等、Ｌ１−Ｌ２；連結基、n,m,p,q,は整数を示す）（ｂ）側鎖に複素環を有する高分子化合物で被覆された加工顔料、及び、（ｃ）有機溶剤を含有することを特徴とする顔料分散組成物。
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【課題】熱可塑性樹脂と混和性のよい新規重合体と熱可塑性樹脂を含む樹脂の提供。
【解決手段】（ａ）下記式（１）で表される末端修飾重合体および（ｂ）熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂組成物。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は１価の有機基を示すか、又はＲ¹とＲ²が結合して隣接する炭素原子と共に環構造を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子またはメチル基であり、Ｒ⁵は１価の有機基を示す。Ｒ⁶は１価の有機基を示す。ｌは１〜１０の数を示し、ｍは１０〜１０００の数を示し、ｎは１〜５の数を示す。） （もっと読む）

【課題】
医療分野や化粧品、食品、塗料などの分野に応用可能な高い重合反応性を示す両親媒性高分子材料を提供すること。
【解決手段】
一分子内に疎水性基と親水性基を有する新規な両親媒性イタコン酸エステル、及びその単独重合体によって、上記課題は解決される。又、本発明の両親媒性イタコン酸エステルの単独重合体は、室温ではゴム状態の非晶質ポリマーであり、比較的高い熱安定性を示す。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び耐油性に優れ、十分な機械的強度及び弾性を有すると共に、耐摩耗性、摺動特性にも優れたアクリル系ゴム組成物を提供する。
【解決手段】共重合成分として、アクリル酸アルキルエステル及びアクリル酸アルコキシアルキルエステルからなる群より選ばれる１種または２種以上の不飽和単量体を６０〜９８．９質量％、１分子中に少なくとも１個以上のアクリロイル基を有するポリシロキサン及び１分子中に少なくとも１個以上のメタクリロイル基を有するポリシロキサンからなる群より選ばれる１種または２種以上のポリシロキサンを１．０〜３０質量％、エチレン性不飽和多価カルボン酸不完全エステルを０．１〜２０質量％含有してなるアクリル系共重合ゴム１００質量部に対して、多価アミン架橋剤を０．１〜２０質量部含有した構成とする。 （もっと読む）

【課題】アルコール及び／又はアミンと（メタ）アクリル酸とを脱水溶剤の存在下でエステル化及び／又はアミド化する際に、（Ａ）副生する生成水を反応系から除去しつつ、反応液の突沸を防止し、（Ｂ）脱水溶剤と生成水との界面の検知精度を向上させると共に安定化させ、（Ｃ）ゲル状物の形成を充分に抑制する脱水反応生成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコール及び／又はアミンと（メタ）アクリル酸とを脱水溶剤の存在下でエステル化及び／又はアミド化する脱水反応工程において、反応槽101と水分離器127とを必須として用いて行われ、該水分離器は、該反応槽と繋がった供給管129が備えられ、かつ、内部に気相部と液相部とを有すると共に、脱水溶剤と生成水との界面及び／又は気液界面の検出装置136,138が設けられ、該検出装置の内部にゲル化防止剤を作用させることを特徴とする脱水反応生成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の形成工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を表す。］で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】トリシクロデカン骨格を有し、光学特性などに優れた樹脂及びそれを用いる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される構成単位を含む樹脂。


（式（１）中、Ｙは、独立して炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、エステル基又は水酸基を示す。ｍは０〜１５の整数を示す。Ｘは式（２）で表される基を示す。） （もっと読む）

【課題】硬化物の表面非タック性が良く、透明で耐光性及び耐熱黄変性に優れ、短波長領域で高出力な発光素子の封止等、要求の厳しい用途にも用いることができる熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】熱硬化性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有し、両成分の含有量の比率が質量基準で（Ａ）：（Ｂ）＝２０：８０〜８０：２０のものである。
成分（Ａ）：ユニット１のアルコキシシリル基を有する構成単位と、ユニット２のエポキシ基を有する構成単位と、ユニット３のポリジメチルシロキサン構造を有する構成単位とからなるエポキシ基含有アクリル共重合体。
成分（Ｂ）：ユニット１のアルコキシシリル基を有する構成単位と、ユニット４のヘミアセタールエステル結合を有する構成単位と、ユニット３のポリジメチルシロキサン構造を有する構成単位とからなるヘミアセタールエステル結合含有アクリル共重合体。 （もっと読む）