【課題】 本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる化学増幅レジスト膜を形成するための化学増幅ポジ型レジスト組成物であって、少なくとも、（Ａ）３級アルキル基によってフェノール性水酸基が保護された繰り返し単位を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、前記３級アルキル基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分（Ｄ）有機溶剤、を含有し、回転塗布によって１０〜１００ｎｍの膜厚を有する前記化学増幅レジスト膜が得られるように固形分濃度を調整したものであることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、レジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体の提供。
【解決手段】アダマンタン環上の置換基として、ヒドロキシメチル基及び下記の式で表わされる（メタ）アクロイル基を有するアダマンタン誘導体。および当該誘導体を繰り返し単位として含む機能性樹脂組成物。
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【課題】溶解コントラストが大きく、高解像度で且つ焦点深度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下式（ａ−１）で表される繰り返し単位、環状炭酸エステル構造を含む繰り返し単位、及び、酸で脱保護可能な保護基を含む繰り返し単位を含有し、且つアルカリ不溶性樹脂であって、前記保護基が脱離した際、アルカリ可溶性となる樹脂と、（Ｂ）酸発生剤とを含む。
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【課題】化学増幅型レジストなどの機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体を提供する。
【解決手段】


（式中Ｒ₁〜Ｒ_６はアルキル基等、Ｘは水素原子等、Ｙ_１〜Ｙ_３はメタクリロイル基等） （もっと読む）

【課題】配向処理した支持基板に塗工することにより、均一なホメオトロピック配向が形成可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】トリプチセン−１，４−ジイルを含む下式（１−１）、（２−１）で代表される化合物、硫黄を含む化合物、ＣＮを含む化合物および縮合環を含む化合物からなる重合性化合物の混合物とアミン系シランカップリング剤とを含有する組成物であって、これを支持基板上に塗布することによってホメオトロピック配向の重合性液晶層を形成することができる重合性液晶組成物。


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【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィにおいて、現像前のレジスト表面が親水性と疎水性の凸凹構造を持つことによる撥水化を抑制し、ムラなく均一に現像が進行するようにすることで、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを与え、かつアウトガス低減を同時に実現するパターン形成を可能とするリソグラフィ用基板被覆方法、およびこれに好適な感活性光線または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上に、トップコート組成物を用いてトップコート層を形成する工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記感活性光線または感放射線性樹脂組成物として、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を、該組成物中の全固形分に対し少なくとも１０質量％含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いることを特徴とするリソグラフィ用基板被覆方法。 （もっと読む）

本発明は、ｉ）イソプレノールポリエーテル誘導体−構造単位α ３〜４０モル％、ｉｉ）ビニルオキシポリエーテル誘導体−構造単位β ３〜４０モル％及びｉｉｉ）酸−構造単位γ ３５〜９３モル％を有するコポリマーに関し、その際、ビニルオキシポリエーテル誘導体−構造単位βに属する構造単位のコポリマーが、イソプレノールポリエーテル誘導体−構造単位αに属する構造単位より長い側鎖を有する。 （もっと読む）

本発明は、分散剤として適している、コポリマーを有する重合混合物の製造方法に関する。この方法において、ビニルオキシアルキルポリエーテル誘導体を酸モノマー誘導体と、コポリマーの形成下でラジカル重合開始剤の存在で、ラジカル重合により反応させ、このラジカル重合は、２５質量％より少ない水、並びに全体として６０質量％より多いコポリマー、ビニルオキシアルキルポリエーテル誘導体及び酸モノマー誘導体を含有する媒体中で進行する。 （もっと読む）

比誘電率が４．５より大きい接着性ポリマーを提供する。このようなポリマーは、シアノ基および／またはニトロ基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を少なくとも４５重量％含有する、モノマー混合物から得ることができる。このポリマーは、同様に比誘電率が４．５より大きい接着剤のベースポリマーとして使用され、接着性エレクトロルミネッセンス材料の粒子状発光物質のマトリックスとしても使用される。このようなエレクトロルミネッセンス材料で、実装高さの低いエレクトロルミネッセンス装置が得られ、これは非常に高輝度であるだけでなく特に長寿命である。さらに、接着剤またはエレクトロルミネッセンス材料を含む接着性面状部材を提供する。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた液晶フィルムが得られる新規な液晶性化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。


（式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍ_１は式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎはそれぞれ０〜１０の整数を示す。また、Ｍ_２は式（７）から選ばれる基を表す。）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（式（２）、式（３）および式（４）中、Ｐ_１およびＰ_２はそれぞれ個別に式（５）から選ばれる基を表し、Ｐ_３は式（６）から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

重合性樹脂組成物、及びそのような重合性樹脂組成物の反応生成物を含むマイクロ構造が説明される。このマイクロ構造は、少なくとも１．５６の屈折率を有する有機部分を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含み、この重合性樹脂組成物は、重合性紫外線吸収化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易な方法で、低コストで、光の照射方向に対してより簡便にブロック共重合体の相分離構造の配向制御が可能となり、基板に対してその相分離構造を平行方向に配向制御が可能となる相分離構造の形成方法及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】光異性化挙動を利用することで光配向制御可能な構造（ａ）を側鎖に有したドメイン（Ａ）と、ドメイン（Ａ）の等方相転移温度以下に、ガラス転移点、もしくは融点をもつドメイン（Ｂ）からなり、かつシリンダー状に相分離構造を形成するブロック共重合体の薄膜薄膜２が基板１上に設けられ、光配向制御可能な波長の非偏光を薄膜２に対して入射角を４５°以上９０°以下となるように照射し、光の入射方向に構造（ａ）を配向させた後、熱処理により相分離構造形成を行うことで、ブロック共重合体の形成するシリンダー状の相分離構造を基板１に対して平行、かつ基板面内では光の入射方向に対して±３０°以内に平面内配向制御した相分離構造の形成手法及び薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第３級炭素原子である置換基を有する２価の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有する。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基、及び、ニトロ基を少なくとも１つずつ有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】(Ａ)一般式(１)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、(Ｂ)ラクトン環及び／又は水酸基及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(Ｃ)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(Ｄ)有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂構造の選択により液浸リソグラフィーにおける各種性能の調整が可能で、入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

本発明は、フォトクロミックポリマー組成物が、フォトクロミックポリマー組成物の製造に有用な反応混合物中に（メタ）アクリルアミド化合物を含むことによって製造されることを特徴とするフォトクロミックポリマー組成物の製造方法を開示する。本発明は、このようにして得られたポリマー組成物と前記ポリマー組成物から作製されるフォトクロミック物品とフォトクロミック物品を製造するための前記ポリマー組成物の使用とにも関する。本発明によるフォトクロミックポリマー組成物は、その中のフォトクロミック染料の吸収ピークをより長くし、従って、やや青みがかった緑色を伴う所望の灰色又はやや青色を伴う灰色を示す。 （もっと読む）

【課題】 肌付着性と被膜形成性の両方の特性を有する新規油溶性高分子化合物や、該化合物を配合した持続性に優れた皮膚外用剤や化粧料を提供すること。
【解決手段】 ピログルタミン酸に重合性基を導入して重合性単量体化し、他の重合性単量体と共重合させることにより、水又は水エタノール溶液に不溶であり、イソプロピルアルコール、トルエン、酢酸エチルのいずれかに可溶若しくは膨潤する性質を有する油溶性高分子化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜を形成する際の基板の反りが抑えられ、且つ優れた解像性、電気絶縁性等を有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物、及びこれが硬化されてなる硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（ａ１）と、下記式（２）で表される構造単位（ａ２）とを有するブロック共重合体、（Ｂ）分子中に２個以上のアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物（ｂ１）、オキシラン環含有化合物（ｂ２）及びオキセタニル環含有化合物（ｂ３）から選ばれる少なくとも１種の化合物、（Ｃ）光感応性酸発生剤、（Ｄ）溶剤を含有するネガ型感光性絶縁樹脂組成物。
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【課題】フォトレジストに配合してもフォトレジストの硬化に悪影響を与えず、硬化したフォトレジストの耐エッチング性が良好で、更に発泡性の少ないフォトレジスト用の分散剤を提供すること。
【解決手段】下記の一般式（１）で表されるフォトレジスト用反応性分散剤。


（式中、Ｒは酸素原子及び／または窒素原子が入ってもよい炭素数８〜２２の炭化水素基を表し、Ｘは炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｍは２〜１００の数を表し、ｎは１または２の数を表し、Ｙは水素原子、アクリル基、メタクリル基のいずれかを表す。ただし、（ＸＯ）_ｍ中のオキシエチレン基の割合は５０質量％以上であり、Ｙはアクリル基またはメタクリル基のいずれかが１つ以上入っていなければならない。） （もっと読む）