【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、かつ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、優れた機械的物性を有するＰＴＦＥ樹脂の成形体を提供することにある。
【解決手段】
上記課題は、高分子量架橋性ＴＦＥ重合体と、低分子量架橋性ＴＦＥ重合体とを含有する架橋性ＰＴＦＥ組成物から成形されたＰＴＦＥ樹脂の成形体によって解決される。
なし （もっと読む）

【課題】高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）炭素数５から８の単環の酸解離性シクロアルキル（メタ）クリレート単位と置換スチレン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、炭素数３以上の炭化水素基を置換基を芳香環に有する構造のスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）ヒドロキシスチレン単位と、シクロアルキル基を含有しないアルコキシアルキル基置換ヒドロキシスチレン単位と、シクロアルキル基を含有するアルコキシアルキル基置換ヒドロキシスチレン単位又は（メタ）アクリル酸アルキルエステル単位を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記溶剤が乳酸エチルを含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、これを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮の抑制された多層多孔膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂を主成分とする多孔膜の少なくとも片面に、無機粒子と樹脂製バインダとを含む多孔層を備えた多層多孔膜であって、
前記樹脂製バインダが、（メタ）アクリル酸エステル単量体から選ばれる１種以上の単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体とを原料単位として含む共重合体であり、
前記無機粒子が、アルミナであり、前記単量体組成のうち、不飽和カルボン酸単量体の割合が２．０質量％以下であることを特徴とする多層多孔膜。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮の抑制された多層多孔膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂を主成分とする多孔膜の少なくとも片面に、無機粒子と樹脂製バインダとを含む多孔層を備えた多層多孔膜であって、樹脂製バインダが、（メタ）アクリル酸エステル単量体から選ばれる１種以上の単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体とを原料単位として含む共重合体であり、前記単量体組成のうち、不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量部％以上であることを特徴とする多層多孔膜。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有し、複屈折値が小さく、成形加工性、及び表面平滑性に優れる透明プラスチック基板を提供する。具体的には、液晶タッチパネル用プラスチック基板、透明導電性基板、レンズアレイを提供する。
【解決手段】下記、アクリル系共重合体、及びそれからなる透明プラスチック基板。
（ｉ）メタクリレート単量体由来の繰り返し単位、（ｉｉ）ビニル芳香族単量体由来の繰り返し単位、及び（ｉｉｉ）酸無水物繰り返し単位からなる共重合体。 （もっと読む）

【課題】グルコースなどの糖類の検出能に優れ、かつ低侵襲性である蛍光ハイドロゲルビーズの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）下記化学式１で表される構造を有する蛍光モノマー化合物と、（メタ）アクリルアミド残基を有する重合性モノマーと、を含む水溶液から水溶液滴を作製する工程を含む、蛍光ハイドロゲルビーズの製造方法である。
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コポリマー、そのコポリマーを含むポリマー粒子、ポリマー粒子の製造方法、コポリマーバインダー、コポリマーバインダーの製造方法、近赤外線感応性コーティング組成物、ネガ型で機能するリソグラフィックオフセット印刷プレート、ネガ型で機能するリソグラフィックオフセット印刷プレートの製造方法、及びそのプレートに画像形成し、その画像形成されたプレートを用いて印刷する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレン構成単位と、アセタールまたはケタール型酸解離性基を有するヒドロキシスチレン構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル構成単位とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】密着性及び耐溶剤性に優れた硬化物を得ることのできる共重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）


で表されるビニル単量体Ａに対応するモノマー単位と、カルボキシル基含有重合性不飽和化合物Ｂ［但し、（４−ビニルフェニル）酢酸を除く］に対応するモノマー単位を少なくとも含む共重合体。カルボキシル基含有重合性不飽和化合物Ｂとしては、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。この共重合体は、さらに特定のモノマーを含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】瞬間接着性を維持しつつ、耐熱プラスチックや金属等に対して１５０℃以上の耐熱性を発現し、かつ、貯蔵安定性に優れる２−シアノアクリレート系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２−シアノアクリレート及び（Ｂ）ヒドロキシル基を有する多官能（メタ）アクリレートを含む多官能（メタ）アクリレートを含有する２−シアノアクリレート系組成物であって、前記多官能（メタ）アクリレートのヒドロキシル価が１〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ、前記多官能（メタ）アクリレートの含有量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量に対して４０〜６０質量％であることを特徴とする２−シアノアクリレート系組成物。 （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】ヒドロキシル基を有するビニル系重合体を含有し、耐候性、耐熱性及び耐油性等の耐久性に優れるシーリング材組成物を提供する。
【解決手段】ヒドロキシル基を少なくとも１個有するビニル系重合体と、イソシアネート系架橋剤を含むシーリング材組成物であって、該ビニル系重合体が以下の工程で製造されたものであることを特徴とするシーリング材組成物。
［１］一般式（１）で示されるリビングラジカル重合開始剤と、ヒドロキシル基含有不飽和化合物を含むビニル系単量体を反応させ、ヒドロキシル基含有の重合前駆体を製造する工程。
［２］前記重合前駆体を用いて、ヒドロキシル基含有不飽和化合物を含まないビニル系単量体をリビングラジカル重合させる工程。 （もっと読む）

【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤またはその前駆体として有用な新規な化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^Ｘはヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり；Ｒ^１は２価の連結基であり；Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり；ｎは１〜３の整数であり；Ｚはｎ価の有機カチオン（ただし、アミンイオンおよび第４級アンモニウムイオンを除く。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＣＯＯ⁻構造を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ヘアスタイルを強力に固定でき、かつべたつき感が少なく、しかも再整髪もできるヘアスプレーの提供。
【解決手段】(A)〜(C)を含有し、質量比(B)／(A)が0.1〜100であるヘアスプレー。(A)モノマー(1)〜(8)を含む共重合体であるカチオン性皮膜形成ポリマー。（但し、各モノマーは以下に示す構造をとるものとする。：モノマー(1)(2)(5)：（メタ）アクリルアミド系モノマー、(3)(7)：（メタ）アクリル酸エステル系モノマー又は（メタ）アクリルアミド系モノマー、(6)：（メタ）アクリル酸エステル系モノマー、(4)(8)：（メタ）アクリル酸エステル系モノマー（ポリオキシアルキレン基含有可能性あり））(B)アニオン性皮膜形成ポリマー(C)OHを２個以上有し分子量62〜1000の液状の溶剤 （もっと読む）

【課題】
電子情報分野の部材を形成するレジスト用のバインダー樹脂として好適な、感光性、アルカリに対する現像速度、耐溶剤性能やパターン形状、密着性に優れた新規な共重合体を提供する。また、該樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いて高品質のカラーフィルター部位を歩留まりよく形成する。
【解決手段】
イタコン酸とアクリル酸エステルモノマーを含むモノマーを共重合して得られる共重合体をバインダー樹脂として用いる。また、該樹脂、ラジカル重合性化合物、光開始剤、及び溶剤を必須成分として含む感光性樹脂組成物を、カラーフィルター用レジストとして用いる。 （もっと読む）

【課題】良好な感度などを有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂、下記一般式：Ｍ^＋Ｚ⁻（Ｍ^＋はオニウムカチオン、Ｚ⁻は下記一般式（１−１）または（１−２）で表されるアニオン）で表される感放射線性酸発生剤、及び下記一般式（ｃ１）で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


（Ｒ^１〜Ｒ^５はフッ素原子置換の炭素数１〜２０のアルキル基など、Ａは単結合など、Ｒ^６及びＲ^７は炭素数１〜２５の炭化水素基などである） （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）