【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
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【課題】著しく水／セメント比が小さい領域でも優れた分散性を発揮できるとともに、練り返し抵抗が充分に小さく、超高強度コンクリートに特に有用なシリカフュームセメント組成物を提供する。
【解決手段】ポリカルボン酸系共重合体（Ａ）又はポリカルボン酸系共重合体混合物（Ｄ）、水、セメント及びシリカフュームを含むシリカフュームセメント組成物であって、上記ポリカルボン酸系共重合体（Ａ）は、ポリアルキレンイミン系不飽和単量体（ａ）、ポリアルキレングリコール系不飽和単量体（ｂ）及び不飽和カルボン酸系単量体（ｃ）を含む単量体成分を共重合して得られるものであり、上記ポリカルボン酸系共重合体混合物（Ｄ）は、ポリカルボン酸系共重合体（Ｂ）とポリアルキレンイミン系化合物（Ｃ）とを混合してなるものであるシリカフュームセメント組成物である。 （もっと読む）

【課題】 螺旋構造、捩れ配向、透過率低下を改善した量産可能なセル厚を有し、表面安定化配向状態を用いない液晶素子及び当該液晶素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 一対の電極層を有する基板間に、光学活性化合物を含有する液晶組成物及び高分子前駆体から成る透明性固体物質により構成される液晶層を有し、該液晶層において該液晶組成物が光学的に一軸配向しており、螺旋ピッチ（該液晶組成物の電圧無印加状態において発現する螺旋構造のピッチ（μｍ））とセル厚（該液晶層の厚さ（μｍ））が以下の関係を満たすことを特徴とする液晶素子及び当該液晶素子の製造方法を提供する。
螺旋ピッチ≦セル厚 （もっと読む）

【課題】分散安定性に優れ、また、この水性顔料分散液を記録液として用いて、光沢性や鮮鋭性に優れた印刷物を得ることができる水性顔料分散液を提供する。
【解決手段】水性媒体、顔料、および分散剤を含む水性顔料分散液。該分散剤が、以下に示す樹脂（ポリマーＡ）を含む。
ポリマーＡ：アニオン性モノマー構造単位（ａ）と、Ｘ−Ｙ−（Ｒ^２Ｏ）_ｒＲ^３で表される含オキシアルキレン鎖モノマー構造単位（ｂ）と、アミド結合を構造中に含む非イオン性親水性モノマー構造単位（ｃ）と、非イオン性疎水性モノマー構造単位（ｄ）とを含み、ポリマーＡ中のアニオン性モノマー構造単位（ａ）の含有量が１重量％以上、非イオン性疎水性モノマー構造単位（ｄ）の含有量が１０重量％以上５０重量％以下の樹脂。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、未延伸のノルボルネン系付加重合体フィルムのＲｔｈ値を調整することであり、一軸延伸のみで、Ｒｅ、Ｒｔｈを種々の値に発現させることにある。すなわち、ノルボルネン系付加重合体のＲｅ、Ｒｔｈの値を簡便にかつ自在にコントロールすることにある。
【解決手段】ゲル・パーミエーションクロマトグラフィーにより得られる分子量分布曲線が２つ以上の極大点を有するノルボルネン系重合体混合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】メッキ造形物の製造に好適なポジ型感放射線性樹脂組成物に関する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）および／または（２）で表される構造単位（ａ）と、酸解離性官能基（ｂ）とを含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）有機溶媒を含有し、かつ重合体（Ａ）１００重量部に対して、特定構造の感放射線性酸発生剤が１〜２０重量部含有することを特徴とするメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物。
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【課題】放射線の照射に対して高感度で硬化し、高強度な皮膜形成が可能な硬化性組成物、放射線の照射に対して高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、被記録媒体への密着性が優れ、特にインクジェット記録用に好適なインク組成物、及び、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アダマンタン骨格を有するビニルエーテル化合物、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、好ましくは、さらに、（Ｃ）前記（Ａ）成分とは構造の異なるカチオン重合性化合物、を含有する硬化性組成物である。（Ａ）アダマンタン骨格を有するビニルエーテル化合物においては、アダマンタン骨格の３級炭素に１つ又は２つのビニルオキシ基が直接結合している態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、式（１）の基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、又はＲ¹とＲ²は互いに結合してメチレン基、エチレン基又は−Ｏ−を形成する。Ｒ³は単結合又はメチレン基、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、又は酸不安定基、ｍは１〜４の整数） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ラクトン環とフェノール性水酸基を同一分子内に有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高い平滑性を有しながら焼成後にパターンの両端の反りが生じない感光性樹脂層を形成することができ、高精細な電極パターンを形成することのできる感光性組成物、および高精細な電極パターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）ガラス粒子、（Ｃ）（ｃ１）(メタ)アクリル酸アルキルオキシアルキルエステル構成単位、および（ｃ２）カルボキシル基を含有する構成単位を含有する重合体、（Ｄ）光重合性モノマー、および（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】顔料が微細に分散され、経時安定性に優れた顔料組成物。
【解決手段】顔料及び分散剤を含有する顔料組成物で、分散剤が（ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と（ｂ）イオン性基を有する繰り返し単位とを含む共重合体である顔料組成物。



（式中、Ｒ_１：Ｈ、メチル基、Ｌ_１は＊−ＣＯＯ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＣＯＮＲ_３−（Ｒ_３はＨ又は炭素数１〜６のアルキル基。）、又はフェニレン基。＊は主鎖に連結する結合手。Ｌ_２は単結合、下記の連結基群から選ばれる１種又は２種以上を組み合わせてなる２価連結基。Ａｒは炭素数８以上の縮環型芳香環、芳香環が縮環したヘテロ環、又は二個以上連結したベンゼン環から誘導される１価基。）
（連結基群）
炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数２〜１２のアルケニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ_７−（Ｒ_７はＨ又は炭素数が１〜６のアルキル基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２− （もっと読む）

【課題】高感度のレジスト膜を形成でき、レジスト組成物を調製する際の溶媒への溶解性に優れた重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（ｕ）で表される構成単位を有する重合体を用いる。
［化１］


Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘは有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】水系において貯蔵安定性に優れたエポキシ基含有アクリル系樹脂水分散体、および、経時後においても耐水性および耐溶剤性の低下を極めて小さくした樹脂膜を形成することができる水系硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のエポキシ基含有アクリル系樹脂水分散体は、共重合成分とノニオン性乳化剤とを含み、該共重合成分が、エポキシ基含有（メタ）アクリルモノマーと、炭素原子数４以上の有機基を側鎖として有する（メタ）アクリルモノマーを２０質量％以上と、を含む。 （もっと読む）

本発明は、モノマーａ）〜ｃ）の全量に対して、ａ）式（Ｉ）［式中、Ｒ¹は水素又はメチルであり、ｐは１〜８の整数であり、そのヒドロキシ基は保護された形で存在する］の少なくとも１つの疎水性ビニルモノマーを１０〜６５ｍｏｌ％、ｂ）少なくとも１つのシリコーン含有（メタ）アクリレートモノマー、ビニルカーボネートモノマー、又はビニルカルバメートモノマーを２５〜７０ｍｏｌ％、ｃ）少なくとも１つの親水性ビニルモノマーを０〜２５ｍｏｌ％、及びｄ）少なくとも１つの架橋剤を０〜１０ｍｏｌ％、含む、重合可能なモノマー混合物からのコポリマーであるハイドロゲルに関し、この際、ハイドロゲル中で、モノマーａ）により形成された部分のヒドロキシ基は、保護された形、又は独立した形で存在している。このハイドロゲルは、コンタクトレンズ又は眼内レンズの製造のために使用できる。
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【課題】有機半導体デバイスの材料とするための、酸化されにくく、材料の劣化に問題がなく、また塗膜の均一性に問題のないアルキル基を有するペンタセン化合物を提供する。
【解決手段】下記に示すジイン構造化合物。
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【課題】微細な顔料粒子を含有し、しかも分散性および安定性に優れた顔料分散組成物。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位またはその互変異性体構造で表される繰り返し単位を有する高分子化合物と、顔料微粒子とを含む顔料分散組成物。


（Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｊは−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ^４−、−ＯＣＯ−、メチレン基、フェニレン基、または−Ｃ_６Ｈ_４ＣＯ−基、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基、Ｗは単結合または２価の連結基、Ｒ^２は水素原子、あるいは置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基、Ｒ^３は水素原子または置換基） （もっと読む）

【課題】分解生成物の発生で問題とされる酢酸ビニルを導入することなく、難燃性、作業性及び良好な風合いの付与など種々の特性に優れた共重合体、樹脂水性エマルジョン及び繊維処理用バッキング剤を提供する。
【解決手段】六員環の芳香族炭化水素を置換基としたリン酸エステル基を有する特定構造の含リン単量体（Ａ）を０．５〜７０質量部と、該含リン単量体（Ａ）とは異なり芳香族ビニル系単量体等よりなる群から少なくとも１種選ばれてなる単量体（Ｂ）とからなる総単量体１００質量部を共重合反応させることで、上記の課題を解決する共重合体が得られる。また、この共重合体を成分として用いることで、難燃性、作業性及び良好な風合いの付与など種々の特性に優れた樹脂水性エマルジョン及び繊維処理用バッキング剤を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】作業性に優れ、十分な接着強度、引張り（機械的）物性、耐候性、耐変色性を有するバランスのとれた弾性接着剤用の硬化性組成物を提供。
【解決手段】加水分解性シリル基を含有するオキシアルキレン系重合体、並びに、（ポリ）オキシアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及び（ポリ）オキシアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノ（メタ）アクリレートの少なくともどちらかの単量体を５〜３０重量部、その他の単量体を９５〜７０重量部の割合で共重合して得られた、ＧＰＣによるポリスチレン換算の数平均分子量が２０００未満である（メタ）アクリル系共重合体、を使用する。該共重合体は、高温連続重合で製造することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 経時による着色が少ないポリビニルアルコール系樹脂の架橋構造体を含有する樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 アセト酢酸エステル基含有ポリビニルアルコール系樹脂（Ａ）をヒドラジン化合物（Ｂ）で架橋して得られた架橋構造体（Ｃ）と還元剤（Ｄ）とを含有する。 （もっと読む）

【課題】懸濁重合によって得られる反応混合物を効率よく濾過、洗浄し、不純物を効果的に除去して、高い収率にて目的とする多孔質重合体粒子を得る方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法によれば、（ａ）懸濁重合によって得られた反応混合物を静置し、水相を除去し、多孔質重合体粒子のケーキを得、（ｂ）このケーキを解砕し、多孔質重合体粒子を水に懸濁させた後、静置し、水相を除去し、（ｃ）得られた多孔質重合体粒子のケーキを解砕し、多孔質重合体粒子を水に懸濁させ、この多孔質重合体粒子を濾材を用いて濾過し、（ｄ）得られた多孔質重合体粒子のケーキを解砕し、多孔質重合体粒子を有機溶媒に懸濁させ、濾材を用いて濾過して、多孔質重合体粒子を得る。 （もっと読む）