【課題】各種（メタ）アクリルモノマーに溶解するとともに、従来のアクリル化合物と比較して高屈折率を有するレンズ材用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物、および、（Ｂ）光ラジカル開始剤、を含有する、レンズ材用硬化性組成物。


（上記一般式（１）中、Ｘは硫黄原子、又は酸素原子である。Ｒ^１は水素原子、又は（メタ）アクリロイル基であり、少なくとも１つは（メタ）アクリロイル基である。ｎは０〜２の整数である。） （もっと読む）

【課題】生産性が高く、ガラス転移温度の均一性に優れ、変性率が高く、粘弾性特性が良好で、ビニル結合量が高い変性共役ジエン系共重合体が得られる、変性共役ジエン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系単量体とビニル芳香族単量体とを、有機リチウム化合物開始剤を用いて共重合させる重合工程と、前記重合工程により得られる共役ジエン系共重合体に、官能基含有化合物を反応させる変性工程と、を有し、 前記重合工程において、下記化合物（１）、（２）をモル比で（２）／（１）＝０．０１以上０．１未満とし、かつモル比で（２）／有機リチウム化合物＝０．０２〜０．２として共存させる変性共役ジエン系共重合体の製造方法。
（１）酸素原子を２個以上有し、少なくとも１個の酸素原子が環状エーテル構造を構成するエーテル系化合物。
（２）ナトリウムアルコキシド。 （もっと読む）

【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を６μｍ未満のピッチで露光する際に、６μｍピッチ露光時の最適パワーに対し、１００％未満であり、かつ〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）−３０〕〜〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）＋１５〕％のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が１０未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好であり、レジストパターンを形成した場合に欠陥の発生数を低減することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】硬化物の難燃性に優れる難燃材製造用活性エネルギー線硬化型組成物の提供、及び当該組成物から得られた難燃性樹脂シートの提供。
【解決手段】芳香環直結（メタ）アクリレート（Ａ）を含む難燃材製造用活性エネルギー線硬化型組成物。当該組成物としては、さらに、難燃剤（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含むものが好ましい。難燃性樹脂フィルム又はシートの構成としては、前記載の組成物の活性エネルギー線照射硬化物（２）が、フィルム又はシート状基材（１）に形成されてなるものが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基；Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子；ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】耐吸湿性などに優れるポリオレフィンを骨格とし、優れた光硬化性を発揮し得る、基材との密着性、硬度、耐擦傷性等の硬化物性に優れ、各種シール剤、コーティング剤、ポッティング剤あるいは接着剤として好適な光硬化性オレフィン系重合体の提供。
【解決手段】（ａ）エチレンから誘導される繰返単位、（ｂ）式（１）の繰返単位、式（２）の構造（ｃ１）および式（３）の構造（ｃ２）を含み、条件（Ｉ）〜（IV）を満たす；−ＣＨ_２−ＣＨＲ^１−（１）−ＯＣＯ−ＣＲ^２＝ＣＨ_２（２）−ＣＨ_２−Ｚ−ＣＨ_２−（３）条件（Ｐ１−Ｉ）：Ｚが５００ｐｐｍ〜５０，０００ｐｐｍ、条件（Ｐ１−II）：繰返単位（ａ）と繰返単位（ｂ）のモル比が、２０／８０〜８０／２０、条件（Ｐ１−III）：繰返単位（ａ）を１００モル％として構造（ｃ１）の含有量が０．１〜１０モル％、条件（Ｐ１−IV）：極限粘度〔η〕が０．０１〜１．０。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合によって末端に極性官能基が導入されたジエン系重合体及びその製造方法、該ジエン系重合体を含む重合体エマルション及びゴム組成物、並びに、該ゴム組成物を含む空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】極性官能基含有チオール化合物の存在下、ラジカル重合性モノマーをラジカル重合して得られ、末端に極性官能基を有するジエン系重合体に関する。上記極性官能基含有チオール化合物は下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
Ｘ−Ｒ^１−ＳＨ （１）
（式中、Ｘは、エステル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基又はアルコキシシリル基を表す。Ｒ^１は、置換基を有していてもよいアルキレン基又はアリーレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１１）〜（ａ０−１３）のいずれかの構成単位（ａ０−１）、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）及びアクリル酸エステルから誘導され、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、ＲはＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｘ^１は単結合又は２価の連結基であり、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３は環状の飽和炭化水素基である。ただしＷ^２はＯＨ基を有する。Ｒ^１はＯＨ基含有飽和炭化水素基であり、ｐは１〜３であり、Ｘ^２、Ｘ^３は２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はＨ、アルキル基、ＯＨ基又はＯＨ基を有するアルキル基である。］
（もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】重合性化合物および重合開始剤を含有する光硬化性組成物を基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、該光硬化性組成物をモールドまたは基材で挟んだ状態で光照射することを含むパターン形成方法であって、光硬化性組成物の２５℃における粘度が１２〜１００ｍＰａ・ｓであり、光硬化性組成物は、液滴を吐出により、基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、前記光硬化性組成物の吐出時の温度が２８℃以上である、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】現像液への溶解性が高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
バインダー樹脂が、メタクリル酸に由来する構造単位、アクリル酸に由来する構造単位並びにメタクリル酸及びアクリル酸と共重合可能な単量体に由来する構造単位を有する共重合体を含む樹脂である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基；Ｒ^２はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】化学発光免疫診断測定等において使用する固相表面や器具・容器などへのタンパクなどの非特異吸着を防止することができる生体関連物質の非特異吸着防止剤、ならびに、該非特異吸着防止剤を用いた物品のコーティング方法を提供する。
【解決手段】生体関連物質の非特異吸着防止剤は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と、特定の式で表される繰り返し単位（Ｂ）とを有する共重合体を含有する。


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れる重合性液晶化合物を提供すること。
【解決手段】ベンゾトリアゾール骨格またはトリアジン骨格を有し、かつ分子内水素結合部位を有する重合性液晶化合物。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】充填材の分散性をより改善することができ、低発熱性、耐摩耗性に優れたゴム組成物及び該組成物を用いてなる、上記特性を有する空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】配合工程において充填材表面と反応する変性部位（Ａ）を分子構造中に含む変性ポリマー（Ｂ）５〜９０質量部と他のポリマー成分（Ｃ）９５から１０質量部からなるゴム成分において、他のポリマー成分（Ｃ）がポリマーの生産工程で添加された有機酸の残渣（Ｄ）を含み、そのゴム成分１００質量部に対して、補強性充填材（Ｅ）１０〜１５０質量部、前記（Ｄ）と配合時に添加される有機酸（Ｆ）との総和が３．５質量部以下であることを特徴とするゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】屈折率の分散特性（アッベ数（ν_d））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、可視光領域内の透過率が高く、かつ色収差補正機能の高い特性を有する光学材料用化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）又は（２）で示される化合物であることを特徴とする光学材料用化合物。
（もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂並びに該樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。式中、Ｔ^１は置換基を有してもよいスルトン環であり、Ｚ^１は置換基を有してもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）である。
（もっと読む）