【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物と
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

【課題】低屈折率、撥水・撥油性、潤滑性、耐候性、低誘電率、耐熱性および耐薬品性等といった機能を有する優れた重合体を与える重合性化合物の提供。
【解決手段】一般式（１）：


〔式中、Ｒは、重合性官能基であり、Ｚ^１およびＺ^２は、連結基であり、Ａは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−又は単結合であり、ｎおよびｑは、独立して０又は１であり、ベンゼン環上の任意の水素原子は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていてもよい〕で示される、ペンタフルオロスルファニル基を有する重合性化合物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高くて熱安定性に優れた重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位を含む重合体。


（式中、Ｒ¹，Ｒ²はヘテロアリール基、Ｒ³は水素原子、アルキル基もしくはアリール基、Ｒ⁴，Ｒ⁵は二価連結基または単結合、Ｘ¹，Ｘ²，Ｘ³は酸素原子、硫黄原子もしくはＮ−Ｒ⁶、Ｒ⁶は水素原子またはアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射に対して高感度で硬化可能であり、耐擦過性及び耐ブロッキング性に優れる画像を形成しうる、インクジェット記録用途に好適なインク組成物、本発明のインク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）光ラジカル発生部位と（ａ−２）フルオロアルキル基、シロキサン構造、及び、長鎖アルキル基のいずれかから選択される少なくとも一つの偏析部位と、を有する高分子化合物、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び、（Ｃ）（Ａ）とは異なる光ラジカル発生剤、を含有するインク組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、アミン触媒の存在下でポリイミドおよびアルケニルフェノール、アルケニルフェノールエーテルまたはそれらの混合物の進歩した反応からもたらされるポリマレイミドプレポリマー；溶媒；およびヘテロポリ酸を含んでなるリン酸耐性の進歩したポリマレイミドプレポリマー組成物に関する。リン酸耐性の進歩したポリマレイミドプレポリマー組成物は、プレプレグ、積層板、プリント回路基板、鋳型、複合材料、成形品、接着剤および被覆材のような種々の応用に使用できる。 （もっと読む）

【課題】 工業的に安価で簡便な新規なトリチオカーボネート化合物の製法を提供すること。
【解決方法】 一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物とする。式（１）中、Ｒが、置換基を有していてもよく、その炭素鎖中にヘテロ原子又は環構造を含有していてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。ジチオールを塩基性条件下で二硫化炭素と反応させたのち、アリルハイラドと反応させることにより、一般式（１）で表されるトリチオカーボネート化合物を製造することができる。
（もっと読む）

【課題】水による現像が可能な感光性平版印刷版材料の印刷時の汚れを発生させる問題を解決すること。特に、現像処理装置の現像部分において絞りロールの表面にスラッジが付着し、感光性平版印刷版材料の表面汚染に起因する印刷時の地汚れの問題を解決することを課題とする。
【解決手段】支持体上に親水性層および水により現像が可能な光硬化性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料に関して、シリコーン系微粒子とアニオン性界面活性剤を光硬化性感光層に含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ゴム成分と充填材であるシリカとの相互作用に優れた変性共役ジエン系重合体及び特定の構造を有するシランカップリング剤を含むことでシリカのゴム成分中への分散を改良し、低発熱性及び耐摩耗性が改良されたゴム組成物をトレッドに用いた上記性能を有する優れたタイヤを提供すること。
【解決手段】（Ａ）求核反応性を有する有機金属活性末端をもつ共役ジエン系重合体の該活性末端に、下記一般式（１）


で表される変性剤を反応させて得られた、変性共役ジエン系重合体（Ａ）を１０質量部以上含むゴム成分と、該ゴム成分１００質量部に対して、（Ｂ）シリカ２０〜１５０質量部を含み、かつ（Ｃ）特定な構造を有するシランカップリング剤の少なくとも一種を、前記（Ｂ）成分のシリカに対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】マトリクス樹脂に対する混合、分散性に優れ、マトリクス樹脂中で凝集を起こさず、しかも従来の線状高分子からなる剥離剤と比べて、該組成物の成形加工工程における混合・成形機械や金型への離型性、或いはフィルム等の他の樹脂成形品に対する剥離性等に優れる内部剥離剤を提供すること。
【解決手段】分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡを、該モノマーＡ １モルに対して５モル％ないし２００モル％の量の重合開始剤Ｂの存在下で重合させることで得られる高分岐ポリマーからなる内部剥離剤並びに該内部剥離剤を含有する樹脂組成物、それから得られる樹脂成形品。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形成性およびエッチング耐性を有するインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性単量体（Ａｘ）と光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｚは芳香族基を含有する分子量１００以上の基を表す。但し、重合性単量体（Ａｘ）が２５℃において液体であるとき、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である。） （もっと読む）

【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、光反応性ノルボルネン系単量体を含む光反応性ノルボルネン系重合体、その製造方法及びこれを利用した配向膜に関する。前記光反応性ノルボルネン系重合体は、ハロゲン系、特にフッ素系置換基を有する光反応性作用基を含んでおり、配向膜内の組成斜面を与え、配向速度、配向性、及び接着性を向上させることができる。
（もっと読む）

【課題】 従来法と比較して温和な条件下、少量の試薬で効率よく、クロマトグラフィー用担体表面にカルボン酸基又はスルホン酸基を導入することができるカチオン交換体を提供する。
【解決手段】 下記の工程により、カチオン交換体を製造する。
（１）クロマトグラフィー用担体にエポキシ基を導入する第１の工程、及び、
（２）このエポキシ基に、分子内にチオール基とカルボン酸基を有する化合物又は分子内にチオール基とスルホン酸基を有する化合物を反応させる第２の工程。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、特性のバラツキが少なく、製造工程が単純で、製造コストの低廉な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）で示される置換基が、一般式（２）で示される置換基を1つ以上有するコア分子の炭素−炭素二重結合に付加した化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。


（もっと読む）

【課題】塗布ムラを軽減できる組成物、および面状均一性が高く十分な反射防止性能と耐擦傷性能を両立した反射防止膜を提供する。さらには該反射防止フイルムの高速塗布製造方法、該反射膜を用いた偏光板、ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された屈折率の異なる複数の機能層から成り、該機能層の少なくとも一層に下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー重合単位を含み、その含有量が全重合単位の５０質量％を超える塗布組成物、この組成物から形成された反射防止膜、この反射防止膜を備えた偏光板、並びにこれら反射防止膜または偏光板を備えたディスプレイ装置。


（一般式［１］においてＲ⁰は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Lは２価の置換基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。） （もっと読む）

本発明は、（ａ）共役ジエンおよび芳香族α−オレフィンを、重合した状態で含む変性インターポリマー、または（ｂ）共役ジエンを、重合した状態で含む変性ポリマーから選択されるポリマーを製造する方法を提供する。その方法は、少なくとも１つの重合反応器の中で、少なくとも１種の溶媒の存在する状態で、少なくとも１種の共役ジエンモノマーを含むモノマーを重合し、ポリマーを形成する工程、所望により、少なくとも１種のカップリング剤を使用してポリマー鎖の一部をカップリングする工程、少なくとも１つの反応器の中で、少なくとも１種の溶媒の存在する状態で、少なくとも１種の変性剤でポリマーを変性し、変性ポリマー溶液を形成する工程、所望により、変性ポリマー溶液を少なくとも１種のプロトン供与化合物と接触させる工程、変性ポリマー溶液を水と接触させる工程、前記の少なくとも１種の溶媒を取り出す工程、取り出した溶媒を、シラノールと反応するおよび／またはシラノールを吸収する少なくとも１種の物質と接触させ、精製された溶媒を形成する工程、少なくとも１つの重合反応器にまたは貯蔵容器に精製された溶媒を再循環させる工程を少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜を形成した際に、柔軟性に優れる非タック性の薄膜が得られるアルケニル置換ナジイミドを含む組成物および該組成物の用途を提供すること。
【解決手段】本発明の組成物は、アルケニル置換ナジイミド、溶媒および硬化剤を含み、前記硬化剤がアゾビス系の化合物である組成物、２５℃において液体のアルケニル置換ナジイミド、２５℃において固体のアルケニル置換ナジイミド、溶媒および硬化剤を含む組成物または、２５℃において液体のアルケニル置換ナジイミド、２５℃において固体のアルケニル置換ナジイミド、溶媒および硬化剤を含み、前記硬化剤がアゾビス系の化合物である組成物である。 （もっと読む）