【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物と、特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ハロゲン元素や硫黄化合物を使用しなくても、屈折率が高く、透明性、耐熱性に優れた、光学用物品向けの樹脂を得ることができるフマル酸ジ（１−ナフチルメチル）を重合成分とする高屈折率樹脂を提供することにある。
【解決手段】 フマル酸ジ（１−ナフチルメチル）を重合成分として有する高屈折率樹脂であって好ましくはフマル酸ジ（１−ナフチルメチル）と芳香族ビニル単量体を４０〜１００質量％の割合で重合成分として有する高屈折率樹脂であり、光学材料用として用いるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単層レジストプロセス、多層レジストプロセス、サイドウォールスペーサー法用等のレジスト膜の下層のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、現像後のレジストパターンの裾引きが抑制され、また、アンダーカット形状や逆テーパー形状を抑制し、パターン倒れがないレジスト下層膜材料、及びこれを用いてリソグラフィーにより基板にパターンを形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有し、光及び／又は熱によってスルホン酸を発生する高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化１】
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【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂と、式（Ｄ’）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ₁〜Ｃ₆ペルフルオロアルキル基を表す。ＵはＣ_１〜Ｃ_２０２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−等で置き換わっていてもよい。Ｘ^１は−Ｏ−ＣＯ−等を表す。Ａ^＋は有機対イオンを表す。Ｒ’^１〜Ｒ’^４は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル基、置換基を有していてもよいＣ₃〜Ｃ₃₀飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよいＣ₂〜Ｃ₂₀アルケニル基を表す。Ａ’^１は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₃₆炭化水素基を表し、該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。］
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炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（ａ）、ビニルピロリドン単量体（ｂ）、アニオン供与基を有する単量体（ｃ）、および非フッ素（メタ）アクリレート単量体（ｄ）を共重合して得られる含フッ素共重合体を含んでなる紙用耐水耐油剤が開示されており、優れた耐水性および耐油性を付与する。本発明はまた、該耐水耐油剤を含む紙用処理組成物、該処理組成物による紙処理方法、および該耐水耐油剤で処理された加工紙をも開示する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
。
［化１］
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【課題】 ポリマー電解質又は結着剤としてリチウム電池に用いた場合、低い濃度の電解液を用いても、溶媒の保持性に優れ、高イオン伝導性の含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】 含フッ素エチレン性モノマーに基づく重合単位と−ＳＯ_３Ｌｉ基を側鎖に有する重合単位とを含む含フッ素共重合体、及び、リチウムイオン配位性の溶媒、を含むことを特徴とするリチウムイオン伝導性ポリマー電解質。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】異なる重合性官能基を有するモノマーの重合速度を揃えて重合することにより、均一な組成を有するプレポリマーを提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイロキシ基等を有するモノマーからなる群をＡ群、アクリルアミド基等を有するモノマーからなる群をＢ群とし、Ａ群、Ｂ群それぞれから少なくとも１種類以上のモノマーを選んで共重合させる場合において、少なくとも１種類が親水性モノマーであり、かつ少なくとも１種類のモノマーが分子内に少なくとも一つの反応性官能基を有するモノマーであり、かつ、Ａ群、Ｂ群からそれぞれ１種類ずつ選ばれたモノマーａおよびモノマーｂにおいて、重合開始から重合終了時間までのモノマーａおよびモノマーｂのそれぞれのモノマー消費率（％）の差の平均値を７．１５以下になるように重合させることを特徴とするシリコーンプレポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 向上した塗膜硬度および光学的特性を有する塗膜を形成でき、先行技術の欠点を有さない水性結合剤分散液を提供する。
【解決手段】 カルボン酸基および／またはカルボキシレート基を有する少なくとも１種のコポリマーを含む水性結合剤分散液であって、該コポリマーが、脂環式構造を持つカルボキシル無含有(メタ)アクリル酸エステルの構造単位を有し、分散液中におけるコポリマーのカルボン酸基の少なくとも２５モル％が、トリエタノールアミンで中和された形態で存在し、かつ、５００〜３０,０００の数平均分子量を有し、１００％の形態におけるコポリマーのＯＨ含有量は３.５〜７.５質量％であり、１００％形態のコポリマー（Ｐ）の酸価は１５〜４０ｍｇ ＫＯＨ／ｇである水性結合剤分散液。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する第１構造部位を備えた第１繰り返し単位と、酸の作用により分解してスルホン酸を発生する第２構造部位を備えた第２繰り返し単位とを含んだ樹脂を含有している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、ジグザグ欠陥、へアピン欠陥やダブルドメイン等の配向欠陥が形成されることなく強誘電性液晶のモノドメイン配向を得ることができ、相転移点以上に昇温してもその配向を維持することができる配向安定性に優れた液晶表示素子を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、２枚の基板間に強誘電性液晶と重合性モノマーの重合物とを含む液晶層が狭持され、上記基板の対向面上にそれぞれ電極と光配向膜とが順次形成された液晶表示素子であって、上記光配向膜の構成材料が、光異性化反応を生じることにより上記光配向膜に異方性を付与する光異性化反応性化合物を含む光異性化型の材料であり、かつ、上記光配向膜の構成材料が、上記液晶層を挟んで互いに異なる組成であることを特徴とする液晶表示素子を提供することにより上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基のＨが下記一般式（１）の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】ポリマー組成物および該組成物を用いた布からの汚れの落ちを促進する方法を提供する。
【解決手段】布を、Ａ、Ｂ、およびＣのモノマーの２以上のモノマーを共重合してなるポリマーの少なくとも１つと接触させることを含む、布からの油汚れの落ちを促進する方法であって、該ポリマーにおいて、ＡはＣ_３−Ｃ_８モノエチレン性不飽和カルボン酸の１以上から選択されるモノマーの重合されたモノマー残基であり；ＢはＣ_３−Ｃ_６０アルキル（メタ）アクリレート、エトキシル化Ｃ_１−Ｃ_２４アルキル（メタ）アクリレート、および対応するこれらのマレイン酸のモノおよびジエステルの１以上から選択されるモノマーの重合されたモノマー残基であり、Ｃは、ＡおよびＢにおけるモノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーの１以上から選択されるモノマーの重合されたモノマー残基である。 （もっと読む）

【課題】パターンエッジの形成性、分散性および保存安定性に優れた遮光性硬化性組成物、並びにそれを使用して作成された遮光部を有するウエハレベルレンズおよび遮光性カラーフィルタを提供すること。
【解決手段】（Ａ）無機顔料、（Ｂ）ポリエステル構造を有する分散剤、（Ｃ）ポリエステル構造を有する重合性化合物、（Ｄ）重合開始剤、及び（Ｅ）溶媒を含む遮光性硬化性組成物、並びにこの組成物を硬化して作成されたれ遮光部を有するウエハレベルレンズおよび遮光性カラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】難燃性に優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂（Ａ）と、芳香族ビニル単量体（ｂ１）０．５質量％以上９９．５質量％以下、下記一般式（Ｉ）で表される単量体（ｂ２）０．５質量％以上９９．５質量％以下、シアン化ビニル単量体（ｂ３）０質量％以上１５質量％以下を含む単量体混合物［但し、単量体（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ３）の合計は１００質量％である。］を重合した、重量平均分子量が５０００〜２０００００の範囲の芳香族骨格を有する重合体に、硫黄成分が０．００１質量％以上１．４質量％以下の範囲となるように前記芳香族骨格にスルホン酸基及びスルホン酸塩基の少なくとも１種が導入されてなる流動性向上剤（Ｂ）と、を含有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。


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本開示では、酸官能性（メタ）アクリレートコポリマー及び新規の（メタ）アクリロイルアジリジン架橋剤を含む予備接着剤硬化性組成物が説明され、これは架橋されると、感圧接着剤組成物を提供する。 （もっと読む）

本願は、非水性組成物を目的とする。この組成物は、少なくとも１つの酸性モノマーを含む第１のモノマー群から誘導される酸性共重合体と、少なくとも１つの塩基性モノマーを含む第２のモノマー群から誘導される塩基性共重合体と、の配合物を含む。この塩基性共重合体は、アミド官能基を含み得る。幾つかの実施形態では、この組成物は、少なくとも１つの酸性モノマーを含む第１のモノマー群から誘導される、０℃未満のＴｇを有する酸性（メタ）アクリル共重合体と、少なくとも１つの塩基性モノマーを含む第２のモノマー群から誘導される、０℃未満のＴｇを有する塩基性（メタ）アクリル共重合体と、を含む。加えて、この組成物は、組成物１キログラム当たり最低０．１０モルの酸／塩基対を含み得る。 （もっと読む）