本発明は、一般に、分子鋳型ポリマー（ＭＩＰ）に関する。詳細には本発明は、比較的多量に製造しうる、再使用可能で環境に優しいＭＩＰ、それを製造する方法、およびそれを使用する（例えば、標的化合物（例えば、マイコトキシン）を捕捉および／または吸着する）方法に関する。本発明の組成物および方法は、食餌療法、予防、食物および飲料用の加工および製造に加え、研究、品質管理およびトレーサビリティへの適用をはじめとし、様々な適用において用途を見出す。 （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位であって、酸解離性基を含む繰り返し単位（Ａ）と、少なくとも芳香環基を有する繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電解質の洗い流しを防止し、広い温度範囲にわたって高効率、特に高伝導性を呈し、系を湿潤させる必要のない、高分子電解質膜を提供する。
【解決手段】１５μｍ〜１０００μｍの範囲の厚さを有し、１６０℃における真性伝導率が０．００１Ｓ／ｃｍ以上であるプロトン伝導性高分子膜の製造方法であって、ポリアゾールポリマーと特定の含ビニルホスホン酸とを混合して混合物を調製するステップ（Ａ）と、ステップ（Ａ）による前記混合物を用いて担体上に薄膜構造を形成するステップ（Ｂ）と、赤外光、近赤外光、紫外光、β線、γ線又は電子ビームでの照射によって遊離基を生成するステップ、あるいは、遊離基を生成可能な物質を使用するステップ（Ｃ’）と、ステップ（Ｂ）による薄膜構造中に存在する含ビニルホスホン酸を重合させて、相互浸透した網目構造（ＩＰＮ）を形成するステップ（Ｃ）を含む方法。 （もっと読む）

本発明は、部分的または完全に塩化された強酸機能を有する少なくとも１種のモノマーの、少なくとも１種の中性モノマーおよび式（Ｉ）を有する少なくとも１種のモノマーとの、分枝または架橋されたアニオン性高分子電解質に関する。
【化１】


ここで、Ｒは８〜２０個の炭素原子を含む線状または分枝アルキルラジカルを表し、ｎは１以上２０以下の数を表す。また、本発明は局所組成物中の増粘剤としてのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、活性汚泥処理水に残存する難生分解性の水溶性着色成分を少量の有機高分子凝集剤を用い効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】所定の一般式で示される単位を含有する水溶性及び／または吸水性のカチオン性重合体（ａ）、（ｂ）並びに水溶性及び／または吸水性の両性重合体の少なくともいずれか１種の重合体を有効成分とする着色成分除去剤を、不溶性吸着剤の２００ｍｇ／Ｌ〜２，０００ｍｇ／Ｌ存在下に、難生分解性の水溶性着色成分を含有する色度５０以上の活性汚泥処理水に添加し、次いで固液分離することを特徴とする活性汚泥処理水中の着色成分の除去方法。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】 p-トルエンスルホン酸ニッケル塩に比べてウレタン樹脂、ナイロン樹脂及びそれらから作られる製品の耐光性向上を図ると共に、最終製品の色合いに影響を及ぼさないか又は及ぼしにくい耐光性向上剤及び耐光性向上方法を提供する。
【解決手段】 ウレタン樹脂、ウレタン樹脂組成物又はウレタン樹脂製品に、メシチレンスルホン酸ニッケル塩、m-キシレン-4-スルホン酸ニッケル塩又はポリスチレンスルホン酸ニッケル塩の少なくとも一種を添加するか、又はナイロン樹脂、ナイロン樹脂組成物又はナイロン樹脂製品に、メシチレンスルホン酸ニッケル塩又はm-キシレン-4-スルホン酸ニッケル塩の少なくとも一種を添加する。 （もっと読む）

【課題】脱脂処理が施されていないアルミニウム基材に塗布して、親水性及び密着性に優れる親水性膜を形成することができる親水性組成物を提供すること。
【解決手段】珪素を含む親水性ポリマーと下記一般式（Ｖ）で表される化合物とを含有する親水性組成物であって、該親水性組成物は脱脂処理が施されていないアルミニウム製基材に直接塗布して塗膜を形成することができ、該塗膜は表面の水滴接触角が１５°以下であることを特徴とする親水性組成物。一般式（Ｖ）：（Ｒ^２０）_４−ｍ−Ｓｉ−（ＯＲ^２１）_ｍ（Ｒ^２０及びＲ^２１は各々独立に炭化水素基を表し、ｍは２又は３を表す。） （もっと読む）

２以上のアミド基を含むモノマーと、以下の式（ａ）のモノマーと、スルホン酸又は塩モノマーとを共重合することを含む方法を提供する。
【化１】


式中、Ｒ¹はＣＨ₃又はＨである。前記方法で製造されたポリマーを提供する。電極を準備し、ラジカル開始剤、２以上のアミド基を含むモノマー、以下の式（ａ）のモノマー及びスルホン酸又は塩モノマーの溶液を準備し、電極を前記溶液で濡らし、濡らした電極を加熱して、２以上のアミド基を含むモノマー、式（ａ）のモノマーと、スルホン酸又は塩モノマーとを共重合することを含む、電極の被覆方法を提供する。前記方法で被覆された電極を提供する。 （もっと読む）

【課題】金属層の平滑面と樹脂層との間の密着性を十分に向上させることができる重合性化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−１）で表される重合性化合物（式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子又は式「−ＮＨ−」で表される基であり、複数のＸは互いに同一でも異なっていても良く；Ｚ^１は下記一般式（Ｚ−１１）又は（Ｚ−１２）で表される基であり；Ｚ^２は置換基を有していても良い炭素数１〜２０のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基、置換基を有していても良い芳香族基、あるいはＺ^１であり、複数のＺ^２は互いに同一でも異なっていても良く、ただし複数のＺ^２がともにＺ^１である場合を除く。Ｚ^１が複数である場合には、複数のＺ^１は互いに同一でも異なっていても良い。Ａ^１は置換基を有していても良いアリーレン基である。）。
［化１］
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本発明は架橋アニオン性ポリマーを含む水中水型ポリマー分散物、その調製のための方法、およびその使用に関する。水中水型ポリマー分散物はとりわけ製紙における凝集剤、脱水(排水)助剤および保持助剤として有用である。 （もっと読む）

少なくとも１つの（例えば、フリーラジカル）重合性イオン液体と、少なくとも１つの他のエチレン性不飽和モノマー、オリゴマー又はポリマーと、の混合物を含む硬化性組成物が、本明細書で記載される。重合性イオン液体は、少なくとも０．７０の窒素に対する空気の硬化発熱比率を有するものとして特徴付けられる。このような硬化性組成物からの物品及び物品製造方法もまた記載される。非重合性置換イミダゾリウムカチオン性基と、重合性スルホン酸アニオンと、を含む、一官能性重合性イオン液体もまた記載される。 （もっと読む）

少なくとも１個の酸基を含有する少なくとも１種のモノエチレン性不飽和モノマーをベースとし、その際、該酸基の少なくとも５モル％が、少なくとも１種の第三級アルカノールアミンで中和されている粒状超吸収体は、熱可塑性物質の公知の形状付与法により、超吸収体を含有する成形体へと成形される熱可塑性混合物の特に適した超吸収性の成分である。 （もっと読む）

【課題】高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】イオン伝導特性に優れるイオン伝導体及び、当該イオン伝導体を構成するポリマーの製造に有用な重合性化合物の提供。
【解決手段】環状有機基で置換された炭化水素基を有する繰返し単位を含むポリマーからなるイオン伝導体であって、上記環状有機基の環を構成する原子のうち連続する３又はそれ以上の原子に、エステル基、アミド基、リン酸基、スルフォン酸基などの極性基のいずれかが結合している、イオン伝導体。 （もっと読む）

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】高温条件下、かつ低加湿ないし無加湿条件下においても発電特性に優れる固体高分子形燃料電池を備えた燃料電池システムを提供する。
【解決手段】脂肪族環構造を有するペルフルオロモノマーに基づく繰り返し単位を有し、かつイオン交換基を有するポリマー（Ｈ）を触媒層に含む膜電極接合体１０を有する固体高分子形燃料電池２２と、固体高分子形燃料電池２２の温度を調節する調温手段と、固体高分子形燃料電池２２の温度を検知する温度センサ３８と、温度センサ３８からの温度情報に基づいて固体高分子形燃料電池２２の最高温度が９０〜１４０℃の範囲になるように調温手段を制御する制御装置４０とを有する燃料電池システム２０。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高感度、良好なラインエッジラフネスが得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により、側鎖に酸を生じる繰り返し単位（Ａ）、及び、アルカリ可溶性基を有する繰り返し単位（Ｃ）、を有する樹脂（Ｐ）であって、該樹脂（Ｐ）が、ヘテロ原子を含んでもよい複数の芳香環構造を有し、該複数の芳香環構造が縮環、又は互いに単結合で連結されている構造部位（Ｘ）を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】インキの密着性を維持したままで、オフセット印刷時に発生するミスチングを低減でき、かつ印刷外観に優れた活性エネルギー線硬化型のオフセット印刷インキ用樹脂および、ミスト量を低減された印刷インキ用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）スチレン類、（ｂ）（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（ｃ）親水性基含有ビニルモノマーおよび（ｄ）（メタ）アクリロニトリルを含有するモノマー成分を含有する共重合体であって、共重合体に使用する全モノマー成分に対する（ｄ）成分の使用割合が３〜１５重量％であり、重量平均分子量(Ｍｗ)が５,０００〜１３，０００であり、かつガラス転移温度（Ｔｇ）が７０〜１００℃であるオフセット印刷インキ用樹脂（Ａ）。 （もっと読む）

モノエチレン性不飽和水溶性表面活性モノマー（ａ）、ならびにモノマー（ａ）とは異なる、モノエチレン性不飽和親水性モノマー（ｂ）を含有する、疎水性で会合性の水溶性コポリマー。前記コポリマーは、非重合性の界面活性剤の存在下で製造され、かつ水性系中での顕著な増粘作用を有する。 （もっと読む）