【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、水の含有量が３質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、金属の合計含有量が３０質量ｐｐｂ以下である感放射線性樹脂組成物である。上記金属が、ナトリウム、マグネシウム又は鉄であり、このナトリウム、マグネシウム又は鉄の各含有量がそれぞれ３質量ｐｐｂ以下であることが好ましい。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位（ａ３−０）とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


の繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、塩基解離性基を有する構成単位（ｆ１）を含む含フッ素重合体（Ａ）、放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）、放射線の照射により特定のｐＫａを有する化合物を発生する塩（Ｄ）を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】反射率、鉛筆硬度および耐クラック性に優れた微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に略円形または略多角形の開口部を有する錘状凹部が形成された微細構造体であって、前記開口部の平均幅が４００ｎｍ以下であり、分子内に２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物（Ａｘ）を重合性化合物の合計量に対して８０質量％以上含有する光硬化性組成物（Ａ）の硬化物である微細構造体。 （もっと読む）

【課題】 パーフルオロエラストマーを調製するための硬化性フルオロエラストマー組成物。
【解決手段】 組成物には、（１）過酸化物硬化反応に関与することができるハロゲンおよび／またはニトリル基から選択された１つ以上の硬化部位を有するパーフルオロポリマーと、（２）有機過酸化物および／または前記ニトリル基を通じてパーフルオロポリマーを硬化することができる化合物と、（３）任意にポリ不飽和架橋助剤と、が含まれる。組成物中のパーフルオロポリマーは、本質的にイオン性末端基を有さず、組成物中の金属陽イオンの総量は、１０μｇ／ｇパーフルオロポリマー以下である。このパーフルオロエラストマーは、金属陽イオンの量が十分に少ない組成物を硬化し、フルオロエラストマーを半導体産業で用いるのに適するようにすることで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる重合性フッ素系化合物を提供する。また、塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持できる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性フッ素系化合物を用いる。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは（メタ）アクロイルオキシ骨格を有する基であり、残りは水酸基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に２価の有機基、ＰＦＰＥはポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を表す。また、ｎは平均で０〜１０の範囲を表す。） （もっと読む）

【課題】 特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、芳香環およびラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、、解像力、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）、ドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを含有する樹脂の間を酸分解性の架橋有機基で架橋してなり、酸の作用により該架橋が切断される高分子化合物（Ｐ）を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】環境及び生体への蓄積性が低く、優れたレベリング剤として用いることができるフッ素系界面活性剤を提供する。また、このフッ素系界面活性剤を用いたコーティング組成物及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数４〜６のフッ素化アルキル基（ただし、前記アルキル基は酸素原子によるエーテル結合を有するものも含む。）を有する単量体（Ａ）及び下記一般式（２）で表されるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体（Ｂ）を必須の単量体として共重合させた共重合体であることを特徴とするフッ素系界面活性剤を用いる。


（式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独立のアルキレン基であり、ｍ及びｎはそれぞれ０または１以上の整数であり、かつｍとｎの合計は３以上であり、Ｚは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】透明性および防汚性に優れた硬化膜を形成することができる硬化性組成物、該硬化性組成物から形成された硬化膜を備える反射防止用積層体を提供する。
【解決手段】反射防止用積層体１００は、透明基材１０上に、（Ａ）シリカ粒子と、（Ｂ−１）フッ素を含有する（メタ）アクリルエステル類および（Ｂ−２）エチレン性不飽和基を含有する含フッ素重合体から選択される少なくとも１種と、（Ｃ）下記一般式（１）で示される構造を有する含フッ素化合物と、を含有する硬化性組成物から形成された硬化膜３０を有する。


（式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜４のアルキレンを表し、Ｒｆは２〜１０個のＣＦ_３基を有する炭素数３〜２０のフッ化炭素基を表し、Ｌは芳香環を含んでいてもよい炭素数６〜１２の連結基を表す。ｍは０または１であり、ｎは２〜３０の整数を表す。＊は他の原子または基と結合していることを表す。） （もっと読む）

【課題】 金属含有量を低減させた含フッ素エラストマーを含む組成物からなる成形品を提供する。
【解決手段】 金属含有量が５０ｐｐｍ以下の含フッ素エラストマーを含む組成物から得られ、金属含有量が５０ｐｐｍ以下である成形品。この成形品は半導体製造装置用のシール材などに有用である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（ｉ）で表される基を有する構造単位（Ｉ）を含む重合体、［Ｂ］感放射線性酸発生体、及び［Ｃ］上記［Ａ］重合体よりもフッ素原子含有率が小さく、かつ酸解離性基を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である
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【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された共重合体と光学素子、およびそれらを得るための新規な化合物を提供する。
【解決手段】
新規なビニルエーテル化合物は下式で表される。
CH₂=CH-O-(CH₂)_m-R-(CH₂)_n-O-w¹-(E¹)_h-w²-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R¹………（１）
式中、Ｒはアルキレン基、ポリフルオロアルキレン基等、Ｒ^１はアルキル基、シアノ基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、
ｗ^１，ｗ^２はカルボニル基または単結合を示す。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される基を有するフッ素含有化合物［Ａ］と、感放射線性酸発生体［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ^Ｃは、置換されていてもよい（ｐ＋１）価の芳香族環式基であり、Ｑは、１価の親水基から水素原子１つを除いた連結基であり、Ｒ^Ｅは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基である。ｐは、１〜５の整数である。但し、ｐが２〜５の場合、複数のＱ及びＲ^Ｅはそれぞれ独立して上記定義を有する。「＊」は結合手を示す。） （もっと読む）

【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方を有する重合体と、トリフェニルスルホニウム塩化合物（Ｘ１）とを含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方と、側鎖に酸解離性脂環式基を有する（メタ）アクリレート単位と、を有する重合体を含有する。
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