【課題】硬化物にしたときに耐熱性、低屈折率及び機械物性に優れる新規な含フッ素アダマンタン誘導体及びそれを含む樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式の化合物で代表される含フッ素アダマンタン誘導体及びそれを含む樹脂組成物。
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【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ０−０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する樹脂成分（Ａ）を含有し、露光により発生した酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するＥＵＶ用またはＥＢ用レジスト組成物。［化１］
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【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】本発明は、容易に個々の単芯プラスチック光ファイバ一本一本に解くことができ、該一本一本の単芯プラスチック光ファイバの光伝送が良好な多芯プラスチック光ファイバ素線を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の多芯プラスチック光ファイバ素線は、樹脂からなる複数本の芯と、当該芯を取り囲む第１鞘樹脂からなる第１鞘層と、前記第１鞘層の外周と接する第２鞘樹脂からなる第２鞘層と、を含む多芯プラスチック光ファイバ素線であって、前記第１鞘樹脂および前記第２鞘樹脂が特定の樹脂である。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性及び硬度を有する（メタ）アクリレート共重合体を提供する。
【解決手段】パーフルオロアダマンタン骨格及び（メタ）アクリロイル基を有する下記式（Ｉ）又は式（II）で表される（メタ）アクリレート共重合体。
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【課題】高度にフッ素化されたフルオロポリマーへの紫外線の適用による、一般的に、燃料電池などの電解槽内でポリマー電解質膜として使用される膜の形態の、架橋ポリマー電解質の製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池などの電解槽中で、一般的にポリマー電解質膜として使用される膜の形態の架橋ポリマー電解質を製造する方法、および本方法により製造されたポリマーであり、本方法は、高度にフッ素化されたフルオロポリマーへの紫外線の適用を含み、フルオロポリマーは、テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖、式−ＳＯ_２Ｘ（式中、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ、または−Ｏ⁻Ｍ^＋（式中、Ｍ^＋は１価の陽イオンである）である）で表される基を含む第１の側基、およびＢｒ、Ｃｌ、またはＩ、を含む第２の側基を含む。膜の厚さは、一般的に９ ０ ミクロン以下、より一般的には６ ０ ミクロン以下、さらに最も一般的には３ ０ ミクロン以下である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】高解像性を有し、プロセス適応性に優れ、露光後のパターン形状が良好で、ラインエッジラフネスが小いポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ²はＨ又は一価又は二価の炭化水素基、Ｒ³は特定の酸不安定基、Ａ¹は二価の炭化水素基、Ａ²は二価又は三価の炭化水素基、Ａ²とＲ²は互いに結合して隣接する窒素原子と共に環を形成してもよい。ｋ¹は０又は１。） （もっと読む）

【課題】短工程で重合性光酸発生モノマーを製造する方法の提供。
【解決手段】式（Ｉ）のスルトンを、重合性基を有する求核試薬と反応させて得たカチオン塩を第２のカチオンと交換する。


（式中、各Ｒは独立してＦ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲの少なくとも１つはＦであり；ｎは０〜１０の整数であり、並びにｍは１〜４＋２ｎの整数である。） （もっと読む）

【課題】燃料電池などの電解槽のポリマー膜の製造に有用なスルホン酸官能性ポリマーの提供。
【解決手段】１）式Ｉ：
Ｆ₂Ｃ＝ＣＦ−Ｒ¹−ＳＯ₂Ｘ（Ｉ）
［上式中、Ｒ¹は、１〜１５個の炭素原子と０〜４個の酸素原子とを含む分岐または非分岐のペルフルオロアルキル基、ペルフルオロアルコキシ基またはペルフルオロエーテル基であり、ＸはＦ、ＣｌまたはＢｒである］のフルオロモノマーを０．００１〜０．９モル当量の塩基と一緒に、添加された乳化剤の非存在下で混合することによって水性プレエマルションを形成する工程と、２）前記プレエマルションを１つ以上の過フッ素化コモノマーと、添加された乳化剤の非存在下で反応させて、１モル％より多いモノマー単位が前記式Ｉのフルオロモノマーから誘導されるフルオロポリマーを含むフルオロポリマーラテックスを形成する工程と、を含む、２つ以上のフルオロモノマーの水性乳化共重合のための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】低酸拡散性と高い溶解コントラストを両立すると共に、発生酸やクエンチャーなどによるケミカルフレアを抑制することにより、ホールパターンやトレンチパターンのＤＯＦと真円性もしくはＬＷＲを改善したポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）高エネルギー線に感応した結果、側鎖にスルホン酸ジフロロメチル構造の酸を発生する繰り返し単位（ａ１）と、酸不安定繰り返し単位（ａ２）とを有し、酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物、及び（Ｂ）下記一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基。Ｒ^aは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基。Ｚ^１は、＊−Ｘ^１−ＣＯ−（但し、Ｘ^１は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基）で表される基などを表す。］〔２〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リチウムイオン二次電池用固体電解質の構成材料として、優れたイオン伝導性に寄与するイオン性高分子の提供。
【解決手段】脂肪族炭化水素からなる繰り返し単位とスルホンイミド基を有する繰り返し単位とを含有するイオン性高分子であって、該スルホンイミド基を有する繰り返し単位中のスルホンイミド基は、下記式（１）：
−ＳＯ_２Ｎ（Ｍ）ＳＯ_２Ｒ^１ ・・・（１）
｛式中、Ｒ^１は、フッ素原子、炭素数１〜８のアルキル基、及びフルオロアルキル基から成る群から選ばれる基であり、そしてＭは、プロトン又はリチウムイオンである。｝で表されることを特徴とする前記イオン性高分子。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性に優れ、欠陥の発生数の少ないレジスト組成物に有用な樹脂及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔１〕と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト。〔１〕式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式（ａ）中、Ｒｆは、フッ素原子又はフッ素化アルキル基を表す。Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環を表す。Ｒｘは、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】 側鎖にスルホン酸オニウム塩を組み込まれアニオンが樹脂側に固定されたレジスト樹脂であって、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートへの溶解度の高い樹脂を提供する。
【解決手段】下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有するスルホン酸塩樹脂。


（式中、Ｘは水素原子またはフッ素原子、ｎは１〜１０の整数。Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜３のアルキル基もしくは含フッ素アルキル基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^ＡＯ、Ｒ^ＢＲ^ＣＮのいずれかを表す。Ｍ^＋は、一価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、適切なアルカリ加水分解性を有すると共に、構造の選択により撥水性、滑水性、表面偏在性など各種性能の調整が可能で、例えばフォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成する高分子化合物を提供する。
【解決手段】特定の含フッ素エステル型単量体及び該含フッ素エステル型単量体繰り返し単位を有する高分子化合物、及び該高分子化合物が可視光から波長２００ｎｍ以下までの幅広い波長領域において優れた透明性を有し、また適切なアルカリ加水分解性を有することから、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用で、更に、フォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成するポリマーとして特に有用となる。 （もっと読む）

【課題】 感度、ラフネス特性、孤立スペースパターンの解像性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はフルオロアルキル基を、Ｒ^３Ｒ^５は水素原子等を、Ｒ⁶は単結合、２価の有機基を表す。）で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性、及び、優れた露光ラチチュードを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位（Ａ）有する樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射によりビス（アルキルスルホニル）アミドを発生する、前記樹脂（Ｐ）とは異なる化合物（Ｂ）とを含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）