【課題】解像性に優れ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド系構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】少量添加でも塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる添加剤である重合性フッ素表面修飾シリカ粒子を提供する。また、当該シリカ粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖とその両末端に重合性不飽和基を有する化合物（Ａ）と、反応性官能基（ｂ）を有する重合性不飽和単量体（Ｂ）と、重合性不飽和基を有するシリカ粒子（Ｃ）とを必須成分として重合させて得られる表面修飾シリカ粒子（Ｐ）に、前記官能基（ｂ）に対して反応性を有する官能基（ｄ）及び重合性不飽和基を有する化合物（Ｄ）を反応させて得られるものであることを特徴とする重合性フッ素表面修飾シリカ粒子、該シリカ粒子を配合した活性エネルギー線硬化性組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特定のＣＳＭの添加時期を制限することで、圧縮永久歪み、耐熱性、応力緩和などの物性が優れる含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーおよび成形品を提供する。
【解決手段】該製造方法は、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（１）：
ＣＹ^１_２＝ＣＹ^２Ｒ_ｆ^１Ｘ^１ （１）
（式中、Ｙ^１、Ｙ^２はフッ素原子、水素原子または−ＣＨ_３；Ｒ_ｆ^１はエーテル結合性酸素原子を有していてもよく水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換された直鎖状または分岐状の含フッ素アルキレン基；Ｘ^１はヨウ素原子または臭素原子）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法であって、
一般式（１）で示される化合物の添加を、重合開始剤添加後に重合系内に添加する前記エチレン性不飽和化合物の全添加量の０〜１０重量％を添加した時期に開始することを特徴とする含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂の提供する。
【解決手段】下記式で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、フッ素原子の含有量が５〜４０％であり、かつアルカリ水溶液に対して溶解性を有することを特徴とする含フッ素樹脂。−（Ｘ−Ｏ）_ｎ−Ｙ式中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。ただし、式におけるフッ素原子の総数は２以上である。 （もっと読む）

【課題】 容器の安定した製造、特に低温ヒートシール性に優れた凍結保存容器の開発が求められている。さらに、そのシール強度に優れたものであり、凍結保存時に容器が破損しにくい凍結保存容器の開発が求められている。
【解決手段】 本発明は、−８０〜−１９６℃の極低温下で凍結保存容器を使用する方法であって、該使用方法は、生体試料を凍結保存容器に収容する工程を含み、該凍結保存容器は、少なくとも接着性含フッ素高分子フィルムと、該接着性含フッ素高分子フィルム以外のフィルムとを含む積層フィルムで構成され、該接着性含フッ素高分子フィルムが少なくとも片方の最外面に存在するものであり、該接着性含フッ素高分子フィルムは、接着性部位を有する接着性含フッ素高分子からなり、該接着性部位が、炭素−炭素二重結合、カルボニル基［−Ｃ（＝Ｏ）］、カルボニル基を有する基又は結合、ヒドロキシル基、シアノ基、スルホン酸基、およびエポキシ基からなる群より選択される少なくとも１つである凍結保存容器の使用方法である。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ａ¹は、単結合等；ｌは０〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】酸素透過性及び化学的耐久性に優れ、電解質構造を壊すことなく、Ｆ₂ガスによるフッ素化が可能であり、しかも、安価な電解質を提供すること。
【解決手段】次の（１）式及び（２）で表される構造を備えた電解質。但し、Ｐは、側鎖又は主鎖に多環式骨格を含む多環式構造。Ｑは、Ｒfsと結合する第１パーフルオロカーボンＱ₁を含む構造。Ｍは、水素、又は、アルカリ金属。ａは、０以上１００以下の整数。Ｒf₆、Ｒf₇は、それぞれ、フッ素、又は、炭素数が１〜１０のパーフルオロカーボン。ｔは、１以上１０以下の整数。Ｒfは、ＯＭ（ａ≧０の時）又は炭素数が１〜１０のパーフルオロカーボン（ａ≧１の時）。多環式骨格とは、２以上の環を持ち、前記環を構成する少なくとも１つの炭素が、２以上の前記環の一部となっている構造をいう。
【化１】
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【課題】良好な撥水性と、耐候性促進試験条件下でも高い耐久性を有するナノ凹凸構造体を形成できる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体と撥水性物品の提供。
【解決手段】特定の多官能モノマー(Ａ)を５０〜９０質量部と、多官能モノマー(Ａ)と相溶する、下記式(１)で示されるフッ素含有モノマー(Ｂ)を５〜４９．５質量部と、特定の単官能フッ素含有モノマー(Ｃ)を０．５〜１０質量部含む重合反応性モノマー成分と、重合反応性モノマー成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の活性エネルギー線重合開始剤とを含有し、フッ素含有モノマー(Ｂ)と単官能フッ素含有モノマー(Ｃ)の質量比((Ｃ)／(Ｂ))が０．１２以下である活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
［化１］
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【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】金属含有量を低減させた含フッ素エラストマーとその含フッ素エラストマーを含む組成物、および当該組成物からなる成形品を提供する。
【解決手段】灰化した後に残存する金属含有量が５０ｐｐｍ以下の含フッ素エラストマー、該含フッ素エラストマーと加硫剤を含む組成物、さらには該組成物を加硫して得られ、灰化した後に残存する金属含有量が５０ｐｐｍ以下である含フッ素エラストマー成形品。この成形品は半導体製造装置用のシール材などに有用である。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性を有した防汚層を形成した防汚性硬化塗膜を有する物品及び防汚性フィルムを提供する。
【解決手段】フッ素含有率が１５〜３０質量％であり、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖及び重合性基を有する重合性含フッ素樹脂（ａ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物（Ａ）１１を基材（Ｂ）１０に塗工し、該塗工塗膜表面に、２５℃における表面自由エネルギー３５ｍＪ／ｍ^２以下の表面状態のコーティング層１３を有するフィルム（Ｃ）１２のコーティング層１３を接触させた状態で、活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化性組成物（Ａ）１１を硬化した後、前記フィルム（Ｃ）１２を剥離することにより得られることを特徴とする防汚性硬化塗膜を有する物品又は防汚性フィルム。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有し、かつ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤、式（ＩＩ）で表される化合物及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｗ^１は飽和複素環を表す。］ （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角により、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制される液浸露光用感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］フッ素原子及びアルカリ解離性基を有し、主鎖に脂環式基を有する重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物。［Ａ］は、下記式（１）の構造単位（Ｉ）を含むことが好ましい。
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【課題】フォトレジスト用原料として、優れた性能を有する重合性光酸発生モノマーを提供する。
【解決手段】下記構造を有するモノマー化合物：


式中、各Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は独立してＨ、Ｆ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲ^１、Ｒ^２もしくはＲ^３の少なくとも１つはＦであり；ｎは１〜１０の整数であり、Ａはハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有重合性基であり、並びにＧ^＋は有機もしくは無機カチオンである。このモノマーは、スルトン前駆体と、ヒドロキシ含有のハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有化合物のオキシアニオンとの反応生成物である。ポリマーは式（Ｉ）のモノマーを含む。 （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】
溶融加工性テトラフルオロエチレンポリマー、又は２種類以上のテトラフルオロエチレンポリマーの溶融加工性ブレンドを含む組成物の提供。
【解決手段】
溶融加工性テトラフルオロエチレンポリマー、又は２種類以上のテトラフルオロエチレンポリマーの溶融加工性ブレンドを含む組成物であって、該ポリマー又は該２種類以上のポリマーのブレンドは１０％より大きい破断点伸びを有し、該ポリマー又は該２種類以上のポリマーのブレンドの少なくとも1種類のポリマーは、テトラフルオロエチレンモノマー単位とは異なる少なくとも１種類以上のフルオロ−モノマー単位を少量含み、該ポリマー中の又は該２種類以上のポリマーのブレンドの少なくとも1種類のポリマー中の、該少なくとも1種類以上のフルオロ−モノマー単位の量が３モル％未満である、上記組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物（Ａ）、高エネルギー線に感応して下記一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤（Ｂ）、下記一般式（２）で示される高分子添加剤（Ｃ）とを含むことを特徴とするレジスト組成物。Ｒ^２００−ＣＦ_２ＳＯ_３Ｈ（１）
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