【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位（Ａ）、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｂ）、及び下記一般式（Ｘ）で表される繰り返し単位（Ｆ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
（もっと読む）

【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、ＡＲは、アリール基を表す。Ｒｎは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。ＲｎとＡＲとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された光学異方性材料、光学素子およびこれらを得るための新規な液晶化合物を提供する。
【解決手段】新規な含フッ素ジエン化合物は下式で表される。この化合物を含有する重合性液晶組成物が調製され、この化合物を重合することにより光学異方性材料、光学素子が得られる。
CF₂=CFCXYCH(CZ-O-W¹-(CH₂)_m-R¹-(CH₂)_n-(O)_i-W²-(E¹)_h-W³-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R²)CH₂CH=CH₂
式中、Ｒ^１は単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基等、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２，Ｅ^３，Ｅ^４は各々独立に、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、ＣＺはメチレン基等を示す。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ−１）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂。［式（Ｉ−１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｂ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環を含み、オキシ基との間の結合〔Ｏ−Ｂ^２〕が酸の作用により切断されない基を表す。Ｒ^５は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基にメチレン基が含まれる場合、そのメチレン基は、オキシ基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。］
（もっと読む）

【課題】引張降伏応力が高く、優れた透明性を有し、融点の高いＥＴＦＥの提供を目的とする。
【解決手段】エチレンに基づく繰り返し単位と、テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位と、Ｙ−（ＣＦ_２）_４−Ｚ（ただし、ＹおよびＺは、それぞれ独立にビニル基、トリフルオロビニル基またはトリフルオロビニルオキシ基である。）で表される単量体（ａ）に基づく繰り返し単位とを有することを特徴とするエチレン／テトラフルオロエチレン系共重合体。 （もっと読む）

【課題】ラフネスがより低減され、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】α位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）及び−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。一般式（ｃ１）中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基；Ｙ^１は２価の脂肪族炭化水素基；Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基である。ｐは１〜１０の整数、Ａ^＋は有機カチオンを表す。
［化１］
（もっと読む）

【課題】良好な長期安定性の燃料電池を実現する高分子電解質膜が得られるフッ素系ポリマー、該フッ素系ポリマーが得られるフッ素系ポリマー前駆体、該フッ素系ポリマーの製造方法、該フッ素系ポリマーを用いた燃料電池部材および長期安定性に優れた固体高分子型燃料電池を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される構造単位と下記式（２）又は下記式（３）で表される構造単位とを有することを特徴とするフッ素系ポリマー。




（もっと読む）

【課題】-35℃よりも低いガラス転移温度を有し、FT-IR分光分析を用いる方法で感度限界以下の-COF末端基の量をポリマー中に有する、ビニリデンフルオライド(VDF)をベースとする硬化性フルオロエラストマー用モノマーの製造法を提供する。
【解決手段】CF₃OFとCOとを反応させることによってフルオロホルメートCF₃OCOFを取得し、それを元素状態のフッ素および式：CAF=CA'Fを有するオレフィン化合物と反応させることにより、式：CF₃OCF₂OCFACF₂A'(式中、AおよびA'は、互いに同一または異なって、H、ClまたはBr(但し、両方がHとはなりえない)である)のフルオロハロゲンエーテルを取得し、それから置換分AおよびA'を除くことによる、モノマーCF₃OCF₂OCF=CF₂(a)の製造法。 （もっと読む）

【課題】電池特性並びに機械的強度に優れる、電解質膜を提供する。
【解決手段】本発明は、含フッ素共重合体からなる電解質膜であって、含フッ素共重合体は、フッ化ビニリデンに基づく重合単位（Ａ）と、−ＳＯ_３Ｘ基を側鎖に有する重合単位（Ｂ）と、からなり、−ＳＯ_３Ｘ基は、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_３ＮＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４、及び−ＳＯ_３Ｍ^１_１／Ｌ（但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なり、水素原子若しくは炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｍ^１は、同一若しくは異なって、Ｌ価の金属を表し、前記Ｌ価の金属は、周期表の１族、２族、４族、８族、１１族、１２族又は１３族に属する金属（但し、Ｌｉを除く。）を表す。）からなる群より選択される少なくとも１種の官能基であることを特徴とする電解質膜である。 （もっと読む）

【課題】優れた感度、高安定性、及び高解像度が得られ、ガス排出量及びＬＥＲを低減することができる、化合物、これを含む重合体、及びその重合体を含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下式で表される化合物、その化合物を単量体として含む重合体。


［式中、Ｒ₁₁は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基等を表し、Ｑ₁、Ｑ₂は各々独立に水素原子またはハロゲン原子を表し、Ａ＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ホスホン酸ポリマー、その製造方法及びその用途に関し、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物及びその製造方法であり、プロトン伝導率の良好なポリスチレン系化合物を用いた二次電池用バインダー及び燃料電池用電解質膜を提供する。
【解決手段】ポリスチレンの芳香環に下式で表される基が少なくとも１つ導入されたポリスチレン系化合物であることを特徴とするホスホン酸ポリマー。
（もっと読む）

【課題】低屈折率高分散特性を維持しつつ、エネルギー硬化型樹脂組成物の硬化時に微粒子の移動による屈折率勾配や光散乱を抑制することができるエネルギー硬化型樹脂組成物および多層回折光学素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体を１種以上と、分子内に２つ以上の重合官能基を有するアクリル系単量体を１種以上とを含有する有機成分と、（Ｂ）透明導電性の金属酸化物微粒子と、（Ｃ）重合開始剤とを含有するエネルギー硬化性樹脂組成物であって、前記（Ａ）有機成分の含有量が４０重量％以上６８重量％以下であり、且つ前記有機成分に含有されるアクリル系単量体の含有量が前記有機成分に対して１．３重量％以上５．０重量％以下であるエネルギー硬化型樹脂組成物。上記のエネルギー硬化性樹脂組成物を光学材料として用いた多層回折光学素子。 （もっと読む）

【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物、および、液晶媒体および液晶ディスプレイにおけるそれらの使用を提供する。
【解決手段】本発明は、重合性化合物と、それらを調製するための方法および中間体と、光学的、電気光学的および電子的目的のためで、特に、ポリマー安定化ブルー相を有する液晶（ＬＣ：ｌｉｑｕｉｄ−ｃｒｙｓｔａｌ）媒体およびＬＣディスプレイにおいて、および、ＰＳまたはＰＳＡ（「ｐｏｌｙｍｅｒ ｓｕｓｔａｉｎｅｄ（ポリマー維持）」または「ｐｏｌｙｍｅｒ ｓｕｓｔａｉｎｅｄ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ（ポリマー維持配向）」）タイプのＬＣディスプレイのためのＬＣ媒体におけるそれらの使用と、これらの化合物を含むＬＣ媒体およびＬＣディスプレイとに関する。 （もっと読む）

【課題】保護膜のアルカリ溶解性の低下を抑えながら、撥水性を向上させることが可能な保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（Ａ−１）で表されるモノマーに由来す構成単位を有するアルカリ可溶性ポリマーを含有する保護膜形成用材料。


式中、Ｒ^０は式（ａ−１）又は式（ａ−２）で表される基、Ｑ^０は単結合又はフッ素原子を有していてもよい２価の連結基、Ｒ^１はフッ素原子を有していてもよい有機基を示す。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを製造することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２はフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^１は２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｘ^２は、炭素数１０〜１4の２価の芳香族炭化水素基を表す。Ｘ^３は、単結合、^＊１−ＣＯ−Ｏ−^＊２又は^＊１−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ−ＣＯ−Ｏ−^＊２を表す。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及びデフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターンを形成可能とするパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。上記レジスト組成物は、（ａ）酸の作用により分解する樹脂であって、下記式（１）により表されるΔＳＰが２．５（ＭＰａ）^１／２以上である樹脂と、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、（ｃ）溶剤とを含有している。 （もっと読む）

【課題】 溶解性および解像性能に優れ、かつ、マスク依存性が小さくＬＷＲの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体を提供すること。
【解決手段】 特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体、および、（Ａ）特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体と、（Ｂ）溶剤とを含むことを特徴とする、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】新規な光活性ポリマーおよびこのポリマーを樹脂成分として含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ｉ）共有結合した１以上の光酸発生剤部分、および（ｉｉ）１以上の光酸不安定基を含み、この１以上の光酸発生剤部分は１以上の光酸不安定基の成分である、新規のポリマーを含むフォトレジスト組成物。 （もっと読む）