非脱湿潤性の微孔質膜複合材料が開示される。これらの微孔質膜複合材料は、メタノールと水との溶液で湿潤され、水中でのオートクレーブ処理後に非脱湿潤性である。微孔質膜複合材料は、微孔質膜支持体を含み、この微孔質膜支持体は、親水性基を含む架橋イオノマーで被覆されている。微孔質膜支持体と比較して、微孔質膜複合材料は、８２％未満の平均イソプロピルアルコール流動損失を有する。
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【課題】 繊維製品などの基材に対して、それら基材が本来有する吸水性を大幅に損なう事なく、洗濯耐久性を維持しながら、優れた撥油性と防汚性と汚れ脱離性を付与する。
【解決手段】本発明の含フッ素共重合体は、
（ａ）フルオロアルキル基またはフルオロアルケニル基を有する単量体、および
（ｂ）アルキレンオキサイド基を有する単量体、および
（ｃ）アセトアセチル基を有する単量体、および
（ｄ）酸アニオン基を有する単量体
から誘導された繰返単位を必須成分とし、
単量体（ａ）と単量体（ｂ）と単量体（ｃ）と単量体（ｄ）の量がそれぞれ３０〜８０重量部と１０〜６９重量部と０．５〜１０重量部と０．１〜１０重量部である。
本発明の含フッ素共重合体は、汚れ脱離性を有する含フッ素繊維加工剤の活性成分として機能する。 （もっと読む）

【課題】自己形成型上部反射防止コーティング組成物、この組成物を含むフォトレジスト調合物およびこの組成物を含むフォトレジスト調合物を用いる像形成の方法を提供する。
【解決手段】この組成物は、エチレン形主鎖を有するポリマーであって、芳香族部分を有する第１のモノマー、塩基可溶性部分または酸に不安定な基で保護された塩基可溶性部分を有する第２のモノマー、およびフルオロアルキル部分を有する第３のモノマーを含むポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射に対して高感度で硬化可能であり、耐擦過性及び耐ブロッキング性に優れる画像を形成しうる、インクジェット記録用途に好適なインク組成物、本発明のインク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）光ラジカル発生部位と（ａ−２）フルオロアルキル基、シロキサン構造、及び、長鎖アルキル基のいずれかから選択される少なくとも一つの偏析部位と、を有する高分子化合物、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び、（Ｃ）（Ａ）とは異なる光ラジカル発生剤、を含有するインク組成物である。 （もっと読む）

【課題】フルオロエラストマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】過フッ素化アルカンスルホン酸若しくはカルボン酸又はその塩、硬化部位を含む液体フッ素化モノマー、および、任意に不活性液体の高フッ素化炭化水素化合物から得られる水性マイクロエマルジョン。本水性マイクロエマルジョンは、水、過フッ素化アルカンスルホン酸若しくはカルボン酸又はその塩、任意に不活性液体の高フッ素化炭化水素化合物、および硬化部位を有する液体フッ素化モノマーを一緒に混合することによって生成されてもよい。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】環骨格中に−ＳＯ_２−を有する環式基を含む構成単位、フッ素原子を含む構成単位、および前記各構成単位とは異なる構成単位であって酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、［Ａ］シラノール基を有するポリシロキサン、［Ｂ］下記一般式（１）で表される構造単位を有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００である重合体、及び、［Ｃ］溶剤を含有する。
【化１】
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本発明はパターンの複製方法に関し、前記方法は（ａ）複数の窪みまたは突起領域がその中に形成されているパターン付きテンプレート表面を備えたパターン付きテンプレートを準備する工程；（ｂ）（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖〔鎖（Ｒ_ｆ）：鎖Ｒ_ｆの分子量は１０００を超え、３５００未満である〕および少なくとも２個の不飽和部分を含む少なくとも１種類の官能性ペルフルオロポリエーテル化合物（化合物（Ｅ））と、少なくとも１種類の光開始剤とを含むある体積量の硬化性ペルフルオロポリエーテル組成物（組成物（Ｃ））を、前記パターン付きテンプレート表面に接触させる工程；（ｃ）前記組成物（Ｃ）を紫外線に曝してパターン付きモールド表面を備えたモールドを形成させ、前記モールドを前記パターン付きテンプレートから分離する工程；（ｄ）前記パターン付きモールド表面を（プレ）ポリマー組成物（組成物（Ｐ））と接触させる工程；および（ｅ）前記組成物（Ｐ）を加工してパターン形成された表面を有する物品を形成させ、前記物品を前記モールドから分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】酸・酸塩型基を有するポリマーからなり、基材に塗布又は多孔質材料に含浸したのち架橋することにより機械特性に優れ水分量による寸法変化の小さい架橋体を製造することができる液状組成物を提供する。
【解決手段】液状媒体と、架橋性官能基を有する架橋性含フッ素ポリマーとからなる含フッ素ポリマー液（Ａ）からなる含フッ素ポリマー液状組成物であって、上記含フッ素ポリマー液（Ａ）は、酸・酸塩型基、若しくは、加水分解してカルボキシル基に変換する有機基を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＤ）からなる粒子が液状分散媒に分散している含フッ素ポリマー液状分散液（ＡＤ）、又は、酸・酸塩型基若しくは酸・酸塩型基の前駆体を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＳ）がフッ素系溶剤若しくはアルコール／水混合溶剤に溶解してなる含フッ素ポリマー溶液（ＡＳ）であることを特徴とする含フッ素ポリマー液状組成物である。 （もっと読む）

【課題】生体及び環境への影響が少ないポリフルオロアルキル基等を有する不飽和化合物から導かれる重合単位を有し、従来のポリフルオロアルキル基の炭素数が８以上の不飽和化合物から導かれる重合体を含む場合と同等の樹脂付着防止性能を示す電子部品用樹脂付着防止剤、電子部材および電子部品の提供。
【解決手段】少なくとも下記式（ａ）で表される化合物から導かれる重合単位（Ａ）を含有する重合体を、溶媒中に含む電子部品用樹脂付着防止剤。
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹）−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_n１−Ｒf¹ （ａ）
式（ａ）中、Ｒ¹：水素原子又はメチル基、ｎ^１：０〜６の整数、Ｒf¹：環式パーフルオロアルキル基、ただし、ｎ^１が０の場合は、ＣＯＯ基と直接結合する環員炭素原子に結合する水素原子は、フッ素原子で置換されていなくてもよく、Ｒf¹基中のフッ素原子の１つ以上は、炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基または炭素数１〜６のパーフルオロアルコキシ基で置換されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤に対する溶解性に優れ、重合後の液晶性及び透明性が良好であり、また耐熱性や配向制御に優れ、得られる光学異方体の薄膜化が可能な重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】重合性液晶組成物として、例えば下式で示される反応式で得られる重合性液晶化合物の一種以上及び、例えば、アクリロイル基を有する安息香酸エステルとアクリロイル基を有するフェノールとのエステル化反応により製造することができる重合性液晶化合物の一種以上を併用する。
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エチレン系不飽和加水分解性シラン、エチレン系不飽和ポリオキシアルキレン、エチレン系不飽和フッ素化ポリエーテル、及び反応開始剤を含む反応混合物から調製されるコポリマーを含むコーティング組成物が開示されている。コーティング組成物は、硬化性ゾルゲル分散体もまた含み得る。コーティング組成物を使用して、ハードコートを調製することができる。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】



（式中、Ｒ¹は重合性二重結合含有基、Ｒ²はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ³及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ¹は連結基を表す。） （もっと読む）

開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第１の重合ステップで重合させる工程であって、フッ素化イオノマーの分散した微粒子を提供する重合工程と、フッ素化イオノマーの分散した微粒子および開始剤の存在下に水性重合媒体中イオン性基を有する少なくとも１つのフッ素化モノマーを第２の重合ステップで重合させてフッ素化イオノマーの粒子の水性分散液を形成する工程と、第２重合ステップを始める前に第１の重合ステップを浮遊処理する工程とによるフッ素化イオノマー粒子の水性分散液の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ｐ１）を含むレジスト保護膜材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基である。Ｒ^2a及びＲ^2bは水素原子、又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ^2aとＲ^2bは互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成することもできる。Ｒ³は単結合、又は炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基である。Ｒ⁴は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−を含んでもよい。）
【効果】上記レジスト保護膜材料はヘキサフルオロアルコールの水酸基が保護された構造を含み、波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有する。 （もっと読む）

本発明は、フルオロイオノマー液体組成物のイオン性不純物からの精製方法に関する。この方法は、− 液体媒体中に少なくとも１種のフルオロイオノマー（Ｉ−１）を含む液体組成物であってイオン性不純物を含むものを準備する工程と、− 前記液体組成物を、イオン交換基（ここで、前記イオン交換基の少なくとも一部に、Ｈ^＋またはＯＨ⁻イオンが結合している）を有する少なくとも１種のフルオロイオノマー（Ｉ−２）を含む固体粒子状物質と接触させる工程と、− 前記液体組成物を前記固体粒子状物質から分離する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）主鎖にエーテル結合及びフッ素原子を有する樹脂、を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像性、疎密依存性、露光マージンに優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はアルキル基、アルケニル基又はオキソアルキル基、又はアリール基、アラルキル基又はアリールオキソアルキル基、あるいはＲ²、Ｒ³及びＲ⁴が式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。Ａはヘテロ原子を含んでいてもよい環状構造の二価の炭化水素基。ｎは０又は１。） （もっと読む）

【課題】良好な常態物性、特に伸び特性を維持しつつ、耐圧縮永久歪特性を改善せしめた架橋物を与え得る含フッ素エラストマーおよびその架橋性組成物を提供する。
【解決手段】その共重合組成が(a)フッ化ビニリデン 50〜85モル%、(b)パーフルオロ(メチルビニルエーテル)7〜20モル%、(c)一般式 CF₂=CFO〔CF₂CF(CF₃)O〕_nCF₃ 3〜15モル%(ここで、nは2〜6の整数である)で表わされるパーフルロビニルエーテルおよび(d)一般式 CF₂=CFO〔CF₂CF(CF₃)O〕_mCF₂CF₂Br 0.1〜2モル%(ここで、mは3〜5の整数である)で表わされる末端臭素化パーフルオロビニルエーテルである含フッ素エラストマーおよび該含フッ素エラストマーに有機過酸化物、多官能性不飽和化合物および受酸剤を添加してなる架橋性含フッ素エラストマー組成物。 （もっと読む）

【課題】実効感度と解像度改良に優れた新たな樹脂及び該樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂。［式（Ｉ）中、Ｕは、炭素数１〜２０の二価の炭化水素基を表す。該二価の炭化水素基中の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｃ−、−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−で置き換わっていてもよい。Ｘ^１は、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＮＲ^ｄ−ＣＯ−又は−ＣＯ−ＮＲ^ｄ−を表す。］
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