【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、露光により酸を発生する含フッ素高分子化合物（Ｃ’）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する樹脂成分であり、含フッ素高分子化合物（Ｃ’）が、露光により酸を発生する構成単位と、含フッ素アクリル酸エステル構成単位とを有する。 （もっと読む）

【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高酸素透過電解質及びその製造方法、並びに、このような高酸素透過電解質の原料として使用することが可能なスルホンイミドモノマを提供する。
【解決手段】（Ａ）式で表される構造を備えた高酸素透過電解質。但し、Ｐは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｐ'は脂環式構造、又は、脂環式構造及び鎖式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｑは、直接結合、又は、鎖式構造若しくは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。ａは、１以上の整数。ｎは、１以上の整数であり、繰り返し単位の中のｎは互いに異なっていても良い。Ｒ¹は、ＯＨ又はスルホンイミド基を介したパーフルオロカーボン基（−ＮＨＳＯ₂Ｒf¹）。
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【課題】金属塩および金属イオンを本質的に含有しない高純度ハロゲン化ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】１種または複数種のハロゲン化モノマーおよび少なくとも１種類の硬化部位モノマーの重合単位からなるポリマーを凝集固化する際に、金属イオンおよび金属塩を本質的に含まずに、凝集剤としてオニウム化合物を使用する製造方法。かかる材料は、高純度フルオロポリマーを適用する半導体分野において、有用である。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパの作製に有利に使用することができる光硬化性転写シートであって、その際に使用される微細凹凸パターンを有する金型との離型性、及び中間スタンパから凹凸パターンが転写される光硬化性樹脂との離型性が良好であり、且つ凹凸パターンの転写性に優れた光硬化性転写シートを提供する。更に、上記光硬化性転写シートを用いて微細な凹凸パターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能で、ポリマーと反応性希釈剤を含む光硬化性組成物からなる光硬化性転写層１１を有する光硬化性転写シート１０であって、前記ポリマーが、フッ素含有基を有する（メタ）アクリレート繰り返し単位を含むアクリル樹脂からなることを特徴とする光硬化性転写シート１０。更に、これを用いた凹凸パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される含フッ素単量体。
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【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、かつ、硬化したパターンの耐溶剤性が良好であるナノインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）フッ素原子とシリコン原子のうち少なくとも一方を有する重合性化合物および、（Ａ２）芳香族基を有する重合性化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】
感度に優れると共に、ＭＥＥＦを良好に維持することが可能な化学増幅型レジストであるフォトレジスト組成物の提供
【解決手段】
下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体（Ａ）および感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有するフォトレジスト組成物。
【化１】
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【課題】特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する部位を含む繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含み、繰り返し単位（Ａ）が炭素数７以上の芳香環を、少なくとも、該酸アニオン発生部位を有する側鎖上であって該酸アニオン発生部位以外に有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明はパーフルオロイオン交換樹脂を提供し、その構造式は式Ｍで示される。また、本発明はパーフルオロイオン交換樹脂の調製法を提供し、該方法はテトラフルオロエチレンモノマーおよび２種類のスルホニルフルオリド含有ビニルエーテルモノマーを開始剤の存在下において三元共重合に供することを含む。本発明によって提供されるパーフルオロイオン交換樹脂は、機械的強度およびイオン交換能の要件を同時に満たし、かつ優れた熱安定性を有し得る。
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【課題】レジスト用重合体を合成可能なアルカリ解離性基を有する重合性の化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｍ−１−２）で表される化合物。


［一般式（ｍ−１−２）中、Ｒ^９は一般式（１）で表される基等を示す。一般式（１）中、Ｒ^１０は相互に独立にハロゲン原子等、ｍ_１は０〜５の整数を示す。Ｘ^１は単結合、ジフルオロメチレン基又は炭素数２〜２０の全フッ素置換２価炭化水素基、Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜１０の２価炭化水素基等を示す。Ｒ^３１はＲ^２に示した基であり単結合を含まない。Ｒは水素原子、メチル基等を示す。］ （もっと読む）

【課題】初期の伝送損失および曲げ時の損失増加が抑制されかつ耐熱性や耐湿熱性が向上した、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体を材料とする屈折率分布型光ファイバを提供する。
【解決手段】同心円状の内外少なくとも２層構造を有する屈折率分布型光ファイバにおいて、内層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）を材料とする屈折率分布構造を有し、外層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体であってかつ内層の最外部の屈折率より低屈折率であり、かつ、式（１）で表される化合物を含むモノマーを重合して得られる含フッ素重合体（ｄ）のみ、または含フッ素重合体（ｄ）と他の材料との混合物である含フッ素重合体材料（ｃ）からなることを特徴とするプラスチック光ファイバ。
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−ＣＦ＝ＣＦ_２・・・（１） （もっと読む）

本発明は、スルホニルフルオリド官能基を含有する（ペル）フッ素化ポリマーを重合ラテックスから単離する方法に関する。この方法は、ポリマーのガラス転移温度以下の温度で、高剪断攪拌下、電解質水溶液に重合ラテックスを添加する工程を含んでなる。本発明は、さらに、この方法によって単離されたスルホニルフルオリド官能基を含有する（ペル）フッ素化ポリマーであって、熱重量分析によって決定した場合、２００℃で１％未満の重量損失を特徴とするポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】防汚性、硬度及び塗面の状態に優れた防汚性表面層を形成可能な防汚性表面層用硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる防汚性表面層を備えた光学フィルムを提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定のバインダー成分を含むバインダー系及び（Ｂ）特定の構造を有する反応性フッ素化合物を含み、当該（Ａ）成分を当該バインダー系の合計質量に対して６０質量％以上含み、且つ、当該（Ｂ）成分を防汚性表面層用硬化性樹脂組成物の全固形分の合計質量に対して０．００５〜３質量％含むことを特徴とする、防汚性表面層用硬化性樹脂組成物及び光透過性基材の一面側の最表面にその組成物の硬化物からなる硬化膜を有する光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位、酸不安定基含有繰り返し単位及びカーバメート構造含有繰り返し単位を共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布し第1レジスト膜を形成する工程、第1レジスト膜を露光後加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して酸に対して不活性化し、基板上の第1レジストパターン上にC3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して第2レジスト膜を形成する工程、第2レジスト膜を露光し、PEB後現像して第2レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】オゾン層を破壊する恐れがなく地球温暖化への影響が小さい凝集溶媒を使用して、溶液重合によって得られたカルボン酸型官能基を有する含フッ素共重合体を含有する溶液から、該含フッ素重合体を円滑に効率よく凝集分離する。また、該凝集溶媒は重合溶媒と分離が容易にする。さらに、不燃または燃えにくい凝集溶媒を使用することにより、製造時の取り扱いを容易とする。
【解決手段】溶液重合によって得られたカルボン酸型官能基を有する含フッ素重合体を含有する含フッ素重合体溶液に、凝集溶媒としてハイドロフルオロカーボンまたはハイドロフルオロエーテルを添加することにより、含フッ素重合体溶液から含フッ素重合体を円滑に効率よく凝集分離することができる。 （もっと読む）

【課題】酸素透過係数及び酸素／窒素選択透過性の両方に優れる重合体等を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される繰り返し単位を含有する重合体。［式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、芳香族炭化水素基、芳香族ヘテロ環基、トリアルキルシリル基又はトリアルキルゲルミル基を表し、Ｒ^２は、下記式（２）で表され、ｍは１以上５以下の整数であり、Ｒ^２が複数ある場合、Ｒ^２は互いに同じでも異なっていてもよい。］


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【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】極性変換基を少なくとも２つ以上有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位（ａ）を含有し、かつ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）