【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの上に保護膜を用いて保護膜と投影レンズの間に水を挿入する液浸リソグラフィー工程において、（１）保護膜層とフォトレジスト膜層とのインターミキシングを防止し、及び、（２）現像後のレジスト表面をより親水性化させることによって欠陥の発生を防止する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、無色透明性に優れ、かつ異物の極めて少なく、揮発成分の含有量が抑制された熱安定性に優れる熱可塑性共重合体を製造する。
【解決手段】（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位および（ｉｉ）不飽和カルボン酸単位を含むカルボキシル基含有アクリル共重合体（Ａ）を製造する際に、完全混合型重合槽に、原料混合物を連続的に供給し、共重合体溶液（ａ）を製造する工程と、前工程で得られた共重合体溶液（ａ）をポンプにより連続的に抜き出し、管状反応器に加圧しながら送液する工程と、管状反応器において、ラジカル重合開始剤を添加混合して重合させながら反応液を通過させ、管状反応器出口におけるカルボキシル基含有アクリル共重合体（Ａ）の含有率が５０〜９０重量％となるように重合を行う工程を有する。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、式中、置換基としてフッ素原子および／またはフッ素化アルキル基を有する炭素数４〜１２の脂肪族環式基で表される構成単位からなるアクリル酸エステル系樹脂成分（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高度な耐熱性、無色透明性および剛性を有し、従来比、耐湿熱性に優れたグルタル酸無水物単位を含有する熱可塑性重合体、および前記熱可塑性重合体に誘導可能で、かつ高温下での溶融滞留安定性に優れた原共重合体を提供することを課題とする。また、原共重合体および前記熱可塑性重合体の製造方法として、製造時の生産性に従来より大きく優れる製造方法を提供する。
【解決手段】１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルにおいて所定の２つの化学シフトの領域におけるピークの高さの比が特定の値以下であることを特徴とする熱可塑性重合体、および所定の２つの化学シフトの領域におけるピークの積分値の比が特定の値以上であることを特徴とする原共重合体。また、特定の有機溶媒中、特定の条件にて共重合を行って原共重合体を製造する製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の水素原子、又は炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基で、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ³⁰は水素原子又はメチル基である。）
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を用いたパターン形成方法によれば、レジスト膜上に形成されるレジスト保護膜が、非水溶性でアルカリ水溶液（アルカリ現像液）に溶解可能であり、しかもレジスト膜とミキシングしないものであるので、良好な液浸リソグラフィーを行うことができ、またアルカリ現像時にレジスト膜の現像と保護膜の除去とを同時に一括して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】耐光性、耐熱性及び実装信頼性の点で優れた光学部材を形成することが可能な、アクリル系重合体を含む硬化性の樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ）エポキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）重合性不飽和結合を１個有する非シリコーン系の重合性単量体、（ｃ）シロキサン構造含有（メタ）アクリレート及び（ｄ）水酸基含有（メタ）アクリレートを含む単量体が共重合した共重合体中のエポキシ基の少なくとも一部に対して不飽和カルボン酸を反応させて得られるアクリル系重合体と、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する重合性単量体と、（Ｃ）ラジカル重合開始剤と、を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】環境に与える影響が小さく、高い撥水性を有する保護膜を用いて、ホトレジスト膜とのミキシングが生じにくく高解像のホトレジストパターンを形成可能なホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】液浸露光プロセスを用いたホトレジストパターンの形成方法であって、（１）基板上にホトレジスト膜を設ける工程と、（２）このホトレジスト膜上に、保護膜形成用材料を用いて保護膜を形成する工程と、（３）前記基板の少なくとも前記保護膜上に液浸露光用液体を配置し、この液浸露光用液体及び前記保護膜を介して、前記ホトレジスト膜を選択的に露光する工程と、（４）極性有機溶剤を含有する保護膜洗浄除去液を用いて前記保護膜を除去する工程と、（５）アルカリ現像液を用いて前記ホトレジスト膜を現像処理する工程と、を有するホトレジストパターン形成方法、及びこのホトレジストパターン形成方法に用いる保護膜形成用材料並びに保護膜洗浄除去液。 （もっと読む）

【課題】ポリアクリル酸エステルの重合度を測定する方法等を提供する。
【解決手段】多官能アクリル酸エステルを重合させてなるポリアクリル酸エステル（Ａ）に、流通式の反応系で、前記ポリアクリル酸エステル（Ａ）の主鎖が切断されない温度で、超臨界または亜臨界状態の一般式（２）で表される低級アルコールを反応させて、一般式（３）で表されるポリアクリル酸エステルを得る工程と、一般式（３）で表されるポリアクリル酸エステルの重合度を測定して該重合度から前記ポリアクリル酸エステル（Ａ）の重合度を測定する工程を含む、ポリアクリル酸エステルの重合度の測定方法。
一般式（２）
Ｒ³ＯＨ
（一般式（２）中、Ｒ³は置換もしくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基である。）


（一般式（３）中、Ｒ¹は水素原子または置換もしくは無置換のメチル基であり、Ｒ³は置換もしくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基である。ｎは重合度を示す。） （もっと読む）

【課題】従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示されるヒドロキシビニルナフタレンの繰り返し単位を有する高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化４７】
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式Ｉのいずれかの配列の繰返し単位を有するコポリマーを含む組成物であり、
【化１】


式中、Ｒ_fは、少なくとも１個の酸素原子によって任意選択で中断されている約１個〜約２０個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のパーフルオロアルキル基、またはそれらの混合物であり、Ｘ₃は酸素またはＸ₁であり、Ｘ₁はそれぞれ独立して、酸素、窒素、もしくは硫黄、またはそれらの組合せを任意選択で含む、約１個〜約２０個の炭素原子を有する２価の有機連結基であり、ＧはＦまたはＣＦ₃であり、Ａはアミドであり、ｊは０または正の整数であり、Ｘ₂は有機連結基であり、ＹはＯ、Ｎ、またはＳであり、ＹがＮである場合、ｈは０であり、ＹがＯまたはＳである場合、ｈは１であり、ＺはＨ、約１個〜約４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基、またはハロゲン化物であり、ＢはＨまたは
【化２】


であり、ここでＲ_f、Ｘ₁、Ｘ₃、Ｇ、Ａ、およびｊは上記に定義する通りであり、ただしＢがＨである場合、ｊは正の整数であることを条件とし、ｍは正の整数であり、ＹがＯである場合、ｑは０または正の整数であり、ＹがＮまたはＳである場合、ｑは正の整数であり、ＹがＯである場合、ｐは０または正の整数であり、ＹがＮまたはＳである場合、ｐは正の整数であり、Ｗはそれぞれ独立して、様々なコポリマー単位である。
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【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の分散液をフィルター４２でろ過して重合体湿粉を製造する工程を有し、フィルター４２として、フィルター浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）とフィルター浸漬前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる重合体の製造方法。ただし、フィルター浸漬前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、フィルター浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）は、フィルターの面積１ｍ² あたり２０Ｌの純水にフィルターを浸漬し、浸漬開始から１５分後にフィルターを浸漬した状態で測定した水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

所望の表面活性効果を有するジヒドロキシフェニル誘導体（ＤＨＰＤ）、またはＤＨＰｐ、すなわちＤＨＰＤで改変されたポリマーを含むポリマー化合物を得るための合成方法を説明する。ＤＨＰｐのポリマー骨格は、ＤＨＰｐの物理的特性を制御するように調節して様々な用途、すなわち組織接着剤または封止剤、付着促進コーティング物および防汚コーティング剤のために有用にすることができる構造または性能の特徴を有する。一態様では、本発明は、１）ＤＨＰｐの約１〜約１００重量％、好ましくはＤＨＰｐ約１〜７５重量％を占める、濃度、分布または数が可変のＤＨＰＤ部分、２）１，０００〜５，０００，０００Ｄａの総分子量、および３）可変の物理的特性を有するｐＢを有するＤＨＰＤ改変ポリマー（ＤＨＰｐ）を形成させるための、ほぼ懸垂型のジヒドロキシフェニル誘導体（ＤＨＰＤ）を結合したポリマー骨格（ｐＢ）を含むポリマーまたはコポリマーである。
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【課題】本発明の課題は塗布性に優れ、耐汚染性、耐接着性、および画像保存性に優れる熱現像感光材料を提供することにある。本発明の第２の目的は、該熱現像感光材料に用いられる含フッ素ポリマーラテックスの製造方法を提供することである。
【解決手段】支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、熱現像剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、前記支持体の前記画像形成層を有する面側の最外層に乳化重合で調製された含フッ素ポリマーラテックスを含有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、下記式（１）
【化１】


（上記式（１）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ^２は置換基を有していてもよい炭素数１から２０の炭化水素基を示す。）で表される重合単位を少なくとも含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂を提供する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は分子中に環状酸無水物骨格を有する重合単位を少なくとも含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂を提供する。また、環状酸無水物骨格を有する重合単位が例えば、下記式（１Ａ）及び（１Ｂ）
【化１】



（上記式（１Ａ）及び（１Ｂ）において、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｎは０から３の整数を示す。）
のいずれかで表される重合単位などを含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成した時でも、矩形の良好なレジストパターンをより確実に得ることのできるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示されるアミノ基、スルホンアミド基のうち１つ以上を有する繰り返し単位を含む高分子化合物を含有するものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化４９】
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【課題】プラスチックに添加することで、プラスチック成形品の表面部分のみを親水化させ、タンパク吸着性抑制等の生体適合性を改良することができ、更には、プラスチック成形品からの溶出が抑制された表面偏析型プラスチック用添加剤、該添加剤を用いた成形用プラスチック組成物及びプラスチック成形品を提供すること。
【解決手段】本発明の表面偏析型プラスチック用添加剤は、特定のホスホリルコリン類似基含有単量体１０〜６０ｍｏｌ％と、特定の含フッ素単量体０．５〜１０ｍｏｌ％と、非含フッ素疎水性単量体１０〜７０ｍｏｌ％とを含む重合性単量体組成物を重合した、重量平均分子量が１００００〜１００００００のホスホリルコリン類似基含有含フッ素重合体を含み、本発明の成形用プラスチック組成物は、プラスチック用樹脂原料及び上記添加剤を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、フォトマスクが不要であり、パターンの精密度を高めることのできるパターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、フォトマスクの代わりにモールド板１３０を使用してレジスト層１２０の微細パターンを形成するインプレーンプリンティング工程方法であること、及びレジスト層１２０を形成するレジンの組成物が、液体状の高分子前駆体と、親水性基のアクリレートと、粘度調節剤と、光開始剤と、添加剤とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

フッ素化エーテルカルボン酸または酸誘導体、フッ素化界面活性剤を含む水性組成物、フルオロポリマー分散体の調製法、及び層状物品の製造法。 （もっと読む）