【課題】感放射線性樹脂組成物における液中異物発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、及び各種放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本樹脂の評価方法は、フッ素含有重合体を含む樹脂のレジスト溶剤溶液の動的光散乱を測定し、この溶液の一定濃度領域における拡散係数差（ΔＤ）により、樹脂を感放射線性樹脂組成物材料として用いた場合における液中異物発生度合を評価する。本感放射線性樹脂組成物は、フッ素含有重合体を含む樹脂と、レジスト溶剤と、感放射線性酸発生剤とを含有しており、前記樹脂は、濃度２質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ａ）と、濃度８質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ｂ）との拡散係数差［ΔＤ（Ｄ_ｂ−Ｄ_ａ）］が、−２．０×１０^−７ｃｍ^２・ｓ^−１以上である。 （もっと読む）

【課題】転写方式により撥水撥油性等の特性を容易に被転写体に付与でき、且つ微細で複雑な形状を有する被転写体に対しても転写可能な転写フィルムを提供する。
【解決手段】基材表面に、フルオロシルセスキオキサン（ａ）またはフルオロシルセスキオキサン（ａ）に由来する構成単位を有するフッ素系重合体（ｂ）を含む樹脂組成物を含む転写層を形成してなる転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】無機微粒子を含有し、非常に優れた耐傷つき性、防塵性、防汚性を有する耐久性に優れたハードコート層が形成可能な活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、および当該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物から形成されたハードコート層を有する積層体の提供。
【解決手段】分子内に活性エネルギー線硬化性不飽和結合を有する化合物、１つ以上のフルオロアルキル鎖と、３つ以上のラジカル重合性二重結合とをもつビニル共重合体である防汚剤、特定の化合物、および無機微粒子を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な撥油性および視認性を有するとともに、基材との密着性に優れた撥油膜を形成できる撥油性共重合体を提供する。
【解決手段】ポリフルオロアルキル基を有する繰り返し単位（Ａ）の４０〜９３質量％と、クマリン系蛍光発光性官能基を有する繰り返し単位（Ｂ）の７〜６０質量％を有することを特徴とする撥油性共重合体。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてアミノ基を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明は、パターンの矩形性とマスク忠実性の優れるレジスト材料を提供することができる。また、本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することによって、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することによってパターン形状の劣化を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】
耐熱性、無色透明性、成形加工特性に優れ、さらに過酷な条件下での長期使用時の寸法安定性に優れた熱可塑性共重合体組成物、ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】
不飽和カルボン酸アルキルエステル単位（ｉｉ）および不飽和カルボン酸単位（ｉｉｉ）を含む共重合体（Ａ）を製造する工程（第一工程）と、続いて、酸解離指数が３以上７以下の酸Ｙからなる塩を含有させて該共重合体（Ａ）を加熱処理し、脱水および／または脱アルコール反応による分子内環化反応を行う工程（第二工程）により、一般式（１）で表されるグルタル酸無水物単位（ｉ）および不飽和カルボン酸アルキルエステル単位（ｉｉ）を含む熱可塑性共重合体（Ｂ）を製造し、さらに該第二工程の後に、酸Ｙよりも酸解離指数が１．０以上小さい酸Ｘを添加する工程（第三工程）を行うことを特徴とする熱可塑性共重合体組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ耐ドライエッチング性が改善されており、Ｆ₂レーザー用の化学増幅型フォトレジスト用の材料を提供する。
【解決手段】式（１３）：
−（Ｍ１）−（Ｍ２）−（Ｎ）− （１３）
（式中、Ｍ１は、含フッ素アルコール構造を有するノルボルネン誘導体に由来する構造単位；Ｍ２は炭素数２または３のエチレン性単量体であって、フッ素原子を少なくとも１つ含有する含フッ素単量体から得られる構造単位；Ｎは構造単位Ｍ１、Ｍ２と共重合可能な単量体に由来する構造単位）で表わされるポリマー主鎖中に環構造を有する重合体であって、構造単位Ｍ１を１〜９９モル％、構造単位Ｍ２を１〜９９モル％、構造単位Ｎを０〜９８モル％含む数平均分子量が５００〜１００００００の含フッ素重合体。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性、無色透明性、成形加工特性に優れ、さらに過酷な条件下での長期使用時の寸法安定性に優れた熱可塑性共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】
不飽和カルボン酸アルキルエステル単位（ｉ）および不飽和カルボン酸単位（ｉｉ）を含む共重合体（Ａ）を製造する工程（第一工程）と、続いて、塩を含有させて該共重合体（Ａ）を加熱処理し、脱水および／または脱アルコール反応による分子内環化反応を行う工程（第二工程）により、グルタル酸無水物単位（ｉｉｉ）および不飽和カルボン酸アルキルエステル単位（ｉ）を含む熱可塑性共重合体（Ｂ）を製造するに際し、該塩の含有重量が、該共重合体（Ａ）の重量に対して０．０１％以上０．１５％以下であることを特徴とする熱可塑性共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電極／セパレータ間に十分な接着性を有すると共に、電解液による膨潤性にすぐれ、内部抵抗が低く、高レート特性にすぐれた電池を製造するために好適に用いることができるセパレータのための架橋性ポリマーを担持させた多孔質フィルムを提供することを目的とし、更に、そのような架橋性ポリマー担持多孔質フィルムを用いる電池の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、複数のカチオン重合性官能基を有すると共に、側鎖に一般式（Ｉ）
【化１】


(式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｎは４〜９の整数を示す。)
で表されるオキシアルキレン基を有する架橋性ポリマーを多孔質フィルムに担持させてなる電池用セパレータのための架橋性ポリマー担持多孔質フィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性、無色透明性、成形加工特性に優れ、さらに過酷な条件下での寸法安定性に優れた熱可塑性共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】
不飽和カルボン酸アルキルエステル単位（ｉｉ）および不飽和カルボン酸単位（ｉｉｉ）を含む共重合体（Ａ）を製造する工程（第一工程）と、続いて、酸解離指数が４．３以上７．０以下の一価の有機酸リチウム塩を含有させて該共重合体（Ａ）を加熱処理し、脱水および／または脱アルコール反応による分子内環化反応を行う工程（第二工程）により、グルタル酸無水物単位（ｉ）を含む熱可塑性共重合体（Ｂ）を製造し、さらに該第二工程の後に、該有機酸リチウム塩のモル数に対して４５〜５５％のモル数のシュウ酸を添加し、その後沈殿物を除去する工程（第三工程）を行うことを特徴とする熱可塑性共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）ベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性化合物を含有するレジスト膜が成膜されたフォトマスクブランクであって、レジスト膜が、更に、（Ｄ）水酸基を有するフッ素置換炭化水素基であって、水酸基が結合する炭素原子に結合する隣接炭素原子に、該隣接炭素原子全体で２以上のフッ素原子が結合した第１のフッ素置換炭化水素基を有する側鎖を備える第１の繰り返し単位を含む高分子化合物を含有するフォトマスクブランク。
【効果】（Ｄ）成分の高分子化合物が添加されたレジスト膜により、レジストパターン形成時、現像プロセスにおいてレジスト膜全体に均一な現像が行なわれることで、現像後、線幅の面内均一性の高いレジストパターンを形成することができ、特に（Ｄ）成分の高分子化合物が添加されたレジスト膜を設けたフォトマスクブランクから、このレジスト膜のレジストパターンを用いて、面内精度の高いフォトマスクを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、原子移動ラジカル重合において、末端ハロゲン基を高率で残存させ、触媒の沈降や触媒量の変化による重合速度の調整が困難である等の問題を解決し、容易で安全な重合の開始方法を提供し、重合速度の制御方法を提供し、重合方法の改善法を示す。
【解決手段】 ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を、以下の（１）、（２）、（３）及び（４）からなる群から選択される少なくとも一つの条件下において行なうことを特徴とする重合方法である。（１）実質的に脱水条件下、（２）ニトリル化合物存在下、（３）重合触媒の配位子を系中に添加して重合を開始する、（４）重合中に重合触媒の活性を変化させて重合速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大しかつ特定の化学式で表される構成単位（ｃ０）を有さない基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記構成単位（ｃ０）および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｃ１）を有する含フッ素高分子化合物（Ｃ）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶液状態で安定性に優れ、支持基板上に良好な塗工性を示し、そして均一なホメオトロピック配向性を有する重合性液晶組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】アクリレート系化合物、エポキシ系化合物およびビスフェノールフルオレン系化合物を成分とする重合性液晶組成物により、上記の課題を達成することができる。これらの成分のうちビスフェノールフルオレン系化合物は、重合性液晶化合物の均一なホメオトロピック配向の制御に有効である。 （もっと読む）

【課題】アクリル酸エステル単量体に基づく構造単位とノルボルネン系単量体に基づく構造単位からなるアクリル系共重合体を、ラジカル重合開始剤を使用して該開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で製造できる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル単量体(A)と、ノルボルネン系単量体(B)とを、
ルイス酸(C)とニッケル化合物(D)の存在下において、アゾビス系ラジカル重合開始剤を用いて、重合開始温度及び重合発熱によるピーク温度が、該ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で共重合させるアクリル系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。
【化５３】
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【課題】面内レタデーションが厳密に制御された、光弾性係数が小さい光学フィルムを製造できる光学材料用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
光弾性係数が正でかつ固有複屈折が負の単量体に由来する単位（ａ）５質量％以上８５質量％未満と、
光弾性係数が負でかつ固有複屈折が負の単量体に由来する単位（ｂ）５質量％以上８５質量％未満と、
５又は６員環構造を有する単位（ｃ）１０質量％を超えて５０質量％以下、
を含む共重合体（１）を含む光学材料用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）

【課題】加熱時に分解し難く、且つアルカリ水溶液に優れた親和性、溶解性を有するアルカリ可溶性化合物を提供する。
【解決手段】水酸基を有する化合物と、下記式（１）で表される酸無水物とを反応させて得られる、アルカリ可溶性ハーフエステル化合物。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^４は、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良い。Ｚは、窒素原子、又は置換基Ｒが結合した炭素原子であり、置換基Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良い。また、前記Ｒ^１〜Ｒ^４及び置換基Ｒのいずれかが、互いに結合を介して環状構造を形成していても良い。） （もっと読む）