【課題】硬質ポリウレタンフォーム用ポリオールとの相溶性が高く、貯蔵安定性に優れると共に、硬質ポリウレタンフォームとした際に優れた寸法安定性と良好な断熱性能が得られるポリマー分散ポリオールの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオール（Ｘ）中で重合性不飽和基を有するモノマーを重合させることにより、ポリマー微粒子がポリオール中に分散した硬質ポリウレタンフォーム用のポリマー分散ポリオールを製造する方法において、ポリオール（Ｘ）は、オキシエチレン基含有量が１５質量％以上であるポリエーテルポリオール（Ｙ）を含み、かつ重合性不飽和基を有するモノマーは、含フッ素アクリレートまたは含フッ素メタクリレートを含む。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｃ０−０）［式中、Ｒ^６は水素原子又は１価の炭化水素基であり、ｑは０〜２の整数であり、ｇは１〜４の整数である。］で表される基を側鎖に含み、アルカリ現像液に対して分解性を示す含フッ素高分子化合物（Ｃ）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）（ただし、前記含フッ素高分子化合物（Ｃ）に該当するものを除く。）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
［化１］
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制御されたラジカル重合を実施する方法であり、この方法は、（ａ）少なくとも１種のモノマー；少なくとも１種のモノマー溶媒；金属に配位することができる少なくとも１種の化合物；および少なくとも１種の開始剤；の混合物を提供するステップ、（ｂ）前記混合物をある流量で、前記容器に対して外部にある容器内に含まれた固体触媒表面上に誘導するステップであって、前記触媒は少なくとも２つの酸化状態をとることができる金属または金属化合物を含み、（ｃ）前記反応容器の温度をモニターするステップ、（ｄ）前記温度が選択された温度範囲外である場合、前記流量を調節するステップ、および（ｅ）所望の転化率レベルに前記重合を進行させるステップを含む。
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。
［化１］


［式中、Ｒ^００は脂肪族環式基であり；Ｒ^０１は２価の連結基又は単結合であり；Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］ （もっと読む）

【課題】有機半導体デバイスの材料とするための、酸化されにくく、材料の劣化に問題がなく、また塗膜の均一性に問題のないアルキル基を有するペンタセン化合物を提供する。
【解決手段】下記に示すジイン構造化合物。
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【課題】溶融流延可能であり、かつレターデーションの小さい、馬の背故障や巻芯転写と呼ばれる故障、及びフィルム巻始め時のシワ発生しやすい問題がなく、鮮明な動画像が得られるセルロースエステル系の光学フィルム並びに偏光板及び表示装置の提供。
【解決手段】セルロースエステルと下記ポリマー(I)を含む組成物を溶融流延製膜してウェブを形成し、該ウェブを少なくとも１方向に1.1倍以上5.0倍以下で延伸処理することを特徴とする光学フィルムの製造方法。ポリマー(I)：一般式(1)で表される部分構造を有するエチレン性不飽和モノマーと、置換基を有していてもよい芳香族基、置換基を有していてもよい複素環基、または置換基を有していてもよいシクロアルキル基を含有するエチレン性不飽和モノマーの少なくとも１種とを共重合させて得られるポリマー。
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【解決手段】（１）〜（３）の単位を含有する高分子。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、ＲｆはＨ、Ｆ、ＣＦ₃又はＣ₂Ｆ₅、Ａは二価の有機基。Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は酸素を含有してもよい有機基、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が相互に結合して式中の硫黄原子と環を形成しうる。Ｎは０〜２の整数を示す。Ｒ⁸はＨ又はアルキル基、Ｂは単結合または二価の有機基。ａは０〜３、ｂは１〜３、Ｘは酸不安定基。）
【効果】感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用。 （もっと読む）

【課題】防汚薬剤成分を含有しない場合においても、長期に亘って塗膜強度を保ったまま海水中で防汚効果を発現することができ、密着性とリコート性に優れる防汚塗料となる塗料組成物を提供すること。
【解決手段】 フッ素含有単量体（ａ）とその他の単量体（ｂ）を共重合してなり、かつ２価の金属原子を含有している金属含有共重合体および該金属含有共重合体をビヒクルとして含有する塗料組成物。その他の単量体（ｂ）が２価の金属含有単量体を含む金属含有共重合体。フッ素含有単量体（ａ）を１〜５０質量％、かつ金属含有量が全単量体に対し１〜２５質量％である金属含有共重合体。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ型現像によるパターニングに於いて、パターン倒れ性能が良好で、かつトレンチパターン解像性の良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】多官能含フッ素化合物及び該化合物の製造方法、該化合物からなる架橋剤、該化合物を含む硬化性組成物及び該組成物を硬化させた硬化物を提供する
【解決手段】
一般式（１）
−Ｓ−ＣＸ₂ＣＨＦ−Ｚ−Ｏ−Ｒｆ （１）
［式中、Ｘは同一又は異なってＨ又はＦであり、Ｚは−ＣＦ_２−又は単結合であり、Ｒｆは少なくとも１つの式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｒ^ｂで表される基を有する炭素数１〜４０の含フッ素アルキル基、又は少なくとも１つの式：−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｒ^ｂで表される基を有する炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基であり、Ｒ^ｂは少なくとも１つの加水分解性金属アルコキシドを有する有機基である。］
で表される基を２以上有する化合物 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】光拡散性および集光性等の光学特性、滑り性等の摩擦特性などの向上を図ることができる、高アスペクト比を有する楕円状または針状ポリマー粒子を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸を有する楕円状または針状ポリマー粒子であって、粒子の長軸方向と直交する方向から光を照射して得られる投影二次元図の長径（Ｌ₁）と短径（Ｄ₁）とから算出されるアスペクト比（Ｐ₁）＝長径（Ｌ₁）／短径（Ｄ₁）が（Ｐ₁）≧１．８を満たす楕円状または針状ポリマー粒子。 （もっと読む）

【課題】造影感度が高く、サイズを厳密に制御したＦ−ＭＲＩ用造影剤、デンドリマー粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】脂肪族系の高規則性分岐ポリマー（デンドリマー）の複数の分岐末端に、フッ素原子を含有するユニットを有することを特徴とするデンドリマー粒子とする。また、原子移動ラジカル重合法などを用いて、デンドリマー粒子を製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、薄膜に加工することが可能な低当量重量のフッ素化アイオノマーを提供することである。
【解決手段】本発明は（１）低い当量重量（９５０未満、好ましくは６２５〜８５０、そして最も好ましくは６７５〜８００）および（２）高い伝導度（０．１３Ｓ／ｃｍよりも大きい）を有するようなアイオノマーおよび該アイオノマーを作製するための方法である。別の態様では、本発明は（１）低い当量重量（９５０未満、好ましくは６２５〜８５０、そして最も好ましくは６７５〜８００）および（２）許容できる低さの水和（約１２０重量％未満）を有するアイオノマーである。これらのアイオノマーは、薄膜に加工することが可能であり、そして低湿度または高温の燃料電池用途に非常に良く適する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および色調に優れた成形加工特性を有する熱可塑性共重合体を、触媒の添加なしに、工業的に有利に製造する。
【解決手段】（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位および（ｉｉ）不飽和カルボン酸単位を含む共重合体（Ａ）を製造し、続いて、該共重合体（Ａ）を加熱処理し、（イ）脱水および／または（ロ）脱アルコール反応による分子内環化反応を行うことにより、（ｉｉｉ）グルタル酸無水物単位および（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位を含む熱可塑性共重合体（Ｂ）を製造するに際し、
脱揮工程で得られた共重合体（Ａ）を連続的に筒状の容器と複数のメガネ形状の攪拌素子を回転軸に取り付けた撹拌装置を有する横型環化装置に供給し、筒型容器内の気相部体積を筒型容器の体積の５０〜９０体積％に保ちながら、環化装置内で加熱処理・分子内環化反応をし熱可塑性共重合体（Ｂ）を得る。 （もっと読む）

【課題】熱安定性、透明性に優れた熱可塑性共重合体を、工業的に有利に製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】グルタル酸無水物単位および（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位を含む熱可塑性共重合体を製造する際に、脱揮工程における未反応単量体混合物、もしくは未反応単量体と有機溶媒の混合物を脱揮する際に、７６０〜１０００Ｔｏｒｒの前脱揮工程、２００Ｔｏｒｒ未満の減圧下の後脱揮工程に分けて実施する。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で表される水酸基を有する単量体。


（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に炭素数１〜１５の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基、又は、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。）
【効果】本発明の水酸基を有する単量体は、機能性材料の原料等として有用であり、特に波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、酸拡散制御効果に優れるため、解像性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用であり、また、本発明の高分子化合物は感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用である。 （もっと読む）

【課題】低屈折率のレンズ層を含み、高い正面輝度を有するレンズシートを提供する。
【解決手段】レンズシート１７は、ベースフィルム２１と、ベースフィルム２１の表面２１１上に形成されるレンチキュラレンズ層２２と、ベールフィルム２１の表面２１２上に形成されるプリズム層２３と、プリズム層２３の表面に充填される充填層２４とを備える。プリズム層２３は電離放射線硬化樹脂を硬化して形成され、その屈折率は、ベースフィルム２１及び充填層２４よりも低い。電離放射線硬化樹脂は、下記一般式（Ｉ）で表される単官能（メタ）アクリルモノマーと、エチレングリコール基、プロピレングリコール基及びメチレングリコール基からなる群から選択された１種又は２種以上を含む多官能（メタ）アクリルモノマーとを含有する。


ここで、ＲはＣＨ_３又はＨであり、ｍ及びｎは正の整数である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上とラインエッジラフネスの低減を両立したポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定ののスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
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