本発明は、式（Ｉ）の両親媒性モノマーを少なくとも７５％含む両親媒性ポリマー（ポリマーの平均モル質量は８００と１００，０００の間である）に関し、本発明のポリマーと、疎水性又は両親媒性化合物、特に膜タンパク質との間の水溶性複合体、１つ以上のこのような複合体の濃縮水溶液、本発明のポリマーにより基材に結合されたこのような複合体を１つ以上含む製品、及びこれら製品の各種使用にも関する。 （もっと読む）

第一光学部材と、第二光学部材と、第一光学部材と第二光学部材との間に配置される帯電防止層と、を有する光学デバイスであり、ここで、帯電防止層は、アニオンを有する少なくとも一種の重合性オニウム塩と少なくとも一種の非オニウム重合性モノマー、オリゴマー又はポリマーとを含む混合物の反応生成物を含有する、光学デバイス。
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【課題】装用した時に汚れ付着性が少なく、酸素透過係数が高く、角膜へのレンズの固着が無く、長期装用性に優れたコンタクトレンズを提供すること。
【解決手段】レンズ表面の接触角が水中気泡法で１０〜５０°かつ空気中での液滴法で３０〜９０°の範囲にあり、酸素透過係数が３０以上で含水率が５％以上である含水ソフトコンタクトレンズ。 （もっと読む）

【課題】本発明は、新規な含フッ素非線状ポリマーを提供することを課題とする。
【解決手段】
式（Ｉ）


［式中
Ｒｆは、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、またはパーフルオロポリエーテル基を表し、
ｎは、１〜１８の整数を表し、および
ｍは、０〜１０の整数を表す。］
で表される繰り返し単位を有する
ことを特徴とする含フッ素非線状ポリマー （もっと読む）

【課題】
本発明は、刺激応答性および汚染防止性を有する新規の星形ポリマーを提供することを課題とする。
【解決手段】
核部と、当該核部に連結している３本以上の枝部とを有する星形ポリマーであって、
前記核部は、ジアルケニル化合物の架橋ポリマーからなり、
前記枝部は、式（Ｉ_f）
−（ＣＨ（−Ｘ−Ｒ^1f）−ＣＨ（−Ｒ²））_p−Ｒ （Ｉ_f）
［式中、
Ｒ^1fは、フッ素化されている１価の有機基を有し、
Ｒ²は、水素原子またはアルキル基を表し、
Ｒは、１価の有機基を表し、
Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、または−Ｎ（−ＣＨ₃）−を表し、
ｐは、１以上の整数を表す。］
で表され、１，０００〜１００万の数平均分子量を有する１価の有機基である
ことを特徴とする星形ポリマー。 （もっと読む）

【課題】低粘度で低揮発性の新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）、下記一般式（２）、下記一般式（３）、下記一般式（４）、または下記一般式（５）で表される、分子量３１０以上の化合物。
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【課題】アブレーション速度に優れ、薄膜でありかつ容易に剥離できるレジスト被膜を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板の上にレジスト被膜を形成する工程と、前記レジスト被膜にレーザー光線を照射してレーザーアブレーションにより前記レジスト被膜の所定部分を除去する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト被膜を、アルカリ可溶性基がアルキルビニルエーテルを用いてブロックされているモノマー単位を有するビニル系重合体（Ａ）、及び、ニグロシン（Ｂ）を含有するレジスト組成物から形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される２価の基を含む化合物。［Ｑ^１〜Ｑ^４は、−ＣＲ^１＝又は−Ｎ＝を表す。Ｔ^１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＮＲ^２−を表す。Ｙ^１は、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環等を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｇ^１及びＧ^２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基等で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。］
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【課題】導電性の仮固定用接着剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、（Ｃ）導電性物質、（Ｄ）重合開始剤及び（Ｅ）重合促進剤を含有してなる組成物を第一剤と第二剤の二剤に分け、（Ｄ）重合開始剤を少なくとも第一剤に含有してなり、（Ｅ）重合促進剤を少なくとも第二剤に含有することを特徴とする、二剤型の組成物。（Ｆ）重合禁止剤や（Ｇ）（Ａ）及び（Ｂ）に溶解しない粒状物質を含有してもよい。仮固定用接着剤組成物として使用してもよい。二剤型の組成物を用いて、部材を接着仮固定し、該仮固定された部材を加工後、少なくとも前記組成物の硬化体を９０℃以下の温水に浸漬して加工された部材を取り外すことを特徴とする部材の仮固定方法・表面保護方法。 （もっと読む）

【課題】速硬化性と貯蔵安定性を両立し、耐候性及び耐熱性に優れる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子末端に異なる架橋性シリル基を有するビニル系重合体を含む硬化性組成物であって、前記ビニル系重合体の一方の分子末端がジアルコキシシリル基であり、かつ、他方の分子末端がトリアルコキシシリル基である硬化性組成物。前記分子末端に異なる架橋性シリル基を有するビニル系重合体は、リビングラジカル重合法により製造されたものであり、ニトロキサイドラジカルを用いる方法が好ましい。 （もっと読む）

【課題】低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性を有する硬化性環状ホスファゼン系化合物およびこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】６つの置換位置を持っている環状ホスファゼン物質に２〜６つの硬化性反応基を導入し、残りの位置に様々な構造の置換基を導入する方法で硬化度や分子の分極化および自由体積などを調節することにより、低い誘電率および誘電損失係数と高い熱安定性および界面接着力を有する物質を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】透明性の高い高屈折率の硬化物を形成できる光硬化性材料、該材料を簡便に製造できる方法および透明性の高い高屈折率の物品を提供する。
【解決手段】（ｉ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ａ）の１種以上からなる重合性成分（Ａ）と、アクリル酸またはメタクリル酸（Ｂ）とを反応させ、前記化合物（Ｂ）に由来するカルボキシ基を末端に有する表面修飾剤（Ｃ）を得る工程と、（ii）無機微粒子（Ｄ）の表面を前記表面修飾剤（Ｃ）で修飾して、表面修飾無機微粒子（Ｅ）を得る工程と、（iii）前記表面修飾無機微粒子（Ｅ）と、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｆ）の１種以上からなる重合性成分（Ｆ）と、光重合開始剤（Ｇ）とを含む光硬化性材料を得る工程を有する製造方法で得られた光硬化性材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含むフルオロプラスチック（以下ＦＰ）またはラテックスを提供する。
【解決手段】窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含むＦＰまたはラテックス、ＦＰおよびフルオロエラストマーゴムを含む硬化可能な混合物、硬化された成形物品、ラテックス混合物、およびＦＰを調製する方法である。該方法は：（ａ）重合反応器の中に、少なくとも６０重量パーセントの、フッ素化モノマーを含む第１の重合性組成物を導入する工程（ｂ）前記反応器の中で前記組成物を重合させる工程；（ｃ）少なくとも８０重量％の前記第１の重合性組成物の添加の後に、少なくとも７０重量パーセントの、窒素含有硬化部位モノマーを含む第２の重合性組成物を前記反応器の中に導入する工程；および（ｄ）前記窒素含有硬化部位モノマーを前記フッ素化モノマーと共重合させて、ＦＰの形成工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は溶解速度調整剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有していてもよい触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法に関する。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む質量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ¹は、重合性二重結合含有基を表し、
Ｒ²は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
Ｒ⁸は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
Ｗ¹は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 （もっと読む）

【課題】現像工程におけるパターン側壁の膨潤およびパターン倒れなどがない感放射線性樹脂組成物およびこの組成物に用いることができる（メタ）アクリル酸系重合体の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ液に対する溶解性を制御でき、エーテル基を含有する繰り返し単位を有する特定の構造を有する（メタ）アクリル酸系重合体。さらに任意に少なくともα位にフッ素原子又はフルオロメチル基を有するアルコール性水酸基をその側鎖に有する繰り返し単位及び／又はラクトン環をその側鎖に有する繰り返し単位を含む前記重合体。さらに該重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】圧縮した場合の回復性、耐熱性、緩衝性、断熱性、軽量性、防音性に優れるアクリル系発泡シート、及び該アクリル系発泡シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のアクリル系発泡シートは、アクリル系樹脂から構成されたアクリル系発泡シートであって、構成するセルにおいて、セル長径が５００μｍ以下のセルの割合が８０％以上を占め、且つ発泡倍率が３倍以上であって、厚みが０．５〜５ｍｍであり、シートの厚さ方向に縦長の異方性セル構造を有することを特徴とする。前記アクリル系発泡シートでは、異方性セル構造が独立気泡構造であり、厚さ方向の切断面での異方性セル構造の平均セル長径Ｌと平均セル短径Ｓとの比（Ｌ／Ｓ）が１．１〜３．０であることが好ましい。 （もっと読む）

表面ダイレクタ配向膜に使用されるためのポリマーが提供され、
該ポリマーはマレイミド及び／又はその誘導体及びＮ−ビニルラクタム及び／又はその誘導体を含むコポリマーでなり、
該繰返し単位の少なくとも一部はペンダント側鎖で官能基化されるところのポリマー。本発明のポリマーは液晶デバイスの配向膜材料に、又は−として使用されるのに適している。
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【課題】記録層表面に付着した水分、塩分の影響、特に、手指接触領域における画像故障の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｅ）の各成分を含有する画像記録層を備えるネガ型平版印刷版原版。（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、（Ｄ）赤外線吸収剤及び（Ｅ）下記一般式（１）で表されるモノマーと、エチレンオキシド鎖及びプロピレンオキシド鎖を有するモノマーとを共重合成分として含む共重合体。一般式（１）中、Ｒｆは、フッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキル基を含む置換基であり、ｘは１または２を表し、Ｒ¹は水素またはメチル基を表す。
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