表面ダイレクタ配向膜に使用されるためのポリマーが提供され、
該ポリマーはマレイミド及び／又はその誘導体及びＮ−ビニルラクタム及び／又はその誘導体を含むコポリマーでなり、
該繰返し単位の少なくとも一部はペンダント側鎖で官能基化されるところのポリマー。本発明のポリマーは液晶デバイスの配向膜材料に、又は−として使用されるのに適している。
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【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含むアクリル酸エステル構成単位及び／又はメタクリル酸エステル構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）及び／又は酸解離性溶解抑制基を含むメタクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１’）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、高分子化合物（Ａ１）中の、該アクリル酸エステルから誘導される構成単位の割合が１５〜８０モル％であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖の末端に「−ＳＯ_２−を含む環式基」を含有する構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）と、酸発生剤成分（Ｂ）と、フッ素原子を有していてもよい酸解離性溶解抑制基含有基を含み、かつ少なくとも１つのフッ素原子が含まれる構成単位（ｆ１）を有する含フッ素樹脂成分とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、芳香族基を有する構成単位（ａ０）、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】１７０nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にＦ₂ エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式（Ｉ）


（式中、Ｑは水素又はメチルを表し、Ｒ¹は少なくとも１個のフッ素で置換された水酸基を有する炭素数１〜１４のフルオロアルキルを表す。）で示されるモノマーから導かれる重合単位を有するバインダー樹脂である化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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本発明は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）から誘導された繰り返し単位と、ＴＦＥ、パーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）およびＥＶＥから誘導された合計繰り返し単位に対して２〜１７モル％の量のパーフルオロエチルビニルエーテル（ＥＶＥ）から誘導された繰り返し単位と、ＴＦＥ、パーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）およびＥＶＥから誘導された合計繰り返し単位に対して２３〜３５モル％の量のパーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）から誘導された繰り返し単位とを含む過酸化物硬化性パーフルオロエラストマー、その製造方法および硬化物品の製造のためのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層に防汚機能を付与し、基材との高い密着性を有するとともに、優れた耐カール性、耐擦傷性、表面硬度を付与でき、汚れの除去が簡便にでき、その特性が劣化することなく常に視認性の高いハードコート層を形成できるハードコート層形成用組成物およびハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】多官能（メタ）アクリルモノマー（Ａ）と、水酸基を有する（メタ）アクリルモノマー（Ｂ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、重合性基を有する含フッ素化合物（Ｄ）と、溶剤（Ｅ）とを含み、溶剤（Ｅ）の沸点が５０〜１２０℃であるハードコート層形成用組成物。透明基材上に、該組成物を硬化したハードコート層を有し、ハードコート層表面の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下であり、膜厚が５〜２５μｍであるハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足し、更に露光時のアウトガスの問題がない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び、該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に用いられる樹脂を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有し、該イオン性構造部位のカチオンが特定のスルホニウム構造を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び、該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物に用いられる樹脂。 （もっと読む）

【課題】 指紋が付着しづらい性能を有する光ディスクの最外層を形成可能な紫外線硬化型組成物及び光ディスクを提供する。
【解決手段】
アルキル基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を含有するフッ素含有（メタ）アクリレートと、アルキレンオキサイド基を有する（メタ）アクリレート化合物とを共重合した、重量平均分子量が２，０００〜１００，０００のフッ素含有アクリル共重合体を使用することにより、当該フッ素系アクリル共重合体が紫外線硬化型組成物中に好適に相溶して塗膜の表面ないしその近傍に好適に偏在し、優れた耐指紋付着性を実現できる。 （もっと読む）

【課題】高温で長時間の処理を行わないで架橋され、表面接着性に優れた絶縁層を形成可能な有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ウレア結合もしくはウレタン結合を介して結合した感光性基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、（Ｂ）硬化剤と、（Ｃ）有機溶剤とを含有することを特徴とする有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物である。有機薄膜トランジスタ絶縁層用樹脂組成物をオーバーコート層に用いることを特徴とした有機薄膜トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤に対する溶解性に優れ、重合後の液晶性及び透明性が良好であり、また耐熱性や配向制御に優れ、得られる光学異方体の薄膜化が可能な重合性液晶組成物を提供すること。
【解決手段】重合性液晶組成物として、例えば下式で示される反応式で得られる重合性液晶化合物の一種以上及び、例えば、アクリロイル基を有する安息香酸エステルとアクリロイル基を有するフェノールとのエステル化反応により製造することができる重合性液晶化合物の一種以上を併用する。
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本発明は、光反応性ノルボルネン系単量体を含む光反応性ノルボルネン系重合体、その製造方法及びこれを利用した配向膜に関する。前記光反応性ノルボルネン系重合体は、ハロゲン系、特にフッ素系置換基を有する光反応性作用基を含んでおり、配向膜内の組成斜面を与え、配向速度、配向性、及び接着性を向上させることができる。
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【課題】 二次電池電極用組成物の配合安定性に優れ、該組成物を集電体に塗布した際の耐ブロッキング性、耐粉落ち適性、結着力に優れた二次電池電極用バインダーの提供。
【解決手段】 フッ素含有不飽和単量体０．０２〜１３重量％、脂肪族共役ジエン系単量体１０〜３８重量％、エチレン系不飽和カルボン酸単量体０．１〜１０重量％およびこれらと共重合可能な他の単量体４９〜８８．８８重量％から構成される単量体を乳化重合して得られた共重合体ラテックスからなる二次電池電極用バインダーおよび該二次電池電極用バインダーと二次電池電極用活物質を主として含有する二次電池電極用組成物。 （もっと読む）

式（Ｉ）
Ｒ_fＣＨ₂ＯＣＦ（ＣＦ₃）Ｃ（Ｏ）ＯＭ （Ｉ）
を有するフルオロ界面活性剤と開始剤とを含む水性媒質中で少なくとも１つのフッ素化モノマーを重合するステップを含む方法において、式中Ｒ_fは、２〜５個の炭素原子を有する線状または分岐ペルフルオロアルキル基であり、ＭはＨ、ＮＨ₄、Ｌｉ、ＮａまたはＫである、方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト重合体を提供する。
【解決手段】式ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（Ｘ^Ａ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａ）（ＣＨ_２）_ｎａＣＲ^Ａ＝ＣＨＲ^Ａで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含むレジスト重合体（ただし、Ｘ^Ａは水素原子、シアノ基または式−Ｃ（Ｏ）ＯＺ^Ａで表される基を示し、Ｚ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ^Ａは水素原子または炭素数１〜２０の１価有機基であって、２個のＲ^Ａは同一であってもよく異なっていてもよい。）。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第３級炭素原子である置換基を有する２価の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有する。 （もっと読む）

【課題】物品の表面に充分な撥水性を付与でき、かつ環境負荷が低い化合物、その製造方法および撥水剤組成物を提供する。
【解決手段】下記化合物（ｘ）の存在下、下記単量体（ａ）を含む単量体混合物を重合して得られた水酸基またはアミノ基を有するオリゴマー（Ａ）と、イソシアネート基を２つ以上有する化合物（Ｂ）とを反応させて得られた化合物；該化合物を含む撥水剤組成物。化合物（ｘ）：水酸基またはアミノ基を有するチオール化合物。単量体（ａ）：ポリフルオロアルキル基を有さず、炭素数が２０〜３０のアルキル基を有する（メタ）アクリレート。 （もっと読む）

【解決手段】(Ａ)一般式(１)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、(Ｂ)ラクトン環及び／又は水酸基及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(Ｃ)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(Ｄ)有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂構造の選択により液浸リソグラフィーにおける各種性能の調整が可能で、入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
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