【課題】液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プリント配線基板などを製造するために用いられるインクジェット用インクにおいて、難燃性、密着性、耐薬品性、耐熱性、弾性等のバランスのとれた硬化膜を形成することが容易な重合体組成物を与える難燃剤、上記特性バランスに優れた難燃性の重合体組成物を提供する。
【解決手段】例示すれば、下記式（12）、または(16）の構造を有する難燃剤。




（式中、R６はC2〜12のアルキレン基であり、tは1〜30の整数である。） （もっと読む）

本発明は、ダングリングポリシロキサン含有ポリマー鎖を含有する新規なクラスのシリコーン含有プレポリマーを提供する。このクラスのシリコーン含有プレポリマーは、化学線により架橋されて、比較的高い酸素透過性、低減した弾性率、及び比較的高いイオン透過性を有するシリコーンヒドロゲル材料を形成する。本発明は、このクラスのシリコーン含有プレポリマーから製造されるシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズ、及びそのシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズ製造方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】記録層の作成時に、溶媒への溶解及び乾燥工程を必要としないホログラム記録材料用樹脂、及び本樹脂を用いたホログラム記録媒体を提供することにある。
【解決手段】下記式（１）：
【化１】


［式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である］
で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有することを特徴とするホログラム記録材料用樹脂、ならびに記録層が、該樹脂を形成させて得られるホログラム記録媒体。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（ａ０−１）で表される構成単位を有する高分子化合物［式（ａ０−１）中、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、若しくはアルコキシ基、または結合して任意の位置に酸素原子若しくは硫黄原子を含んでもよいアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表わす］。
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【課題】導電性表面との接着性を向上させた置換ポリアセチレンおよび前記置換ポリアセチレン用いたデバイス構造を提供する。
【解決手段】置換または未置換のポリアセチレンの少なくとも一つの高分子末端に、金属、金属酸化物または合金の表面と結合可能な有機官能基を有する置換ポリアセチレン、および該置換ポリアセチレンと、独立した二つ以上の電極を有するデバイス構造。主鎖が周期的な螺旋構造を有する螺旋型置換ポリアセチレンである。有機官能基がチオール基、スルフィド基、ジスルフィド基、チオアセチル基、イソシアニド基、カルボン酸基もしくはリン酸基から選ばれた少なくとも一種からなる。 （もっと読む）

【課題】硬化性を低下させずに流動性、耐半田リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）アクリル化合物を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料において、（Ｃ）アクリル化合物が、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示される化合物を重合して得られるアクリル化合物である封止用エポキシ樹脂成形材料。
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【課題】十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、かつ、層間絶縁膜、マイクロレンズとして必要な耐熱性、耐溶剤性、透明性、下地との密着性を備えた硬化物を与えうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタンと他のオレフィン系不飽和化合物との共重合体、１，２−キノンジアジド化合物、ならびにエポキシ基含有化合物および／または他のオキセタニル基含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性とポットライフが両立する紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物の提供。
【解決手段】ポリシロキサン結合と反応性シリル基を有するモノマー（Ａ１）、紫外線吸収性基を有するモノマー（Ｂ）および炭素数６以上のアルキル基を有するモノマー（Ｃ１）を必須的に含むモノマー混合物（Ｄ１）から合成されるポリマーか、（Ａ１）に変えて、分子中にＳｉ原子を１個のみ有し、かつ、炭素原子に直結する反応性シリル基を有するモノマー（Ａ２）を用いたモノマー混合物（Ｄ２）から合成されるポリマーに対し、有機シラン化合物を反応させて得られる変性ポリマーを含有する紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 耐寒性を損なわずに、長期熱老化後の伸び変化率の小さいアクリルゴム架橋物を与えるアクリルゴム及びアクリルゴム組成物を提供すること。
【解決手段】 メタクリル酸アルキルエステル単位（Ａ）２〜８重量％、アクリル酸アルキルエステル単位（Ｂ）及び／又はアクリル酸アルコキシアルキルエステル単位（Ｃ）８７〜９７．５重量％、並びに、カルボキシ基含有α、β−エチレン性不飽和単量体単位（Ｄ）０．５〜５重量％からなるアクリルゴムが提供される。また、前記アクリルゴムに架橋剤を含有してなるアクリルゴム組成物、およびそれを架橋してなるアクリルゴム架橋物が提供される。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位と、特定の構造を有するアクリル系単量体が重合してなるモノマー単位に由来する単位と、を有する含フッ素共重合体。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂ＣＨ（Ｃ（ＣＦ₃）₂（ＯＲ³））（ＣＨ₂）_nＣＲ¹＝ＣＨＲ²・・（１） （もっと読む）

【課題】加熱等により揮発性有機物が多量に発生することのないポリビニルアセタール樹脂を提供すること。
【解決手段】ポリビニルアルコールとアルデヒドを酸性触媒存在下でアセタール化反応して得られるポリビニルアセタール樹脂であって、前記アセタール化反応の反応物をろ過することでろ物を得て、該ろ物に水を加えてスラリーとし、該スラリーを、ポリビニルアセタール樹脂のガラス転移温度から±５℃の範囲で、６０〜１２０分間加熱処理することより得られる、１００℃で１時間加熱したときに発生する揮発性有機物の含有量が１０ｐｐｍ以下であるポリビニルアセタール樹脂とすること。 （もっと読む）

【課題】硬度及び耐熱性等に優れ、更に光学特性にも優れる重合体が得られる重合性化合物及び重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性化合物。


（式中、Ｘ¹〜Ｘ³は、各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｙは、−ＣＯＲ、−ＣＯＯＲ又は−ＯＣＯＲ等を表し、Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は６員環を表し、環Ａ及び環Ｂは、縮合環又は６員環の環構造を表し、少なくとも一つは縮合環であり、Ｌ¹〜Ｌ³は、各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−等を表す。 （もっと読む）

【課題】多孔性線状ポリマー組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の線状混合極性ポリマー粒子を含む多孔性ポリマー組成物であって、前記粒子が、線状ポリ［（非極性オレフィン）−（極性オレフィン）］および少なくとも１つの孔を含むものが開示され、またさらに触媒成分も含む粒子も開示される。複数の線状混合極性ポリマー粒子を形成する方法も開示される。重合を触媒するための触媒成分を含む複数の線状混合極性ポリマー粒子を使用する方法がさらに開示される。複数の線状非極性ポリマー粒子および触媒成分を含む多孔性ポリマー組成物が、触媒成分を含む線状非極性ポリマー粒子の製造方法および重合を触媒するためにこれらを使用する方法とともに開示される。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における、高解像性、高感度、パターン形成後の現像欠陥を低減させることで、歩留まりを向上させることが可能なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物において、（Ｃ）溶剤として（Ｃ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート及び、（Ｃ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、鎖状ケトン及び、環状ケトンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】シリカ及びカーボンブラックとの相互作用を高め、破壊特性、耐摩耗性、低発熱性を向上させ、かつ、良好な作業性を発揮し得るシリカ及び／又はカーボンブラック配合のゴム組成物及びそれを用いたタイヤを与えること。
【解決手段】有機金属型の活性部位を分子中に有する重合体の該活性部位にヒドロカルビルオキシシラン化合物を反応させて得られた変性重合体に、配合時に縮合促進剤を添加してなるゴム組成物であって、該ヒドロカルビルオキシシラン化合物が特定のものからなることを特徴とするゴム組成物及びそれを用いたタイヤである。 （もっと読む）

【課題】反応性成分だけからなる実質的に揮発成分（有機溶媒、水）を含まず塗料、粘着剤、接着剤に有用な新規アクリル共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】重合媒体および反応性希釈剤として、下記構造式のオキセタン化合物を含み、


脂環式エポキシ基含有アクリル単量体を含むアクリル単量体をラジカル共重合するアクリル共重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を維持したまま良好なラインエッジラフネスを与える化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であって、酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに特定構造で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有する樹脂を含有し、さらに、特定構造で表される酸発生剤を少なくとも２種以上含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光波長、特に２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によってアルカリ可溶性となる単量体を６０モル％を超えて含有する樹脂と感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布してフォトレジスト膜を形成し、単量体を含有するアルカリ可溶樹脂を含有する上層膜形成組成物を前記フォトレジスト膜に塗布して上層膜を形成し、前記上層膜とレンズとの間に液浸媒体を配置して、前記液浸媒体と所定のパターンを有するマスクとを介して前記フォトレジスト膜及び前記上層膜に露光光を照射し、次いで現像することによってレジストパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】形成したパターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】１）開始剤と２）バインダーと３）エチレン性不飽和化合物とを含む樹脂組成物であって、（ａ）フッ素原子を３つ以上有する繰り返し単位と（ｂ）下記一般式（Ｂ）で表される繰り返し単位とを有する含フッ素化合物とを更に含む樹脂組成物とする。


一般式（Ｂ）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｌ^２１は単結合又は２価の有機連結基を表し、Ｘは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を表し、Ｙはアリーレン基、２価のヘテロ環残基又はカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）はヒドロキシナフタレン（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）を有し、さらに架橋性ポリビニルエーテル化合物（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）