【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)および（２）で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位（３）をそれぞれ１種類以上含むことを特徴とする重合体（Ａ）、ならびに感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】高感度のレジスト膜を形成でき、レジスト組成物を調製する際の溶媒への溶解性に優れた重合体を提供する。
【解決手段】ラジカル重合で得られる重合体（Ｐ）であって、該重合体をゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した際に、下記式（１）を満足する重合体。Ｐ［α_Ａ］／Ｐ［α_Ｂ］≦０．７…（１）（式（１）において、Ｐ［α_Ａ］は重合体（Ｐ）をゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって測定した際のポリマーピーク全面積に対するピークスタート分子量からピークトップ分子量までのピーク面積比を表し、Ｐ［α_Ｂ］は重合体（Ｐ）をゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって測定した際のポリマーピーク全面積に対するピークトップ分子量からピークエンド分子量までのピーク面積比を表す。） （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^５は置換基を有していてもよい炭化水素基である。］で表される化合物（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、パターン形状、感度及び解像度が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、ラクトン構造を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位とを含有する樹脂（Ａ）、酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、式（III）で表される繰り返し単位とを含有する樹脂（Ｂ）、及び、露光により酸を発生する酸発生剤、を含有するフォトレジスト組成物。
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【課題】優れたリソグラフィー特性および耐熱性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキソカルボニル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリレート単位（ａ１）と、側鎖に１−アダマンチル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ３）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、該高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位（ａ３）の割合が、１〜３０モル％の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

接着テープ、この接着テープを含有する物品、この接着テープを作製する方法、及びこの接着テープの用途について説明する。接着テープは引き伸ばし剥離可能であり、２つの基材を１つに連結するために用いることができる。接着テープは容易に取り外され、任意の理由により２つの基材を分離することができる。接着テープは、裏材層と、裏材層に隣接する少なくとも１つの感圧性接着剤層と、を含む。裏材層は、第１のアクリルコポリマーを含む。各感圧性接着剤層は、第２のアクリルコポリマーと、第２のアクリルコポリマーに分散又は懸濁される無機粒子と、を含む。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２３℃における水への溶解度が０．１％以下である酸発生剤と、樹脂とを含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は少なくとも下記３成分の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）を含有し、かつ前記有機溶剤（Ｓ）中の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）の割合が、前記（Ｓ）成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、５０〜９０質量％の範囲、５〜４０質量％の範囲、０．１〜１５質量％の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に酸不安定基を有する繰り返し単位を有し、酸不安定基の脱離によりアルカリ性現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物でレジスト膜を形成する工程、該膜に高エネルギー線の繰り返し密集パターンを露光し、未露光部を露光、加熱し、発生酸を樹脂の酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応させた後、現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光又は加熱して、樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋を形成させてポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成工程、上記架橋形成ポジ型パターンを溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたレジストパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターン上に反転用膜を成膜し、パターンにダメージを与えずにポジ型パターンの間隙に反転用膜形成用材料を埋め込められ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行える。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】



（式中、Ｒ¹は重合性二重結合含有基、Ｒ²はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ³及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ¹は連結基を表す。） （もっと読む）

比誘電率が４．５より大きい接着性ポリマーを提供する。このようなポリマーは、シアノ基および／またはニトロ基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を少なくとも４５重量％含有する、モノマー混合物から得ることができる。このポリマーは、同様に比誘電率が４．５より大きい接着剤のベースポリマーとして使用され、接着性エレクトロルミネッセンス材料の粒子状発光物質のマトリックスとしても使用される。このようなエレクトロルミネッセンス材料で、実装高さの低いエレクトロルミネッセンス装置が得られ、これは非常に高輝度であるだけでなく特に長寿命である。さらに、接着剤またはエレクトロルミネッセンス材料を含む接着性面状部材を提供する。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラック媒体の磁気記録層表面に形成された紫外線硬化性樹脂層と該樹脂層に凹凸パターンを転写するためのスタンパとの貼り合わせ及び剥離を容易とし、スタンパの寿命を向上する。
【解決手段】使用される紫外線硬化性樹脂材料が下記式（１）で表されるモノマーを含有し、スタンパとして樹脂スタンパ３を使用し、かつ磁気記録層７表面と樹脂スタンパ３の凹凸パターン面との貼り合わせを真空下で行う。
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【課題】ラジカル重合性不飽和単量体の効率的なリビングラジカル重合ができるラジカル重合性オリゴマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】分子中に下記構造式で示される化学構造


（ここで、ｐは１〜２００の整数、Ｘはニトリル基、フェニル基およびその誘導体、ピロリドン基、アクリル酸基またはアクリルアミド基で示される化学構造、Ｙは重合開始剤の遊離基、Ｚはα−メチルスチレンダイマーの遊離基を表す。）を含むラジカル重合性オリゴマー。 （もっと読む）

【課題】高屈折性、低分散性（高アッベ数）、耐熱性を有する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】波長５８９ｎｍにおける屈折率ｎＤが１．３７以上であり、アッベ数νＤがνＤ≧６３およびνＤ≧４３０−２５０×ｎＤを満たし、ガラス転移温度が１００℃以上である光学材料用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^０は、２価のＣ_１-17飽和炭化水素基を表す。Ｙ^１は、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^２は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−を表す。ｋは、１〜８の整数を表す。Ｙ^２は、炭素数４〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】現像時、アルカリ現像液に対して均一に溶解するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法により得られるフォトレジスト用高分子化合物、及びそれを含むフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、ラジカル重合することにより半導体素子製造向けフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法において、内部に静的攪拌器を内蔵した管状反応器を用い、有機溶媒中に前記２種以上の重合性化合物を含有する混合溶液を連続的に通して重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法で得られるフォトレジスト用高分子化合物、並びにフォトレジスト用高分子化合物を含むフォトレジスト用組成物である。 （もっと読む）

【課題】着色材料を含有しても、高感度であり、硬度も高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、
光重合性化合物（Ｂ）、
光重合開始剤（Ｃ）、
着色材料（Ｄ）および
溶剤（Ｅ）を含有する着色感光性樹脂組成物において、
バインダー樹脂（Ａ）が、下記（Ａ１）〜（Ａ３）を共重合させて得られる共重合体に、さらに（Ａ４）を反応させて得られる不飽和基含有樹脂であり、
かつ光重合開始剤（Ｃ）が、オキシム化合物を含む光重合開始剤であることを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
（Ａ１）；一分子中にトリシクロデカン骨格およびトリシクロデセン骨格からなる群から選ばれる少なくとも１種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
（Ａ２）；（Ａ１）および（Ａ３）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ａ３）；不飽和カルボン酸
（Ａ４）；一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物 （もっと読む）