Ａ）有機相変化物質と、Ｂ）水不溶性ポリマーマトリックスであって、Ｂ１）ポリマー材料であって、ｉ）少なくとも１種の疎水性のエチレン性不飽和モノマー、及びｉｉ）ペンダント官能基を有するポリマー材料を提供する少なくとも１種の親水性のエチレン性不飽和モノマーから形成される繰り返しモノマー単位を含有するポリマー材料、及びＢ２）ポリマー材料の前記ペンダント官能基と反応した架橋化合物から誘導される架橋成分を含む、水不溶性ポリマーマトリックスと、を含む粒状組成物であって、前記有機相変化物質（Ａ）が分離相として前記水不溶性ポリマーマトリックス（Ｂ）全体に分散される、前記粒状組成物。本発明は更に、粒状組成物を提供する方法であって、１）溶解したポリマー材料を含有する水相を提供する工程であって、前記ポリマー材料が、ｉ）少なくとも１種の疎水性のエチレン性不飽和モノマー、及びｉｉ）ペンダント官能基を有するポリマー材料を提供する、少なくとも１種の親水性のエチレン性不飽和モノマーの繰り返しモノマー単位を含有する、前記工程、２）有機相変化物質を水相中に乳化して有機相変化物質の分散相及び連続的な水相を含む水中油型エマルションを形成する工程、３）架橋化合物を導入する工程、４）水中油型エマルションを噴霧乾燥にかけて水を蒸発させ且つ粒状組成物を形成する工程を利用する、前記方法に関する。粒状組成物は、多様な熱エネルギーの調節又は蓄積用途、例えば、織物、発泡体、建築物及び電気機器に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】十分な透過率を有する塗膜を形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）及び感光物質（Ｃ）を含有し、感光性樹脂組成物に対する水分量が、０．１５〜０．４５質量％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及びこれに用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する
【解決手段】（ア）架橋反応によりネガ化する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）ヒドロキシスチレンに由来する繰り返し単位を含有しない樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】瞬間接着性を維持しつつ、耐熱プラスチックや金属等に対して１５０℃以上の耐熱性を発現し、かつ、貯蔵安定性に優れる２−シアノアクリレート系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２−シアノアクリレート及び（Ｂ）ヒドロキシル基を有する多官能（メタ）アクリレートを含む多官能（メタ）アクリレートを含有する２−シアノアクリレート系組成物であって、前記多官能（メタ）アクリレートのヒドロキシル価が１〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ、前記多官能（メタ）アクリレートの含有量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量に対して４０〜６０質量％であることを特徴とする２−シアノアクリレート系組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレン構成単位と、アセタールまたはケタール型酸解離性基を有するヒドロキシスチレン構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル構成単位とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ²は酸不安定基を示す。Ｒ³は水素原子又はＣＯ₂ＣＨ₃を示す。）
【効果】微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において高いマスク忠実性を有し、ライン幅ラフネスの極めて小さいパターンを与えることができ、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】高感度で、かつ、スペーサー形成後の密着性に優れたスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。また、本発明は、基板との密着性に優れたスペーサー及びその製造方法、並びに該スペーサーを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸性基を有する樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、並びに（Ｃ）下記一般式（１）で表されるオキシムエステル化合物を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。


〔一般式（１）中、Ｒ及びＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】狭分散で、分子量が制御された多分岐ポリマーを提供する。
【解決手段】多分岐ポリマーは、式（ＩＩＩ）で表される構造を有する。式中、Ｃは炭素原子を表し、Ｘ^４及びＸ^５は、周期表第１４族〜１６族のいずれかの原子を含む連結基を表し、Ｙ^４は活性ハロゲン原子を有する官能基を表し、Ｒ^１４は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ハロゲン原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシル基を表し、ｎ^７、ｎ^８は、それぞれ独立して０又は１以上の整数を表す。ｍ^３は３又は４を表し、式：−（Ｘ^４）ｎ^７−Ｙ^４−Ｑ^４で表される基同士は、同一であっても相異なっていてもよい。Ｑ^４は、重合性不飽和結合により誘導される繰り返し単位を有するアーム部を表す。
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【課題】ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、粗密バイアスにも優れ、保存安定性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記酸発生剤（Ｂ）が下記一般式（Ｉ）で示される化合物であり、前記溶剤（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを全溶剤に対して５０〜９０質量％含有する感放射線性樹脂組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｍ^＋はスルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】レジスト用成分の溶解性に優れるとともに、高解像性で、かつ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む酸発生剤成分とを、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤を含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物。式（ｂ１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、−Ｏ−Ｒ^７０（Ｒ^７０は有機基）で表される基で置換された置換アリール基である。Ｒ^７”〜Ｒ^９”のいずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよい。Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^１は酸素原子を含む２価の連結基、Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。
［化１］
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【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＣＯＯ⁻構造を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも下記式（ａ−１）で表される繰り返し単位を有する重合体、並びに（Ｂ）酸発生剤、（Ｄ）有機溶剤を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
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【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤またはその前駆体として有用な新規な化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^Ｘはヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり；Ｒ^１は２価の連結基であり；Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり；ｎは１〜３の整数であり；Ｚはｎ価の有機カチオン（ただし、アミンイオンおよび第４級アンモニウムイオンを除く。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】
電子情報分野の部材を形成するレジスト用のバインダー樹脂として好適な、感光性、アルカリに対する現像速度、耐溶剤性能やパターン形状、密着性に優れた新規な共重合体を提供する。また、該樹脂を含む感光性樹脂組成物を用いて高品質のカラーフィルター部位を歩留まりよく形成する。
【解決手段】
イタコン酸とアクリル酸エステルモノマーを含むモノマーを共重合して得られる共重合体をバインダー樹脂として用いる。また、該樹脂、ラジカル重合性化合物、光開始剤、及び溶剤を必須成分として含む感光性樹脂組成物を、カラーフィルター用レジストとして用いる。 （もっと読む）

【課題】 金属成分、特にナトリウム及び鉄含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体（ａ）、ラクトン骨格を含む単量体（ｂ）、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体（ｃ）から選択された少なくとも１種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含む。カチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液するポリマー溶液中の金属含有量は、ポリマーに対して１０００重量ｐｐｂ以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、液浸媒体に対する接触角が７０°以上と大きく、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を用いる。
【解決手段】液浸上層膜用共重合体がカルボキシル基を有する繰返し単位を、全繰返し単位の２０〜６０モル％含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、また、フッ素原子を含む基をその側鎖に有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られ、さらに、水酸基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合して得られる上層膜組成物を用いてパターン形成する。 （もっと読む）

【課題】良好な感度などを有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂、下記一般式：Ｍ^＋Ｚ⁻（Ｍ^＋はオニウムカチオン、Ｚ⁻は下記一般式（１−１）または（１−２）で表されるアニオン）で表される感放射線性酸発生剤、及び下記一般式（ｃ１）で表される化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


（Ｒ^１〜Ｒ^５はフッ素原子置換の炭素数１〜２０のアルキル基など、Ａは単結合など、Ｒ^６及びＲ^７は炭素数１〜２５の炭化水素基などである） （もっと読む）

【課題】ナノインプリント方法において、レジスト膜のはがれが生じ難い形状転写層を形成することができるナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】２５℃、１ａｔｍの条件下において、光又は熱により気体を発生する気体発生剤（Ａ）と、第二の反応性基を有し、光及び熱に対して安定な化合物（Ｂ）と、を含有するナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】支持体への塗布性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを含み（ただし、１−ブトキシ−２−プロパノールと２−ブトキシ−１−プロパノールとを混合して調製されたものを除く）、かつ、前記２−ブトキシ−１−プロパノールの割合が、前記１−ブトキシ−２−プロパノール１００質量部に対して１．５質量部以上であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）